薄膜沉积技术可以分为化学气相沉积

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薄膜沉积技术可以分为化学气相沉积

: 薄膜沉积技术可以分为化学气相沉积（CVD）和物理气相沉积（PVD） 薄膜沉积技术可以分为化学气相沉积（CVD）和物理气相沉积（PVD）。对于CVD工艺，这包括原子层沉积（ALD）和等离子体增强化学气相沉积（PECVD）。PVD沉积技术包括溅射，电子束和热蒸发。CVD工艺包括使用等离子体将源...
评级：0 浏览量：2085 收藏量：2 资源大小：1.47MB 上传时间：2021-01-07

: 等离子体增强化学气相沉积-PECVD 用于制造微电子器件的薄膜都是使用某种沉积技术形成的，该术语是指在基板上形成沉积物。在半导体器件制造中，以下沉积技术（及其常用的缩写）为：
评级：0 浏览量：382 收藏量：0 资源大小：721KB 上传时间：2021-01-06

: 化学气相沉积光学级金刚石薄膜的研究进展 化学气相沉积(CVD)金刚石薄膜优异的光学性能在近几年得到了广泛的重视,关于它的研究也在近几年取得了较大的突破。综述了CVD金刚石薄膜的光学性能,着重从成核、生长和后期处理三个方面对光学级CVD金刚石薄膜的制备...
评级：0 浏览量：92 收藏量：0 资源大小：262KB 上传时间：2021-02-11

: TF DCVD introduction process(化学气相沉积工艺介绍） .ppt TF DCVD introduction process(化学气相沉积工艺介绍），适合从事半导体制造工艺工程师和工艺集成工程师学些
评级：0 浏览量：127 收藏量：0 资源大小：2.73MB 上传时间：2021-10-31

: 激光化学气相沉积法制备TiO2薄膜利用激光化学气相沉积(LCVD)方法，以钛金属有机化合物为前驱体，以O2为反应气体，在激光功率PL为0～200 W、基板预热温度为400～700℃的条件下，制备出了金红石型TiO2薄膜和金红石型与锐钛矿型混合TiO2薄膜。...
评级：0 浏览量：57 收藏量：0 资源大小：1.9MB 上传时间：2021-03-05

: 论文研究 - 气敏应用金属有机化学气相沉积铬掺杂氧化锌薄膜的合成与表征掺杂铬（Cr）的氧化锌ZnO薄膜通过金属有机化学气相沉积（MOCVD）技术在420°C的温度下以不同的掺杂剂浓度沉积在玻璃基板上。研究了铬浓度对薄膜的形态，结构，光学，电学和气敏性能的影响。扫描电子显微镜结果表明...
评级：0 浏览量：107 收藏量：0 资源大小：5.47MB 上传时间：2020-05-25

: 激光化学气相沉积非晶硅本文报道了CO2激光化学气相沉积非晶硅的实验研究。实验结果表明,非晶硅的沉积速率与气室气压和基片温度密切相关。用各种手段测试了样品的性质,证实沉积得到的薄膜确是非晶硅,而且具有良好的光电导性。
评级：0 浏览量：51 收藏量：0 资源大小：4.3MB 上传时间：2021-02-06

: 分子吸收光谱在半导体薄膜化学气相沉积中的应用在化学气相沉积(CVD)生长半导体薄膜过程中,反应前体的浓度测量对于了解反应机理至关重要。紫外-可见吸收光谱和红外光谱是测量半导体薄膜CVD生长中分子浓度的主要工具,特别是可以实现气体浓度的原位测量。本文介绍了...
评级：0 浏览量：82 收藏量：0 资源大小：1.49MB 上传时间：2021-05-01

: 纳米化学气相沉积金刚石的拉曼光谱拉曼光谱是研究化学气相沉积（CVD）金刚石最有效的手段之一。对不同晶粒尺寸的CVD金刚石膜进行了拉曼光谱分析。紫外拉曼光谱的检验表明，紫外光激发的拉曼光谱有效抑制了sp2碳的散射和荧光背景；1140 cm-1峰出现在...
评级：0 浏览量：115 收藏量：0 资源大小：4.31MB 上传时间：2021-02-25

