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IC制造虚拟课件：硼磷主扩散虚拟仿真实验.pptx

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IC制造

虚拟实训

0 下载量 146 浏览量 2023-05-10 08:46:53 上传评论收藏 1.77MB PPTX 举报

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IC制造虚拟实训

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硼/磷主扩散虚拟仿真实验

学习目标

• 熟悉虚拟仿真实验操作

• 熟悉主扩散程序设置

两步工艺：分为预淀积（预扩散）、再分布

（主扩散）

再分布是氧气氛或惰性气氛下的有限源扩散

，将窗口杂质再进一步向片内扩散

高温，长时，杂质扩散较深

目的是使杂质在硅中具有一定的表面浓度

Cs、分布C(x)、且达到一定的结深Xj

有限表面源扩散

有限表面源

指杂质源在扩散前积累于硅片表面薄层δ内， Q

为单位面积固定的杂质总量

’

”

(x,t)

t3>t2>

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