采用化学镀的方法在组成为NiSO4?6H2O+NaH2PO2?H2O+Na3C6H5O7?H2O的化学镀液中与Pd活化的P型Si（100）表面制备了NiP薄膜，利用X射线能量色散谱（EDX）对NiP薄膜的成分进行了表征。用原子力显微镜（AFM）和电化学阳极溶出（ASV）的方法对不同化学镀时间下的NiP薄膜在Si表面的覆盖度进行了研究。结果表明，在表面覆盖度г达到4.03×10-8mol/cm2时，表面覆盖达到饱和，此时颗粒大小均一，并分布均匀。以NiP/Si为工作电极，在0.5mol/Ll的HzSO4溶液