: 常压化学气相沉积技术生长ZnO∶H薄膜的光学性质采用常压金属有机物化学气相沉积技术(APMOCVD),以二乙基锌(DEZn)为Zn源,去离子水(H2O)为氧源,N2作载气,在外延ZnO薄膜的反应气氛中通入少量氢气,在cAl2O3衬底上生长出了ZnO∶H薄膜。用X射线双晶衍射和光致发光谱...
评级：0 浏览量：87 收藏量：0 资源大小：402KB 上传时间：2021-02-11

: 高介电栅介质材料铝酸镧 (LaAlO 3 )薄膜的金属有机化学气相沉积... 本文采用低压金属有机化学气相沉积（MOCVD）方法制备了介电常数较高、热稳定性好的铝酸镧(LaAlO 3 )薄膜，对其结构、组分、电学性能，界面结构的研究表明：铝酸镧是下一代金属氧化物半导体场效应管（MOSFET）用高...
评级：0 浏览量：180 收藏量：0 资源大小：252KB 上传时间：2020-12-09

: 化学气相沉积GaN半导体薄膜的研究.pdf 化学气相沉积GaN半导体薄膜的研究.pdf
评级：0 浏览量：50 收藏量：0 资源大小：231KB 上传时间：2021-08-29

: 微波等离子体化学气相沉积金刚石薄膜的制备微波等离子体化学气相沉积金刚石薄膜的制备，田浩希，赵约瑟，在爆炸法得到的钠米金刚石微粉上，用无水酒精与丙酮溶液混合，得到需要电镀的电镀溶液然后在铜片上电镀处理后利用微波等离子体化
评级：0 浏览量：161 收藏量：0 资源大小：299KB 上传时间：2020-02-24

: 激光预热基片化学气相沉积硅薄膜 Silane was deposited into silicon films on the substrates by first preheating the quartz substrates with laser, and then admitting the hybrid of silane gas and H3 gas into the reaction chamber....
评级：0 浏览量：59 收藏量：0 资源大小：981KB 上传时间：2021-02-06

: 电源技术中的应用材料公司推出等离子体强化化学气相沉积系统近日，应用材料公司宣布推出Applied Producer:registered: Celera:trade_mark: PECVD(等离子体强化化学气相沉积) 系统，它能实现在45纳米及更小技术节点的器件上生产速度更快的晶体管所需要达到的应力水平，是应力...
评级：0 浏览量：136 收藏量：0 资源大小：64KB 上传时间：2020-12-06

: 半导体薄膜技术与物理_第三章 化学气相沉积.ppt 半导体薄膜技术与物理_第三章 化学气相沉积.ppt
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: 用气相化学沉积法制备光学薄膜用气相化学沉积法制备薄膜的过程，包括薄膜制备工艺本身和制备高纯度易挥发的原始材料(有机化合物，氢化物和卤化物）以及有关化学动力学和催化剂等理论问题的研究。对气相化学沉积法的巨大兴趣是用来制备光学参数较...
评级：0 浏览量：58 收藏量：0 资源大小：3.51MB 上传时间：2021-02-25

: 玻璃陶瓷基板上铜薄膜的化学气相沉积 (2003年) 采用乙酰丙酮铜作为前驱体,在常压下利用化学气相沉积技术对玻璃陶瓷基板进行 Cu薄膜金属化。利用热重分析、X射线衍射和扫描电子显微镜等技术对前驱体、Cu薄膜进行分析观察。结果表明:影响 Cu导体的电阻的主要因素是...
评级：0 浏览量：48 收藏量：0 资源大小：620KB 上传时间：2021-05-09

: 射频感应耦合化学气相沉积类金刚石薄膜的摩擦性能研究采用射频感应耦合离子源(ICP)在硅基底上沉积了DLC薄膜,通过原子力显微镜(AFM)和拉曼光谱对DLC薄膜的表面形貌及结构进行了分析表征,用UTM-2摩擦磨损试验仪对薄膜的摩擦学性能进行了测试。结果表明,利用该方法沉积制备...
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: 感应耦合化学气相沉积高速制备微晶硅薄膜 (2013年) 采用新型内置低感应天线电感耦合化学气相沉积系统沉积P型微晶硅薄膜,使用郎缪尔探针对等离子体参数进行诊断。研究发现离子密度(Ni)可以达到1011-1012cm-3,而电子温度(Te)约在2eV,且随着功率的增大略有下降。P型微晶...
评级：0 浏览量：49 收藏量：0 资源大小：623KB 上传时间：2021-04-24

