微波等离子体化学气相沉积

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微波等离子体化学气相沉积

: 微波等离子体化学气相沉积金刚石薄膜的制备 微波等离子体化学气相沉积金刚石薄膜的制备，田浩希，赵约瑟，在爆炸法得到的钠米金刚石微粉上，用无水酒精与丙酮溶液混合，得到需要电镀的电镀溶液然后在铜片上电镀处理后利用微波等离子体化
评级：0 浏览量：161 收藏量：0 资源大小：299KB 上传时间：2020-02-24

: 微波等离子体化学气相沉积设备微波系统的仿真优化与验证 微波等离子体化学气相沉积(MPCVD)法产生的等离子体密度高，材料外延生长过程可控性好且洁净度高，是制备高质量金刚石膜的重要方法。基于谐振腔理论和三维全波电磁场仿真，对MPCVD设备微波系统中谐振腔、模式转换器、...
评级：0 浏览量：175 收藏量：1 资源大小：3.54MB 上传时间：2021-01-25

: 论文研究 - 微波等离子体化学气相沉积法制备纳米晶金刚石膜及其生物相容性 微波等离子体化学气相沉积（MPCVD）被认为是在低温下沉积NCD膜的最有前途的方法。与热丝CVD相比，MPCVD可以生长高质量的NCD膜，避免了丝材料的污染。 MPCVD技术具有高等离子体密度，可以活化碳质化合物并以高生长...
评级：0 浏览量：262 收藏量：0 资源大小：1.59MB 上传时间：2020-05-29

: 微波等离子体化学气相沉积法制备图形化碳纳米管阵列 微波等离子体化学气相沉积法制备图形化碳纳米管阵列，赵约瑟，曾葆青，应用微波等离子体化学气相沉积法（MPCVD）在含有图案化的Ni催化剂薄膜上选择性的沉积了定向有序碳纳米管阵列。甲烷（CH4）和氢气（H2
评级：0 浏览量：333 收藏量：0 资源大小：695KB 上传时间：2020-03-10

: 氧微波等离子体处理的金属有机化学气相沉积生长的In2O3通道的超高场效应迁移率薄膜晶体管氧微波等离子体处理的金属有机化学气相沉积生长的In2O3通道的超高场效应迁移率薄膜晶体管
评级：0 浏览量：37 收藏量：0 资源大小：854KB 上传时间：2021-05-12

: 氧微波等离子体处理的In2O3通道中生长的金属-有机化学气相沉积超高场效应迁移率薄膜晶体管氧微波等离子体处理的In2O3通道中生长的金属-有机化学气相沉积超高场效应迁移率薄膜晶体管
评级：0 浏览量：36 收藏量：0 资源大小：512KB 上传时间：2021-04-03

: 纳米金刚石薄膜的制备采用微波等离子体化学气相沉积系统,利用氢气、甲烷、氩气和氧气为前驱气体,在直径为5 cm的(111)取向镜面抛光硅衬底上沉积出高平整度纳米金刚石薄膜。利用扫描电镜、X射线衍射谱和共焦显微显微拉曼光谱我们分析了薄膜...
评级：0 浏览量：65 收藏量：0 资源大小：273KB 上传时间：2021-02-20

: 微波法金刚石膜的均匀沉积 (2014年) 采用微波等离子体化学气相沉积法,以氢气和甲烷为主要反应气源进行了大面积金刚石膜的沉积,研究了基片温度、微波功率和沉积气压对大面积金刚石膜均匀性的影响。采用红外测温仪测量基片不同区域的温度,利用扫描电子...
评级：0 浏览量：38 收藏量：0 资源大小：9.54MB 上传时间：2021-06-13

: MPCVD等离子体中甲烷体积分数对基团分布的影响利用发射光谱技术对CH4/H2微波等离子体进行原位在线测量，研究了微波等离子体气相沉积过程中等离子体内部的基团种类以及甲烷体积分数对等离子体中各基团谱线强度的影响,测量分析了等离子体中各基团的空间分布以及...
评级：0 浏览量：91 收藏量：0 资源大小：2.12MB 上传时间：2021-02-08

: 微波放电氢等离子体的特性诊断和分析 (2008年) 在微波等离子化学气相沉积装置中,分析了反应室内等离子密度空间分布以及等离子密度与气压和功率的关系,还分析了Hα(65613 nm)的峰值强度与气压和功率的关系,得到了微波放电氢等离子体内部的基本特性.
评级：0 浏览量：32 收藏量：0 资源大小：135KB 上传时间：2021-05-17

