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IC制造虚拟课件:正胶与刻蚀结果.pptx
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IC制造
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正胶与刻蚀结果
学习目标
•
熟悉正性光刻胶特性
•
了解正胶的使用方法
•
熟悉使用正胶的光刻、刻蚀结果
光刻胶的类型
•
按曝光区在显影中被去除或保留来划分:
•
正(性)胶
•
负(性)胶
按其用途划分:
光学光刻胶
电子抗蚀剂
X射线抗蚀剂
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