: 分子吸收光谱在半导体薄膜化学气相沉积中的应用.pdf 分子吸收光谱在半导体薄膜化学气相沉积中的应用.pdf
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: 常压化学气相沉积法在Ag/Si(111)模板上生长ZnO薄膜及其性能研究采用常压金属有机化学气相沉积法(MOVCD),在Ag/Si(111)衬底上成功地生长出马赛克结构的ZnO薄膜。用光学显微镜观察表面形貌,结果显示有带晶向特征的微裂纹,裂纹密度为100 cm-1。依据X射线晶体衍射的结果,薄膜结晶质量...
评级：0 浏览量：60 收藏量：0 资源大小：447KB 上传时间：2021-02-11

: 化学气相沉积制备碳化钨纳米晶薄膜 (2005年) 采用氟化钨(WF6)和甲烷(CH4)为前驱体,采用等离子体增强化学气相沉积(PECVD)方法制备具有纳米晶结构的碳化钨薄膜.采用SEM,XRD,EDS等方法表征了碳化钨薄膜的形貌、晶体结构和化学组成.通过表征,表明在前驱体混合气体中...
评级：0 浏览量：35 收藏量：0 资源大小：1.17MB 上传时间：2021-06-12

: 论文研究 - 单固体前驱体制备金属有机化学气相沉积铝掺杂ZnO薄膜及其性能采用金属有机化学气相沉积技术（MOCVD），使用制备的乙酸锌二水合物（Zn（CH3COO）2⋅2H2O）的混合物将氧化锌（ZnO）和铝掺杂的ZnO（AZO）薄膜沉积在钠钙玻璃上。 ZAD）和乙酰丙酮铝（Al（C5H702）3; AAA）的前体，...
评级：0 浏览量：242 收藏量：0 资源大小：3.67MB 上传时间：2020-05-25

: 热丝化学气相沉积法低温制备立方碳化硅薄膜 (2005年) 采用热丝化学气相沉积法在Si（100）衬底上，于较低的衬底温度（400℃）下，制备出良好结晶。经对样品进行的X射线衍射（XRD），以及傅立叶变换红外光谱（FTIR）检测，证实该沉积薄膜为立方碳化硅。原子力显微镜（AFM...
评级：0 浏览量：41 收藏量：0 资源大小：1.47MB 上传时间：2021-05-14

: 集成电路制造技术——原理与工艺---第七章化学气相淀积集成电路制造技术——原理与工艺---第七章化学气相淀积 7.1 CVD概述 7.2 CVD工艺原理 7.3 CVD工艺方法 7.4 二氧化硅薄膜的淀积 7.5 氮化硅薄膜淀积 7.6 多晶硅薄膜的淀积 7.7 CVD金属及金属化合物薄膜
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: 辉光等离子体辅助化学气相沉积低温合成金刚石薄膜的研究采用辉光放电等离子体增强化学气相沉积(GP-CVD)技术在低温条件下合成了高品质的亚微米金刚石薄膜,并通过对合成过程的实时发射光谱诊断确定了[CH4-H2]系统参与金刚石合成反应的主要荷能粒子.对合成过程的研究表明:...
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: 电子功用-用于太阳电池薄膜沉积的介质气体辅助气相输运沉积装置行业资料-电子功用-用于太阳电池薄膜沉积的介质气体辅助气相输运沉积装置
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评级：0 浏览量：118 收藏量：0 资源大小：194KB 上传时间：2019-12-29

