IC制造

CMOS IC制造-综合文档 3_CMOS IC制造.pdf

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半导体IC制造流程 半导体IC制造流程 一、晶圆处理制程   晶圆处理制程之主要工作为在硅晶圆上制作电路与电子组件（如晶体管、电容体、逻辑闸等），为上述各制程中所需技术最复杂且资金投入最多的过程 ，以微处理器（Microprocessor...

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IC制造流程简介 IC制造流程简介，适合于半导体行业初学者，希望能对你们有所帮助

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第三章_IC制造工艺.ppt §3.2 集成电路制造工艺 §3.3 BJT工艺 §3.4 MOS工艺 §3.5 BiMOS工艺 §3.6 MESFET工艺与HEMT工艺

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IC制造虚拟课件：刻蚀选择比.pptx IC制造虚拟实训

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IC制造虚拟课件：干法刻蚀简介.pptx IC制造虚拟实训

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第4章 CMOS IC制造-综合文档 第4章 CMOS IC制造

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离子注入技术在IC制造中的应用 随着离子注入技术的发展，它的应用也越来越广泛，尤其是在集成电路中的应用发展最快。... 离子注入技术在IC制造中的应用 1) 对MOS晶体管阈值电压的控制 2)自对准金属栅结构 3)离子注入在CMOS结构中的应用

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IC制造工艺与光刻对准特性关系的研究 隔离技术 中图分类号：305.7 文献标识码：A 文章编号：1003-353X(2005)06-0014-041 引言随着IC制造业的迅猛发展，光刻成像技术不断提高，芯片的特征尺寸也不断缩小，而关键尺寸的缩小则产生了更为精确的套刻精度要求...

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