: 等离子体辅助石墨烯薄膜的生长和氮掺杂 微波等离子体用于使用固态碳源聚甲基丙烯酸甲酯在铜箔上合成单层或双层石墨烯片。与常规热化学气相沉积Craft.io相比，React性等离子体的利用使得石墨烯能够在降低的温度下生长。基于拉曼分析研究了衬底温度对石墨...
评级：0 浏览量：45 收藏量：0 资源大小：1.2MB 上传时间：2021-03-29

: 氢等离子体的特性诊断和分析氢等离子体的特性诊断和分析，杨春林，陈俊芳，在微波等离子化学气相沉积装置中，分析了反应室内等离子密度空间分布以及等离子密度与气压和功率的关系，以及适合金刚石薄膜沉积
评级：0 浏览量：54 收藏量：0 资源大小：374KB 上传时间：2019-12-30

: 光纤PCVD工艺等离子体有源区场的分析 (1996年) 对光纤PCVD(等离子体化学气相沉积)制造工艺的微波等离子体有源区的性质进行了分析,指出微波电场是使反应物电离的决定因素之一,而反应物电离后生成的带电微粒,又影响微波的传输,使微波传输线由原来的驻波状态变为行波...
评级：0 浏览量：32 收藏量：0 资源大小：222KB 上传时间：2021-05-09

: 氮氧混合气体对沉积金刚石膜的影响 (2015年) 通过对微波等离子体化学气相沉积装置中沉积的金刚石薄膜形貌与质量的检测研究了向甲烷/氢气等离子体中同时添加氮气/氧气对薄膜沉积的影响，获得了包括微米级和纳米级的多种薄膜；采用扫描电子显微镜、拉曼光谱以及X...
评级：0 浏览量：43 收藏量：0 资源大小：1.03MB 上传时间：2021-06-01

: MPCVD单晶金刚石初始及断续生长界面的表征与分析采用微波等离子体化学气相沉积(MPCVD)技术制备的大尺寸、高质量单晶金刚石材料具备卓越的物理化学性能，在珠宝、电子、核与射线探测等消费品、工业和国防科技领域极具应用前景。研究发现在化学气相沉积单晶金刚石...
评级：0 浏览量：219 收藏量：0 资源大小：3.92MB 上传时间：2021-02-03

: 优选（110）织构金刚石膜的氢等离子体刻蚀Craft.io的优化通过热丝化学气相沉积法生长了（110）取向的金刚石膜。微波辅助氢等离子体刻蚀Craft.io用于获得氢封端的金刚石膜。研究了氢等离子体刻蚀过程中气压和衬底温度对金刚石膜结构和电学性能的影响。紫外拉曼光谱显示...
评级：0 浏览量：69 收藏量：0 资源大小：502KB 上传时间：2021-03-17

: 生长条件和退火对金刚石薄膜光学性质的影响提出一种分析微波等离子体化学气相沉积工艺条件对金刚石薄膜的组成和光学性质影响的方法。采用红外椭圆偏振光谱仪来分析Si衬底上金刚石薄膜的组成和光学性质,研究微波等离子体化学气相沉积法生长条件和退火工艺对...
评级：0 浏览量：62 收藏量：0 资源大小：555KB 上传时间：2021-02-11

: 碳氮膜的一种新的拉曼光谱结构报道了一种碳氮薄膜材料的拉曼光谱,该光谱明显具有两个特征拉曼峰,和已有的碳基薄膜及碳氢薄膜相区别,其峰值位置分别位于1400cm~(-1)及1370cm~(-...该碳氮薄膜样品是采用微波等离子体化学气相沉积方法(MPCVD)制备而成。
评级：0 浏览量：102 收藏量：0 资源大小：988KB 上传时间：2021-02-25

: 氦等离子体前处理对多晶硅薄膜性能的影响 (2013年) 采用微波电子回旋共振等离子体增强磁控溅射(microwave electron cyclotron resonance plasma- enhanced magnetron sputtering，ECR-PEMS)和电子回旋共振等离子体辅助化学气相沉积(microwave electron cyclotron ...
评级：0 浏览量：47 收藏量：0 资源大小：371KB 上传时间：2021-05-08

