SiO2膜制备

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SiO2膜制备

: 热氧化制备SiO2膜.pdf 热氧化SiO2膜制备思维导图
评级：0 浏览量：88 收藏量：0 资源大小：160KB 上传时间：2021-06-26

: 疏水型SiO2薄膜的制备与性能 (2013年) 采用溶胶-凝胶法，以正硅酸四乙酯(TEOS)和甲基三乙氧基硅烷(MTES)为前驱体，利用浸渍提拉法镀膜，经60℃烘干2 h制得疏水SiO2薄膜。研究MTES与TEOS摩尔比、乙醇加入量、加水量对薄膜疏水性能的影响。采用傅里叶变换...
评级：0 浏览量：75 收藏量：0 资源大小：254KB 上传时间：2021-04-24

: 射频磁控溅射SiO2薄膜的制备与性能研究 (2006年) 采用磁控射频反应溅射法在单晶硅片上制备了二氧化硅薄膜。研究了制备工艺对薄膜沉积速率、表面形貌、折射率和电击穿场强的影响。结果表明：薄膜的沉积速率随氧分压的增加先急剧减小，稍有增加后再缓慢减小，而随溅射...
评级：0 浏览量：128 收藏量：0 资源大小：2.23MB 上传时间：2021-05-09

: 离子束溅射制备SiO2薄膜的折射率与应力调整离子束溅射制备SiO2薄膜的折射率与应力调整
评级：0 浏览量：90 收藏量：0 资源大小：675KB 上传时间：2021-02-10

: SiO2-TiO2薄膜的制备及光致超亲水性能研究 SiO2-TiO2薄膜的制备及光致超亲水性能研究，吕德涛，郭宪英，为了制备具有良好的光致超亲水性的SiO2-TiO2薄膜，实验用溶胶凝胶法结合超声技术以正硅酸乙酯（TEOS)和钛酸丁酯(TBOT)为前驱体制备SiO2-Ti
评级：0 浏览量：111 收藏量：0 资源大小：287KB 上传时间：2020-03-10

: 硅纳米晶/SiO2多层薄膜的制备硅纳米晶/SiO2多层薄膜的制备
评级：0 浏览量：44 收藏量：0 资源大小：1.14MB 上传时间：2021-02-23

: 一种由聚甲基硅氧烷制备SiO2薄膜的简易方法一种由聚甲基硅氧烷制备SiO2薄膜的简易方法，张见，付猛，本文报道一种由聚甲基硅氧烷制备SiO2薄膜的简易方法。以甲基三乙氧基硅烷为起始物，经水解和缩聚反应合成聚甲基硅氧烷(MeSiO1.5)n，在
评级：0 浏览量：109 收藏量：0 资源大小：365KB 上传时间：2020-01-09

: 电子束蒸发制备HfO2/SiO2高反膜的1064 nm激光预处理效应对电子束蒸发HfO2, SiO2块状材料镀制的基频高反膜进行了1-on-1和R-on-1阈值测试,比较分析了两种测试情况下出现的典型损伤形貌。实验发现, R-on-1测试表现出明显的预处理效应, 其所测抗激光损伤阈值是1-on-1测试的3倍...
评级：0 浏览量：65 收藏量：0 资源大小：1.6MB 上传时间：2021-02-10

: PEG-300对SiO2薄膜的修饰 (2012年) 在制备过程中引入聚乙二醇300(PEG-300)，研究对SiO2薄膜性能的影响．采用TG-DTG和FT-IR、 BET等测试技术对膜性能、结构、孔径分布进行表征．结果表明，PEG-300对SiO2溶胶有降黏作用，其临界胶束(CMC)的体积分数约为...
评级：0 浏览量：51 收藏量：0 资源大小：254KB 上传时间：2021-05-30

: 中空SiO2/PMA复合薄膜的制备及其阻尼性能中空SiO2/PMA复合薄膜的制备及其阻尼性能，吕凤柱，张以河，为了制备性能优异的高分子基阻尼材料，采用模板法制备了粒径在50-70 nm的中空二氧化硅(SiO2)，用3-丙烯酸酯丙氧基三甲氧基硅(KH-570)改性
评级：0 浏览量：76 收藏量：0 资源大小：527KB 上传时间：2020-01-08

: 一种制备SiO2膜的方法--氧等离子体处理聚硅烷涂层 (2000年) 作者利用低温氧等离子体处理聚硅烷涂层，成功地制备了Si02膜.由IR谱给出的Si-O键的吸收峰波数，随氧等离子体处理时间的不同在1065-1088cm-1范围变化；XPS谱给出Si2P的结合能为103.3-103.5eV，硅氧原子比为1∶1.99；...
评级：0 浏览量：39 收藏量：0 资源大小：290KB 上传时间：2021-04-24

