没有合适的资源?快使用搜索试试~
我知道了~
文库首页
信息化管理
管理软件
IC制造虚拟课件:氮化硅湿法刻蚀参数对结果的影响.pptx
IC制造虚拟课件:氮化硅湿法刻蚀参数对结果的影响.pptx
1.该资源内容由用户上传,如若侵权请联系客服进行举报
2.虚拟产品一经售出概不退款(资源遇到问题,请及时私信上传者)
版权申诉
IC制造
虚拟实训
0 下载量
120 浏览量
2023-05-10
08:46:39
上传
评论
收藏
345KB
PPTX
举报
温馨提示
限时特惠:¥9.90
19.90
IC制造虚拟实训
资源推荐
资源详情
资源评论
IC制造虚拟课件:刻蚀选择比.pptx
浏览:99
IC制造虚拟实训
IC制造虚拟课件:氮化硅刻蚀技术与虚拟实验.pptx
浏览:51
IC制造虚拟实训
IC制造虚拟课件:刻蚀技术概述与湿法刻蚀.pptx
浏览:169
IC制造虚拟实训
IC制造虚拟课件:湿法刻蚀虚拟仿真实验简介.pptx
浏览:198
IC制造虚拟实训
IC制造虚拟课件:正胶与刻蚀结果.pptx
浏览:118
IC制造虚拟实训
半导体刻蚀配方:详细参数
浏览:60
湿法刻蚀氮化硅:混合氢氟酸和硝酸,比例为1:1至1:3。 干法刻蚀多晶硅:使用氯气和氢气混合物,比例为1:9至1:11。 湿法刻蚀多晶硅:混合氢氟酸和过氧化氢,比例为1:1至1:3。 请注意,半导体刻蚀配方的选择取决于...
氮(氧)化硅湿法刻蚀后清洗方式的改进
浏览:21
摘要:在半导体制造工艺的湿法刻蚀中,用热磷酸刻蚀氮化硅和氮氧化硅是其中一个相对复杂又难以控制的工艺。在这个工艺中,热磷酸刻蚀后的去离子水(DIW)清洗更是一个非常重要的步骤。主要分析了由于去离子水清洗...
氮化硅微腔中的光学频率梳.docx
浏览:69
氮化硅微腔中的光学频率梳.docx
电子政务-氮化硅电热塞中氮化硅与金属的一步活性连接方法.zip
浏览:184
电子政务-氮化硅电热塞中氮化硅与金属的一步活性连接方法.zip
IC制造虚拟课件:硅各向异性刻蚀原理与虚拟实验.pptx
浏览:141
IC制造虚拟实训
IC制造虚拟课件:横向刻蚀与刻蚀剖面.pptx
浏览:51
IC制造虚拟实训
IC制造虚拟课件:影响扩散的因素.pptx
浏览:78
IC制造虚拟实训
IC制造虚拟课件:负胶与刻蚀结果.pptx
浏览:107
IC制造虚拟实训
IC制造虚拟课件:氧化刻蚀参数与刻蚀效果.pptx
浏览:15
IC制造虚拟实训
基于集成氮化硅微腔的光学传感芯片研究.pdf
浏览:42
基于集成氮化硅微腔的光学传感芯片研究.pdf
电子政务-基于氮化硅镂空掩模的纳米电极制备方法.zip
浏览:51
电子政务-基于氮化硅镂空掩模的纳米电极制备方法.zip
行业文档-设计装置-氮化硅腔用一体式特气管路.zip
浏览:163
行业文档-设计装置-氮化硅腔用一体式特气管路.zip
智能无机非金属材料.pptx
浏览:82
9 层状复合陶瓷材料的电学检测 添加25%-30%导电TiN颗粒的氮化硅层与BN层相间叠层,经压制、除碳及烧结而成。 通过检测其电阻值的变化能可靠地监测和预报材料是否发生断裂。 智能无机非金属材料全文共100页,当前...