: 高质量单晶金刚石的合成、结构与光学性能研究采用微波等离子体化学气相沉积法通过控制痕量杂质制备了高质量单晶金刚石材料,并对其结构与光学性能进行综合评价。通过紫外可见吸收光谱和光致发光谱分析了晶体的杂质及含量;采用拉曼光谱、摇摆曲线及X射线白光形貌...
评级：0 浏览量：131 收藏量：0 资源大小：10.09MB 上传时间：2021-02-22

: 反射电子能谱和X射线光电子能谱研究氢化金刚石膜在氮气氛中的热稳定性通过微波等离子体化学气相沉积技术生长（1 1 0）取向的金刚石膜，然后进行优化的氢等离子体处理Craft.io。通过在400至950°C的温度下在氮气氛中进行退火，研究了氢化金刚石薄膜的热稳定性。与X射线光电子能谱相关...
评级：0 浏览量：55 收藏量：0 资源大小：1.68MB 上传时间：2021-03-17

: 金刚石膜/多孔硅复合材料的性能表征提出了一种新颖的多孔硅表面钝化技术，即采用微波等离子体辅助的化学气相沉积（MPCVD）方法在多孔硅上沉积金刚石薄膜。采用原子力显微镜（AFM）、扫描电子显微镜（SEM）、X射线衍射仪（XRD）、拉曼光谱仪和荧光分光...
评级：0 浏览量：76 收藏量：0 资源大小：183KB 上传时间：2021-02-11

: 硼掺杂对碳纳米管形貌和结构的影响 (2005年) 以Fe3O4纳米粒子为催化剂，CH4，B2H6和H2为气源，采用电子回旋共振微波等离子体化学气相沉积技术（ECR-CVD）在多孔硅基底上制备出了掺硼碳纳米管薄膜。使用扫描电子显微镜（SEM）、透射电子显微镜（TEM）、能量色散X...
评级：0 浏览量：77 收藏量：0 资源大小：185KB 上传时间：2021-05-25

: 反应气源中硼碳比对BDD电极电化学检测Cr6+的影响 (2014年) 采用微波等离子体化学气相沉积法(MPCVD)以氢气和甲烷为生长源、硼烷作掺杂源,在不同硼碳比(B/C)下制备不同硼含量的掺硼金刚石(BDD)薄膜电极,通过扫描电镜、拉曼光谱对其表面形貌、组成及结晶质量进行对比分析。...
评级：0 浏览量：76 收藏量：0 资源大小：1.28MB 上传时间：2021-05-15

: 镍基纳米碳管/二氧化钛复合镀层的制备及性能 (2013年) 为了改善金属基材的表面性能,以钛铁矿为原料,利用微波等离子体化学气相沉积法制备了纳米碳管/二氧化钛复合粉体.采用复合电泳电沉积法在不锈钢基体表面制备了镍基纳米碳管/二氧化钛复合镀层;利用扫描电镜、X射线衍射...
评级：0 浏览量：47 收藏量：0 资源大小：4.41MB 上传时间：2021-06-19

: 低温合成SiCN纳米结构利用微波等离子体化学气相沉积法合成了多种SiCN纳米结构。将CH4，H-2和N-2的气体混合物用作前体，并将硅片作为额外的硅源插入到样品架中样品周围对称位置的位置。金属镓以类似于气液固的机理被用作液体介质。 ...
评级：0 浏览量：108 收藏量：0 资源大小：933KB 上传时间：2021-02-22

: 大面积金刚石薄膜的均匀性 (2007年) 利用自行设计微波等离子体化学气相沉积装置在直径51 mm和76 mm硅片上制备金刚石薄膜。用扫描电子显微镜观察所得金刚石膜的表面形貌，用ZC36高阻仪测量金刚石薄膜的电阻率。通过电阻率和形貌的均匀性判断金刚石薄膜的...
评级：0 浏览量：52 收藏量：0 资源大小：2.86MB 上传时间：2021-05-15

: MPCVD装置圆柱谐振腔的仿真设计 (2011年) 根据电磁场理论设计了用于微波等离子体化学气相沉积系统的TE11模圆柱谐振腔,推导了该谐振腔的电场分布,计算了圆柱腔的几何尺寸。利用电磁场仿真软件CST对圆柱腔内的电场分布进行仿真,比较分析了不同天线耦合深度以及...
评级：0 浏览量：282 收藏量：1 资源大小：369KB 上传时间：2021-05-25

: 硼掺杂金刚石纳米线，用于CO气体传感应用通过微波等离子体化学气相沉积，电子束光刻和React离子刻蚀等一系列Craft.io，制备了排列在硅衬底上的三组硼掺杂超纳米晶金刚石（B-UNCD）纳米线（NWs）。将建立在每组B-UNCD NW两端的金电极与基本电路相结合，以...
评级：0 浏览量：122 收藏量：0 资源大小：512KB 上传时间：2021-02-25