: 氧分压对非晶SiO2薄膜结构及性能的影响氧分压对非晶SiO2薄膜结构及性能的影响，丁安邦，牟宗信，不同氧分压下，采用中频反应磁控溅射方法在单晶硅基体上制备SiO2 薄膜。利用X射线衍射仪(XRD)、傅里叶变换红外光谱仪（FTIR）、原子力
评级：0 浏览量：67 收藏量：0 资源大小：456KB 上传时间：2019-12-29

: Cvn法制备SiO2薄膜工艺条件的研究 (2004年) 在AleO3陶瓷基片上以正硅酸乙酷(TEOS)为原料,高纯氮气作载气,采用低压冷壁式设备和化学气相沉积 (CVD)方法制备SiO2薄膜,研究了基片温度TEOS温度和沉积时间对SiO2薄膜沉积速率的影响采用XRD,XPS和 SEM技术对SiO2薄膜...
评级：0 浏览量：58 收藏量：0 资源大小：229KB 上传时间：2021-05-15

: 辐照激光能量对SiO2薄膜特性及结构的影响 (2014年) 本文以K9玻璃为基底，采用电子束热蒸发方法制备了SiO2薄膜，并将此组在相同实验条件下制备的薄膜加以不同能量的激光辐照，研究在激光辐照前后样片的透射率、折射率、消光系数、膜厚、表面形貌及激光损伤阈值（LIDT）...
评级：0 浏览量：48 收藏量：0 资源大小：1.65MB 上传时间：2021-06-11

: 含纳米硅粒SiO2薄膜的光致发光 (2006年) 采用RF磁控溅射技术制备含纳米硅的SiO2薄膜。通过对Si-SiO2复合靶的比分进行调节控制，并在不同的温度下进行高温退火得到不同粒径的纳米硅。利用xRD对样品进行分析得出纳米硅的平均粒径；对样品测量光致发光谱，其...
评级：0 浏览量：36 收藏量：0 资源大小：3.07MB 上传时间：2021-06-12

: 纳米Ge-SiO2薄膜对1342 nm激光的被动调Q (2011年) 采用射频磁控溅射技术和热退火处理方法制备纳米锗镶嵌二氧化硅(Ge-SiO2)薄膜.利用光吸收谱和X射线衍射谱对薄膜材料进行表征,得到薄膜的光学带隙为1.12 eV,纳米Ge晶粒的平均尺寸约为16.4 nm. 将纳米Ge-SiO2薄膜作为可...
评级：0 浏览量：46 收藏量：0 资源大小：978KB 上传时间：2021-05-27

: Ge/ Al-SiO2薄膜材料的非线性光学特性 (2012年) 采用磁控共溅射及后退火技术制备Ge,Al共掺SiO2薄膜,通过X射线衍射谱和傅里叶红外吸收谱对样品进行表征,并采用皮秒脉冲激光器的单光束Z扫描技术研究薄膜的三阶非线性光学特性.研究结果表明:薄膜材料对1064 nm的光具有...
评级：0 浏览量：39 收藏量：0 资源大小：732KB 上传时间：2021-06-18

: PVA/ SiO2/ HMDS薄膜的制备及性能的研究 PVA/ SiO2/ HMDS薄膜的制备及性能的研究，章富，耿蒙蒙，本文采用静电纺丝技术在玻璃基片表面构筑聚乙烯醇（PVA）纳米纤维网膜，以正硅酸丁酯（TEOS）为硅源，通过气相沉积法向PVA纳米纤维�
评级：0 浏览量：146 收藏量：0 资源大小：506KB 上传时间：2020-01-07

: Au/SiO2复合薄膜的紫外光还原制备与光吸收性能 (2013年) 通过溶胶-凝胶法，利用紫外光辐射还原金（Au）得到了高均匀性Au/SiO2复合薄膜，并用SEM、TEM、XRD、UV-Vis光谱等手段对薄膜样品进行了性能表征，讨论了紫外光对金纳米粒子的还原机理。XRD结果表明，均匀分散于非晶...
评级：0 浏览量：38 收藏量：0 资源大小：468KB 上传时间：2021-06-14

