化学气相沉积

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化学气相沉积

: 半导体行业化学气相沉积 半导体行业化学气相沉积
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: 薄膜沉积技术可以分为化学气相沉积（CVD）和物理气相沉积（PVD）薄膜沉积技术可以分为化学气相沉积（CVD）和物理气相沉积（PVD）。对于CVD工艺，这包括原子层沉积（ALD）和等离子体增强化学气相沉积（PECVD）。PVD沉积技术包括溅射，电子束和热蒸发。CVD工艺包括使用等离子体将源...
评级：0 浏览量：2066 收藏量：2 资源大小：1.47MB 上传时间：2021-01-07

: 使用三异丙醇铝和氧气混合物的高温化学气相沉积氧化铝使用三异丙醇铝和氧气混合物的高温化学气相沉积氧化铝使用三异丙醇铝和氧气混合物的高温化学气相沉积氧化铝 S. Blittersdorf, N. Bahlawane, B. Atakan, K. Kohse-Höinghaus* Institut für Physikalische Chemie I...
评级：0 浏览量：118 收藏量：0 资源大小：47KB 上传时间：2021-06-29

: 激光化学气相沉积非晶硅本文报道了CO2激光化学气相沉积非晶硅的实验研究。实验结果表明,非晶硅的沉积速率与气室气压和基片温度密切相关。用各种手段测试了样品的性质,证实沉积得到的薄膜确是非晶硅,而且具有良好的光电导性。
评级：0 浏览量：51 收藏量：0 资源大小：4.3MB 上传时间：2021-02-06

: 化学气相沉积光学级金刚石薄膜的研究进展 化学气相沉积(CVD)金刚石薄膜优异的光学性能在近几年得到了广泛的重视,关于它的研究也在近几年取得了较大的突破。综述了CVD金刚石薄膜的光学性能,着重从成核、生长和后期处理三个方面对光学级CVD金刚石薄膜的制备...
评级：0 浏览量：91 收藏量：0 资源大小：262KB 上传时间：2021-02-11

: 化学气相沉积制备单相碳化钨纳米柱阵列已经通过以碳化钨丝为前体的热丝化学气相沉积制备了单相碳化钨纳米柱阵列。分别通过XRD，SEM和HRTEM表征了纳米柱阵列的结构特性和形貌。提出了一种可能的形态学形成机理。此外，已经研究了纳米柱阵列的场发射特性...
评级：0 浏览量：39 收藏量：0 资源大小：281KB 上传时间：2021-03-17

: 高介电栅介质材料铝酸镧 (LaAlO 3 )薄膜的金属有机化学气相沉积... 本文采用低压金属有机化学气相沉积（MOCVD）方法制备了介电常数较高、热稳定性好的铝酸镧(LaAlO 3 )薄膜，对其结构、组分、电学性能，界面结构的研究表明：铝酸镧是下一代金属氧化物半导体场效应管（MOSFET）用高...
评级：0 浏览量：179 收藏量：0 资源大小：252KB 上传时间：2020-12-09

: SiC涂层化学气相沉积过程的数值模拟 (2007年) 根据化学气相沉积法的工艺特点，对C/C复合材料SiC涂层的制备过程进行了数学建模和有限元模拟，得出了反应器内以及试样表面反应物浓度的变化规律，并且获得了反应器内反应物浓度与沉积产物间的关系。结合实验分析，...
评级：0 浏览量：60 收藏量：0 资源大小：2.41MB 上传时间：2021-05-17

: 玻璃陶瓷基板上铜薄膜的化学气相沉积 (2003年) 采用乙酰丙酮铜作为前驱体,在常压下利用化学气相沉积技术对玻璃陶瓷基板进行 Cu薄膜金属化。利用热重分析、X射线衍射和扫描电子显微镜等技术对前驱体、Cu薄膜进行分析观察。结果表明:影响 Cu导体的电阻的主要因素是...
评级：0 浏览量：48 收藏量：0 资源大小：620KB 上传时间：2021-05-09

: 氢气对化学气相沉积热解炭的影响氢气对化学气相沉积热解炭的影响，樊哲琼，谭瑞轩，为了研究氢气载气对化学气相沉积微环境的影响，自行设计了化学气相沉积炉并在温度为900℃,体积比为1：10丙烯/载气条件下，载气分别�
评级：0 浏览量：107 收藏量：0 资源大小：1.03MB 上传时间：2020-03-04