: 掺氮对纳米金刚石薄膜形貌及组成结构的影响 (2008年) 采用微波等离子体化学气相沉积技术，通过在甲烷和氢气的混合反应气源中通入不同浓度的氮气，合成了氮掺杂的纳米金刚石薄膜。表征结果表明随着氮气浓度的增加，所得到的金刚石薄膜的材料特征发生了明显的改变：膜层...
评级：0 浏览量：71 收藏量：0 资源大小：284KB 上传时间：2021-05-15

: MPCVD法AlN基体上金刚石薄膜的制备 (2011年) 以丙酮和氢气作气源,采用微波等离子体化学气相沉积法( MPCVD)在 AlN表面制备金刚石薄膜,并通过拉曼光谱( Raman),扫描电子显微镜( SEM)对沉积得到的金刚石薄膜进行表征。研究表明:直接在AlN表面沉积因金刚石的形核...
评级：0 浏览量：77 收藏量：0 资源大小：2.91MB 上传时间：2021-06-13

: 利用正硅酸乙酯制备二氧化硅膜 (2007年) 以正硅酸乙酯为原料,利用微波等离子体化学气相沉积法在低温条件下在Si基片上制备了SiO膜,着重研究了正硅酸乙酯注入位置对 SiO膜结构的影响。实验表明,在利用等离子体化学气相沉积法制备 SiO 膜时,表面反应是低温条件...
评级：0 浏览量：219 收藏量：0 资源大小：839KB 上传时间：2021-06-01

: MPCVD单晶金刚石高速率和高品质生长研究进展 微波等离子体化学气相沉积(MPCVD)技术被认为是制备大尺寸高品质单晶金刚石的理想手段之一。然而其较低的生长速率(～10 μm/h)以及较高的缺陷密度(103~107 cm-2)是阻碍MPCVD单晶金刚石应用的主要因素, 经过国内外研究...
评级：0 浏览量：373 收藏量：0 资源大小：4.03MB 上传时间：2021-02-11

: PET材料表面制备氧化硅薄膜的研究 (2010年) 本文分别使用磁控溅射法和微波等离子体化学气相沉积法(PECVD)在PET材料表面制备了氧化硅薄膜,通过结果分析,对两种方法从原理、各自优点等方面进行了比较,并就沉积时间、工作气压、电源功率对各自所沉积薄膜阻隔性的...
评级：0 浏览量：165 收藏量：0 资源大小：761KB 上传时间：2021-06-01

: 锂离子电池锂电资料技术论文文档资料50个合集.zip 锂离子电池复合阴极LiNi13Co13Mn13O2碳涂层微波等离子体化学气相沉积.pdf 锂离子电池多孔硅%2F碳复合负极材料的研究-复制.pdf 锂离子电池富锂锰基正极材料技术-复制.pdf 锂离子电池层状结构三元正极材料LiNi1%2F3Co1...
评级：5 浏览量：532 收藏量：4 资源大小：142.29MB 上传时间：2021-09-03

: MPCVD实验条件对碳氮纳米管薄膜场发射性能的影响 (2005年) 通过正交设计试验法研究了微波等离子体化学气相沉积（MPCVD）实验条件对碳氮纳米管薄膜场发射性能的影响。结果表明，当微波功率为1500W、反应气压为8.5kPa、甲烷、氮气和氢气的流量比为8：20：80时，制备的碳氮纳米...
评级：0 浏览量：36 收藏量：0 资源大小：3.15MB 上传时间：2021-04-28

: 透明n-ZnS / p金刚石薄膜异质结的制备与表征通过微波等离子体化学气相沉积（MPCVD）方法制备了掺硼的p型金刚石薄膜。通过使用射频（RF）磁控溅射方法首次在p型金刚石基板上沉积n型ZnS膜来制造透明的ZnS /金刚石膜异质结二极管。检查了器件的当前电压（IV）...
评级：0 浏览量：72 收藏量：0 资源大小：382KB 上传时间：2021-03-17

: 基于场发射三极管的设计及性能研究* (2013年) 采用微波等离子体化学气相沉积法在不锈钢衬底上制备出了纳米非晶碳和碳纳米管混合薄膜，二极管结构测试表明薄膜材料具有优良的场发射性能。利用制备的薄膜材料作为阴极制作了前栅极结构的场发射三极管器件并对其性能...
评级：0 浏览量：30 收藏量：0 资源大小：235KB 上传时间：2021-05-18