: 氨基功能化有序介孔SiO2薄膜组装Au 纳米粒子复合材料的可调色散性质 (2011年) 聚环氧丙烷-聚环氧乙烷(P123)为模板剂,采用共溶胶的蒸发诱导自组装方法制备了氨基功能化介孔SiO2薄膜,然后利用氯金酸(HAuCl4)与介孔SiO2薄膜孔道内壁的氨基之间的中和反应组装Au纳米粒子,制备得到Au/SiO2纳米复合...
评级：0 浏览量：68 收藏量：0 资源大小：3.14MB 上传时间：2021-05-23

: SiO2/TiO2减反膜系的制备和性能测试 (2012年) 由于减反射薄膜的性能受制备工艺的影响很大，文章采用SiO2和TiO2作为低、高折射率膜料，采用磁控溅射法在玻璃基片上制备了多层减反射膜系，研究了制备工艺对薄膜性能的影响，从理论和实验2个方面得出了制备的多层减...
评级：0 浏览量：52 收藏量：0 资源大小：460KB 上传时间：2021-04-24

: SiO2纳米粒子自组装膜的制备与表征 (2005年) 通过静电自组装技术在玻璃基底上组装了具备纳米尺度形貌的A12O3和SiO2纳米粒子薄膜，采用液滴法测量其接触角，利用紫外-可见分光光度计测量其光学吸收特性，并利用原子力显微镜（atom force microscope， AFM）对两...
评级：0 浏览量：51 收藏量：0 资源大小：272KB 上传时间：2021-05-19

: LDPE/SiO2复合膜性能的研究 (2009年) 以LDPE/EVA(质量比为90/10)为基材,添加SiO2制备了LDPE/SiO2复合膜,对该复合膜进行了力学性能,透气、透湿性能和结晶性能的测试。结果表明:添加SiO2后, LDPE/SiO2 复合体系的力学性能有所下降;O2和CO2气体透过系数先...
评级：0 浏览量：43 收藏量：0 资源大小：507KB 上传时间：2021-05-14

: 音视频-图像处理-SiO2基复合薄膜的制备与光学性能.pdf 音视频-图像处理-SiO2基复合薄膜的制备与光学性能.pdf
评级：0 浏览量：66 收藏量：0 资源大小：5.32MB 上传时间：2022-04-16

: Zn2+掺杂对Ag-SiO2薄膜抗菌性能的影响 (2009年) 采用sol-gel法,以正硅酸乙酯作为反应的前驱体,硝酸银为抗菌活性成分,硝酸锌作为Zn2+掺杂试剂,通过浸渍提拉法在普通的玻璃基片上制备Zn2+掺杂的Ag-SiO2复合薄膜,用XPS光电子能谱对薄膜上的Ag的价态进行了研究,用抑菌...
评级：0 浏览量：102 收藏量：0 资源大小：1.49MB 上传时间：2021-05-10

: 论文研究-SiO2/Si衬底上制备增强型ZnO薄膜晶体管 .pdf SiO2/Si衬底上制备增强型ZnO薄膜晶体管，张景文，侯洵，在NH3和O2的混合气氛下，采用激光分子束外延法（L-MBE）在SiO2/p-Si衬底上制备氮掺杂ZnO薄膜， XRD分析表明ZnO薄膜掺入微量的氮后仍有很高�
评级：0 浏览量：103 收藏量：0 资源大小：426KB 上传时间：2019-08-16

: 固定化植物酯酶一显色剂的PVA/SiO2杂化膜的制备与表征 (2007年) 以聚乙烯醇（PVA）与四乙氧基硅烷（TEOS）为原料，通过原位溶胶一凝胶法制PVA/Sioz有机无机杂化溶胶，并将显色剂和植物酯酶分散于溶胶中干燥成膜，得到一类多孔性和亲水亲丙酮性可调的杂化膜。用扫描电镜（SEM）和...
评级：0 浏览量：43 收藏量：0 资源大小：331KB 上传时间：2021-05-14

: 聚酰胺酸盐法制备纳米SiO2／PI复合薄膜 (2014年) 将正硅酸乙酯的水溶液加入聚酰胺中，利用正硅酸乙酯的水解使得水解产物SiO2以纳米尺寸均匀分散在聚酰胺中，经热亚胺化处理制备出SiO2质量分数不同的SiO2／PI复合薄膜．采用扫描电子显微镜对复合薄膜的断面微观结构...
评级：0 浏览量：52 收藏量：0 资源大小：91KB 上传时间：2021-05-08

