采用微波电子回旋共振等离子体增强磁控溅射(microwave electron cyclotron resonance plasma- enhanced magnetron sputtering，ECR-PEMS)和电子回旋共振等离子体辅助化学气相沉积(microwave electron cyclotron resonance chemical vapor deposition，ECR-CVD)技术，分别在单晶硅片(100)基底上低温制备了多晶硅薄膜．采用拉曼光谱仪、X射线衍射仪以及原子力显微镜对薄膜微