PECVD氮化硅膜的制备及其红外光谱分析.pdf
浏览:183
PECVD氮化硅膜的制备及其红外光谱分析
IC制造虚拟课件:金属铝刻蚀参数与刻蚀效果.pptx
浏览:46
IC制造虚拟实训
IC制造虚拟课件:铝刻蚀技术与虚拟实验.pptx
浏览:20
IC制造虚拟实训
IC制造虚拟课件:多晶硅湿法刻蚀参数对结果的影响.pptx
浏览:107
IC制造虚拟实训
IC制造虚拟课件:表面氧化层对热氧化的影响.pptx
浏览:164
IC制造虚拟实训
IC制造虚拟课件:氧化硅湿法刻蚀技术.pptx
浏览:169
IC制造虚拟实训
氮化硅AMB覆铜板行业分析报告.docx
浏览:6
适合人群:企业领导者,创业者,投资者
5G时代 氮化硅集成光子芯片前景可期.pdf
浏览:134
5G时代 氮化硅集成光子芯片前景可期.pdf
自支撑氮化硅膜结构制备工艺优化
浏览:200
为了提高膜结构的品质,本文分别对自支撑氮化硅膜结构制备中的干法刻蚀参数和各向异性湿法腐蚀参数进行了研究和优化,其中干法刻蚀参数主要包括反应气体配比和刻蚀时间,各向异性湿法腐蚀参数主要包括腐蚀剂浓度和...
氮化硅的反应离子刻蚀研究 (2009年)
浏览:100
采用CHF3、CHF3+cF4和CHF3+O2三种不同气体体系作氮化硅的反应离子刻蚀(RIE)实验,研究了不同刻蚀气体对刻蚀速率、均匀性和对光刻胶的选择比三个刻蚀参数的影响。通过优化气体配比,比较刻蚀结果,最终获得了刻蚀速率...
论文研究- 采用ICPCVD工艺生长氮化硅对InP表面钝化的研究 .pdf
浏览:99
采用ICPCVD工艺生长氮化硅对InP表面钝化的研究 ,陈俊,王一栋,低温工艺下生长的氮化硅对InP器件具有较好的钝化效果。为了研究InP表面的钝化效果,本文采用ICPCVD的方法在InP衬底上生长氮化硅钝化层
氮化硅湿法刻蚀参数
对结果的影响
学习目标
•
熟悉刻蚀液成分、刻蚀液配比、刻蚀温度、
液体搅动、刻蚀时间等刻蚀参数对刻蚀结果的影响
影响氮化硅刻蚀结果的因素
氮化硅通常采用化学气相淀积工艺制备
薄膜理化性质相近
刻蚀工艺各项参数是影响氮化硅湿法刻蚀结
果的主要因素
剩余12页未读,
继续阅读
评论
收藏
内容反馈
1.该资源内容由用户上传,如若侵权请联系客服进行举报
2.虚拟产品一经售出概不退款(资源遇到问题,请及时私信上传者)
版权申诉
限时特惠:¥9.90
19.90
资源评论
资源反馈
评论星级较低,若资源使用遇到问题可联系上传者,3个工作日内问题未解决可申请退款~
联系上传者
评论
知识世界
粉丝: 359
资源:
1万+
私信
上传资源 快速赚钱
我的内容管理
展开
我的资源
快来上传第一个资源
我的收益
登录查看自己的收益
我的积分
登录查看自己的积分
我的C币
登录后查看C币余额
我的收藏
我的下载
下载帮助
前往需求广场,查看用户热搜
最新资源
VBA高级筛选-时间区间数据查询.xlsm
大数据+统计分析+数字化转型+规划设计
VBA多文件数据筛选匹配-高级筛选.xlsm
MongoDB思维导图,常用命令及安装使用等
IMG_8981.JPG
蓝牙连接,数据传输,支持HC-06、08蓝牙模块数据交互
Unity面试题加强版
植物大战僵尸杂交版v2.0.88安装程序.zip
软件过程与管理期末复习知识点整理-西交宋永红软件过程与管理
stm32 source code
资源上传下载、课程学习等过程中有任何疑问或建议,欢迎提出宝贵意见哦~我们会及时处理!
点击此处反馈
安全验证
文档复制为VIP权益,开通VIP直接复制
信息提交成功