: SiO2三维光子晶体薄膜的制备与光学特性 (2011年) 利用胶体晶体法沉积 SiO2三维光子晶体,利用扫描电子显微镜(SEM)和分光光度计研究该晶体的结构特性和光谱特征,考察颗粒浓度、反应温度对光子禁带的影响。结果表明:随着 SiO2颗粒浓度增大,反射强度随之增大,当浓度为...
评级：0 浏览量：55 收藏量：0 资源大小：497KB 上传时间：2021-05-23

: 厚二氧化硅光波导薄膜的制备随着光通信的飞速发展，Si基SiO2平面光波导集成器件的应用更加重要和广泛。在Si基上制备高质量的厚SiO2薄膜，是制作SiO2光波导及其集成器件的基础。本文介绍了Si基厚SiO2薄膜的几种制备方法。
评级：0 浏览量：46 收藏量：0 资源大小：355KB 上传时间：2021-02-11

: Ag/SiO2纳米薄膜导热系数的测量 Ag/SiO2纳米薄膜导热系数的测量，沙峰，陈云飞，采用3ω实验方法在300K～360K温度范围内测试了Ag纳米颗粒分散SiO2薄膜的导热系数。Ag/ SiO2纳米薄膜采用多靶磁控溅射技术制备，其中分散�
评级：0 浏览量：188 收藏量：0 资源大小：289KB 上传时间：2020-02-15

: 脉冲准分子激光PZT薄膜的制备本实验采用脉冲准分子激光沉积(PLD)法,在193 nm波长,5 Hz频率,4 J/cm2能量密度条件下,分别在Si(100)和SiO2/Si衬底上成功地沉积Pb(Zr,Ti)O3(PZT)薄膜,并在不同的条件下对PZT薄膜进行退火处理。用XRD,RBS,ASR等方法...
评级：0 浏览量：42 收藏量：0 资源大小：963KB 上传时间：2021-02-10

: PVA/SiO2 杂化阳离子交换膜的制备及碱回收应用研究 PVA/SiO2 杂化阳离子交换膜的制备及碱回收应用研究，郝建文，徐铜文，在聚乙烯醇存在下，采用溶胶凝胶反应，制备了一系列的不同羧基含量的PVA/SiO2阳离子交换膜。在此基础上，进行了一系列膜性能的表征
评级：0 浏览量：136 收藏量：0 资源大小：439KB 上传时间：2020-02-08

: 网络技术-综合布线-溶胶凝胶法制备TiO2SiO2宽带增透膜及偏振分光膜研究.pdf 该文档主要研究了利用溶胶-凝胶法制备TiO2-SiO2宽带增透膜及偏振分光膜的技术，并通过实验与理论设计相结合的方式探讨了这些薄膜的光学性能和制备工艺参数的影响。以下是详细的知识点解析： 1. 溶胶-凝胶法：这是一...
评级：0 浏览量：28 收藏量：0 资源大小：2.95MB 上传时间：2022-05-12

: SiO2和TiO2及其复合改性耐蚀薄膜涂层的制备与性能 (2012年) 采用溶胶凝胶法,以正硅酸乙酯(TEOS)、钛酸四丁酯(TBT)及γ-甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷(KH570) 为前驱体原料,在45号钢片上制备SiO2和TiO2及其复合改性无机薄膜涂层。通过扫描电镜(SEM)观察其微观形貌、傅里叶...
评级：0 浏览量：54 收藏量：0 资源大小：1.16MB 上传时间：2021-05-09

: PAA/SiO2复合介孔纤维膜的制备及其对靛蓝胭脂红的吸附性能研究 PAA/SiO2复合介孔纤维膜的制备及其对靛蓝胭脂红的吸附性能研究，徐冉，贾敏，利用静电纺丝技术将巯基化介孔PAA/SiO2复合材料制备成纳米纤维膜。通过扫描电子显微镜（SEM）、透射电子显微镜（TEM）、傅里叶红外光�
评级：0 浏览量：108 收藏量：0 资源大小：957KB 上传时间：2019-12-31

: 热交联型SiO2/丙烯酸酯复合乳液的制备及性能在壳层聚合过程中,随着改性纳米SiO2用量增加,涂膜硬度、耐热性提高;随着KH-570用量增加,涂膜耐热性、耐水性提高,使用氨基树脂作为交联剂能进一步提高涂膜硬度及耐温性。最佳工艺条件为:纳米SiO2和KH-570质量分别占...
评级：0 浏览量：132 收藏量：0 资源大小：586KB 上传时间：2020-06-20