: 波导SOl化学气相沉积工艺特点对于SOl波导来说，CVD技术一般用来淀积其上包层，通常为二氧化硅或氮化硅。　对于调制器等有源器件来说，这一层还起着隔离金属电极减小电极对波导造成损耗的作用，所以厚度一定要选择合适，不能太薄，如果薄了就不...
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: 等离子体增强化学气相沉积-PECVD 用于制造微电子器件的薄膜都是使用某种沉积技术形成的，该术语是指在基板上形成沉积物。在半导体器件制造中，以下沉积技术（及其常用的缩写）为：
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: 微波等离子体化学气相沉积金刚石薄膜的制备微波等离子体化学气相沉积金刚石薄膜的制备，田浩希，赵约瑟，在爆炸法得到的钠米金刚石微粉上，用无水酒精与丙酮溶液混合，得到需要电镀的电镀溶液然后在铜片上电镀处理后利用微波等离子体化
评级：0 浏览量：160 收藏量：0 资源大小：299KB 上传时间：2020-02-24

: 微波等离子体化学气相沉积设备微波系统的仿真优化与验证微波等离子体化学气相沉积(MPCVD)法产生的等离子体密度高，材料外延生长过程可控性好且洁净度高，是制备高质量金刚石膜的重要方法。基于谐振腔理论和三维全波电磁场仿真，对MPCVD设备微波系统中谐振腔、模式转换器、...
评级：0 浏览量：173 收藏量：1 资源大小：3.54MB 上传时间：2021-01-25

: 常压化学气相沉积法在Ag/Si(111)模板上生长ZnO薄膜及其性能研究采用常压金属有机化学气相沉积法(MOVCD),在Ag/Si(111)衬底上成功地生长出马赛克结构的ZnO薄膜。用光学显微镜观察表面形貌,结果显示有带晶向特征的微裂纹,裂纹密度为100 cm-1。依据X射线晶体衍射的结果,薄膜结晶质量...
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: 热丝化学气相沉积法低温制备立方碳化硅薄膜 (2005年) 采用热丝化学气相沉积法在Si（100）衬底上，于较低的衬底温度（400℃）下，制备出良好结晶。经对样品进行的X射线衍射（XRD），以及傅立叶变换红外光谱（FTIR）检测，证实该沉积薄膜为立方碳化硅。原子力显微镜（AFM...
评级：0 浏览量：41 收藏量：0 资源大小：1.47MB 上传时间：2021-05-14

: Al2O3担载Fe化学气相沉积法合成石墨烯 (2013年) Al2O3担载Fe作催化剂化学气相沉积法400℃下催化裂解乙炔进行反应,反应气氛分别为氢气和氩气,产物通过60℃下36%的浓盐酸中回流进行提纯.样品通过扫描电子显微镜和高分辨透射电子显微镜进行了表征.结果表明:当反应气氛...
评级：0 浏览量：83 收藏量：0 资源大小：7.93MB 上传时间：2021-04-21

: 火焰化学气相沉积法制备多晶纳米二氧化钛及其在气体净化中的应用 (2014年) 综述了作者近年来在火焰化学气相沉积(CVD) 法制备多晶纳米二氧化钛及其在光催化气体净化中应用的研究成果。总结了以工业丙烷为燃料、空气为催化剂、四氯化钛为先驱物的火焰CVD 法制备多晶纳米二氧化钛中热负荷对燃烧...
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: 化学气相沉积课件 化学气相沉积课程的参考课件，里面有详细全面的介绍化学气相沉积，要做课件的可以参考下！
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: 通过化学气相沉积图案化二Selenium化钨薄片的生长通过化学气相沉积图案化二Selenium化钨薄片的生长
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: 纳米化学气相沉积金刚石的拉曼光谱拉曼光谱是研究化学气相沉积（CVD）金刚石最有效的手段之一。对不同晶粒尺寸的CVD金刚石膜进行了拉曼光谱分析。紫外拉曼光谱的检验表明，紫外光激发的拉曼光谱有效抑制了sp2碳的散射和荧光背景；1140 cm-1峰出现在...
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: 化学气相沉积获得的多孔混凝土的碳复制体—合成机理的某些方面在这一贡献中，首次描述了通过化学气相沉积在多孔混凝土模板中的模板辅助合成多孔碳。多孔混凝土制成的模板几乎可以以任何几何形状获得，因此是制备多孔碳整料的有吸引力的模板。多孔混凝土中的碳沉积过程遵循三个...
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: 一步化学气相沉积对衬底角度对MoS2垂直纳米片生长的影响然而，迄今为止所使用的这种垂直纳米片的生产方法，特别是通过化学气相沉积（CVD）途径，已经涉及到复杂或多重生长的处理步骤。为了应对这一严峻挑战，在这项工作中，我们报告了通过CVD在单个生长步骤中生长的高...
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: 氢气对化学气相沉积热解炭的影响 (2013年) 为了研究氢气载气对化学气相沉积微环境的影响，自行设计了化学气相沉积炉并在900℃，丙烯／载气体积比为1：10(载气分别设定为氢气和氮气)，微正压条件下在石墨纸基体上进行化学气相沉积。利用气相色谱仪、气质联用仪...
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