: 微波电子回旋共振-化学气相沉积SiN 研究了微波电子回旋共振-化学气相沉积SiNx薄膜的光学性能,这种SiNx薄膜具有透光谱宽、透光率高的特点,总结了透光谱、折射率、光隙能随微波功率、基片温度的变化关系。
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: 化学气相沉积(CVD)生长钻石薄膜的激光诊断 化学气相沉积(CVD)生长钻石薄膜的激光诊断
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: 气相输运沉积制备化合物薄膜材料的研究进展相比用于制备晶体材料的化学气相输运(Chemical Vapor Transport, CVT)方法，近空间气相输运沉积(Close-spaced Vapor Transport Deposition, CSVT)及气相输运沉积(Vapor Transport Deposition, VTD)方法不为人们所...
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: 使用三异丙醇铝和氧气混合物的高温化学气相沉积氧化铝使用三异丙醇铝和氧气混合物的高温化学气相沉积氧化铝使用三异丙醇铝和氧气混合物的高温化学气相沉积氧化铝 S. Blittersdorf, N. Bahlawane, B. Atakan, K. Kohse-Höinghaus* Institut für Physikalische Chemie I...
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: 等离子体增强化学气相沉积法制备氧化锌薄膜 (2006年) 通过引入金属有机源——二乙基锌和二氧化碳，用等离子体增强化学气相沉积（PECVD）的方法在低温下制备高质量（002）取向的氧化锌薄膜，详细研究了衬底温度对薄膜质量的影响。实验发现；衬底温度对氧化锌的取向性和...
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: 气相法沉积PTFE薄膜及其疏水性 (2014年) 分别以载玻片、陶瓷片、镀铝聚酯膜、普通白纸和Cu片为基底，聚四氟乙烯(PTFE)粉末为原料，采用电子束蒸发法沉积聚合物薄膜。对于基底载玻片和陶瓷片，采用2％H2SO4溶液刻蚀预处理后在其上沉积厚度为125 nm的聚合物...
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: 基底温度复合控制对化学气相沉积纳米金刚石薄膜的影响* (2012年) 采用自主研制的具有基底温度开-闭环复合自动控制系统的直流弧光放电PCVD设备，当开环流量不同时，在硬质合金基体表面分别进行了纳米金刚石薄膜制备研究。并采用SEM、XRD、激光Raman光谱仪对所制备薄膜的形貌、物相和...
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: 等离子体增强化学气相沉积金刚石薄膜中基元过程的研究等离子体增强化学气相沉积金刚石薄膜中基元过程的研究，汤凯，信裕，利用Gaussian03软件，在CCSD/6-311++G(d,p)水平上计算了等离子增强化学气相沉积金刚石薄膜中，以CH4/H2及引入卤素（F、Cl）为气源时，其气体�
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: 热丝和射频等离子体化学气相沉积法制备定向碳纳米管薄膜采用热丝和射频等离子体复合化学气相沉积设备(PE-HF-CVD),以CH4、H2和N2为反应气体,在较低衬底温度下(500 ℃),用简单的催化剂制备方法——旋涂法在硅片上涂覆Ni(NO3)2溶液,经热处理及H2还原后的Ni颗粒为催化剂,在硅...
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: 纳米金刚石薄膜的制备采用微波等离子体化学气相沉积系统,利用氢气、甲烷、氩气和氧气为前驱气体,在直径为5 cm的(111)取向镜面抛光硅衬底上沉积出高平整度纳米金刚石薄膜。利用扫描电镜、X射线衍射谱和共焦显微显微拉曼光谱我们分析了薄膜...
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: 在线常压化学气相沉积方法制备TiO2自洁薄膜玻璃 (2009年) 利用常压化学气相沉积技术，在浮法玻璃线上制备了TiO2自洁薄膜玻璃。研究了水和氧气对薄膜沉积速率的影响，结果表明水和氧气的加入增加了薄膜的沉积速率。分别用原子力显微镜和X-射线衍射分析仪研究了薄膜的表面形貌...
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: 射频等离子体辅助化学气相沉积Ti-B-N薄膜的结构与性能 (2004年) 研究了射频等离子体辅助化学气相沉积获得的Ti-B-N薄膜的微观组织结构和力学性能。结果表明：B的加入使Ti-B-N薄膜中出现TiN纳米晶、BN非晶和TiB2非晶（nc-TiN/a-TiBN/aTiB2）的复相结构。Ti-B-N薄膜组织致密,晶粒细小...
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: 化学浴沉积法沉积CdSe纳米晶薄膜的合成与表征以氨和三乙醇胺（TEA）为络合剂，通过化学浴沉积（CBD）制备Selenium化镉（CdSe）纳米晶薄膜，氯化镉和Selenium代硫酸钠分别作为Cd2 +和Se2-离子的来源。... 讨论了CdSe纳米晶薄膜沉积过程中的动力学和React机理。
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: 通过化学气相沉积在单模光纤上轻松合成石墨烯使用铜蒸气辅助化学气相沉积系统可将石墨烯薄膜直接沉积在标准单模光纤上。在生长过程之前，H2和Ar的气流对于石墨烯膜的直接沉积起着至关重要的作用，并且石墨烯的层可以通过生长时间来控制。气流较大时，Cu原子会...
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