: 基于三极管场发射显示器的设计与性能研究采用微波等离子体化学气相沉积法在不锈钢衬底上制备出了纳米非晶碳和碳纳米管混合薄膜,二极管结构测试表明薄膜材料具有优良的场发射性能.利用制备的薄膜材料作为阴极制作了前栅极结构的场发射三极管器件并对其性能...
评级：0 浏览量：23 收藏量：0 资源大小：1.61MB 上传时间：2021-04-22

: 硼掺杂金刚石薄膜同质外延生长及肖特基势垒二极管制备采用微波等离子体气相沉积(MPCVD)在商用3 mm×3 mm×1 mm高温高压合成(HPHT)Ib型(100) 金刚石衬底上同质外延生长B掺杂金刚石薄膜，并在此材料的基础上用磁控溅射和电子束蒸镀技术制备了不同结构参数金刚石肖特基势垒...
评级：0 浏览量：79 收藏量：0 资源大小：2.87MB 上传时间：2021-02-07

: 用于锂离子电池的三维石墨烯支架支撑薄膜硅阳极制备支撑在石墨烯支架上的三维（3D）硅（Si）薄膜作为锂离子电池的阳极。... 本文介绍的结果为使用微波等离子体增强化学气相沉积法作为锂离子电池坚固耐用且可扩展的基于Si的阳极铺平了合成Si-石墨烯杂化材料的新方法。
评级：0 浏览量：65 收藏量：0 资源大小：1.28MB 上传时间：2021-03-17

: ECR-PECVD制备纳米硅颗粒薄膜 (2011年) 在P型(100)硅片上采用电子回旋共振微波等离子体增强化学气相沉积(ECR-PECVD) 技术交替沉积SiO2 /Si/SiO2层,改变衬底温度和H2流量沉积纳米硅薄膜,探讨低温下直接制备纳米硅薄膜的工艺.实验结果表明,在低温下,薄膜以非...
评级：0 浏览量：63 收藏量：0 资源大小：3.47MB 上传时间：2021-06-13

: 高性能伪电容器用氧化镍纳米片3D石墨烯的分层复合电极 NiO纳米薄片是通过简单的水热方法，通过微波等离子体增强化学气相沉积（MPCVD）在Ni泡沫上生长的3D（三维）石墨烯支架上制成的。然后将这样生长的NiO-3D石墨烯分层复合材料作为单电极用于伪超级电容器应用，而无需...
评级：0 浏览量：92 收藏量：0 资源大小：1.57MB 上传时间：2021-03-17

: 含Si金刚石涂层的工艺研究 (2007年) 利用微波等离子体辅助化学气相沉积的方法，以H2、CH4和D4（八甲基环四硅氧烷）为沉积先驱物，探索了一种在硬质合金基底上制备出含Si元素的金刚石涂层的新工艺。试图利用这种新的方法，进一步提高金刚石涂层对硬质...
评级：0 浏览量：30 收藏量：0 资源大小：4.8MB 上传时间：2021-05-25

: 基于WMPCVD的碳纳米管定向生长的研究基于WMPCVD的碳纳米管定向生长的研究，张铁军，陈泽祥，本文对碳纳米管(carbon nanotube, CNT)的制备、性质及发展趋势进行了综述。研究了利用微波等离子体化学气相沉积（microwave plasma chemical vapor
评级：0 浏览量：164 收藏量：0 资源大小：952KB 上传时间：2020-01-27

: 大面积纳米金刚石薄膜的制备及场发射性能 (2014年) 以CH4和H2为反应气，采用微波等离子体增强化学气相沉积方法在直径为10 cm的硅原片上制备纳米金刚石薄膜。用X射线衍射仪、拉曼光谱、扫描电镜和原子力显微镜对薄膜的组成结构及性能进行表征。结果表明：薄膜的平均...
评级：0 浏览量：35 收藏量：0 资源大小：1.16MB 上传时间：2021-05-09

: 晶体硅太阳电池减反射膜的研究应用PECVD(等离子体增强化学气相沉积)系统，采用SiH4和NH3气源以制备氮化硅薄膜。研究探索了PECVD生长氮化硅薄膜的基本物化性质以及在沉积过程中反应压强、反应温度、硅烷氨气流量比和微波功率对薄膜性质的影响。...
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