含Si金刚石涂层的工艺研究 (2007年)

利用微波等离子体辅助化学气相沉积的方法，以H2、CH4和D4（八甲基环四硅氧烷）为沉积先驱物，探索了一种在硬质合金基底上制备出含Si元素的金刚石涂层的新工艺。试图利用这种新的方法，进一步提高金刚石涂层对硬质合金基底的附着力。实验结果表明：当D4的流量相对CH4的流量较大时，得到球团状的胞状组织；只有当D4和CH4的流量相当的情况下，才能沉积出质量较好的金刚石涂层，同时又含有少量的Si使金刚石涂层的附着力较好。