表面钝化

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表面钝化

: 表面钝化工艺及原理概述 §8.1 概述 0.5学时课程内容： 1 器件进行表面钝化的必要性 1.1 早期制造的器件电性能的劣化现象 1.1.1 劣化现象 1.1.2 导致器件失效的主要参数 1.2 器件电性能劣化的原因在器件表面 2 表面钝化及其发展 2.1 表面...
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: 元器件应用中的表面钝化工艺课程内容： §8.3.1 氯化氢氧化法 1 氯化氢...2.1 实际工艺过程 2.1.1 钝化系统 2.1.2 钝化硅表面 2.2 钝化机理 2.2.1 系统钝化机理 2.2.2 二氧化硅-硅系统钝化 2.3 氯化氢氧化应注意的问题 2.3.1 钝化作用与氧化时氯化
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: 通过HCl和（NH4）2S表面钝化的高迁移率锗p-MOSFET 为了在高空穴迁移率Ge p-MOSFET应用中实现高质量的高k / Ge接口，引入了一种简单的化学清洗和表面钝化方案，并且有效沟道空穴迁移率高达665 cm2 / V s的Ge p-MOSFETs在Ge（111）衬底上进行了演示。此外，提出了一个...
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: 锑化镓材料表面钝化技术的研究进展锑化镓材料表面钝化技术的研究进展，谷李彬，浦双双，GaSb材料作为重要的III-V族化合物半导体材料，是实现中红外波段光电子器件的首选材料，在激光制导、光通讯等军事、民用领域均有广泛
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: 钝化工艺在集成电路制作好以后，为了防制外部杂质，如潮气、腐蚀性气体、灰尘侵入硅片，通常在硅片表面加上一层保护膜，称为钝化。目前，广泛采用的是氮化硅做保护膜，其加工过程是在450°C以下的低温中，利用高频放电，使 ...
评级：0 浏览量：164 收藏量：0 资源大小：20KB 上传时间：2020-12-09

: 铜材表面钝化剂及钝化处理工艺研究 (1998年) 较全面地研究了铜材表面钝化处理用的多种无机类、有机类、混合型钝化剂及其钝化处理工艺与钝化效果。同时,比较了单一钝化、混合钝化与二步法钝化处理工艺对于钝化处理效果的影响。
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