: 论文研究 - 衬底温度对射频磁控溅射制备Au / SiO2纳米复合薄膜结构和光学性能的影响研究了AuNPs的衬底温度对Au / SiO2纳米复合薄膜微观结构性能的影响，如尺寸，位错密度（δ），应变（ε）和晶格畸变（LD）。使用X射线衍射确认了无定形二氧化硅介电基质中包含的Au纳米颗粒的面心立方晶体结构。在...
评级：0 浏览量：177 收藏量：0 资源大小：956KB 上传时间：2020-06-02

: NbSiN薄膜的制备及光学性能研究测试结果表明，最佳工艺参数下制备的NbSiN薄膜均匀致密，主要成分为NbN、NbSiN、无定形的Si3N4及少量的SiO2和Nb2N2-xO3+x。光学性能分析表明，NbSiN薄膜在波长550 nm处(人眼最敏感)的可见光透射率为90.5%，红外反射...
评级：0 浏览量：72 收藏量：0 资源大小：8.06MB 上传时间：2021-02-07

: 高折射率材料吸收特性对193 nm HfO2/SiO2,Y2O3/SiO2,Al2O3/SiO2多层膜反射特性的影响由单层HfO2,SiO2,Y2O3,Al2O3膜求出其折射率和消光系数色散曲线,据此计算出HfO2/SiO2,Y2O3/SiO2,Al2O3/SiO2的193 nm多层膜反射膜曲线,并用电子束热蒸发的方法进行...这说明Y2O3膜层的吸收特性与薄膜的制备工艺密切相关。
评级：0 浏览量：166 收藏量：0 资源大小：499KB 上传时间：2021-02-13

: 音视频-图像处理-静电自组装SiO2光学薄膜的研究.pdf 在本文中，研究者探讨了用ESAM方法制备SiO2光学薄膜的可行性，并对不同催化条件下制得的SiO2溶胶进行了比较。首先，研究者制备了三种不同条件下的SiO2溶胶：一种是仅用HCl催化，另一种仅用NH3-H2O催化，最后一种是...
评级：0 浏览量：37 收藏量：0 资源大小：4.13MB 上传时间：2022-04-16

: 非晶SiO2涂层的制备及其对Ti-22Al-26Nb合金的高温防护 (2009年) 以商业硅胶为原料，采用溶胶一凝胶法在Ti-22Al-26Nb合金表面浸涂制备非晶氧化硅涂层。涂层样品和空白样品在800和900℃静态空气中进行等温氧化实验，900℃静态空气中进行循环氧化实验。采用热重分析（TGA）、扫描电子...
评级：0 浏览量：53 收藏量：0 资源大小：407KB 上传时间：2021-06-14

: 钬激光器用高反膜的制备及其工艺研究采用红外石英作为基底材料，利用SiO2/ZrO2膜系制备2100 nm波段钬激光器0°高反膜。提出一套完整的优化工艺，解决了薄膜的材料（膜料和基底）本身的水吸收，克服了薄膜表面光洁底差、散射吸收损耗大、容易破裂等问题...
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: 纳米SiO2水溶液制备、改性及应用性能研究* (2003年) 采用硅单质法制备了低成本高固含量的纳米SiO2水溶液，并进行表面处理。结果表明：两亲性和核-壳型纳米SiO2在水中分散稳定，SiO2/聚丙烯酸酯涂膜的附着力、柔韧性和耐冲击性提高；纳米SiO2用量增大，对乳液的成膜温度...
评级：0 浏览量：51 收藏量：0 资源大小：637KB 上传时间：2021-04-25

: 脉冲准分子激光制备PCLT热释电薄膜采用脉冲激光沉积的方法,在Pt/SiO2/Si衬底上制备了掺Ca的(Pb,La)TiO3薄膜。薄膜呈多晶结构,具有较好的铁电性和热释电性。由于掺Ca的作用,使薄膜的材料探测优值和电压响应优值几乎与单晶MgO衬底上的c轴取向的PbTiO3或...
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: 大尺寸宽带偏振薄膜的制备与测试同时对偏振膜的材料选择、膜系设计以及实际测量进行了研究,并在此基础上设计并制备出以HfO2/SiO2为镀膜材料,使用角度为60°,工作波长为1053 nm的多层薄膜偏振片,该偏振片具有良好的光学性能和比较高的抗激光损伤阈值...
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: 利用正硅酸乙酯制备二氧化硅膜 (2007年) 以正硅酸乙酯为原料,利用微波等离子体化学气相沉积法在低温条件下在Si基片上制备了SiO膜,着重研究了正硅酸乙酯注入位置对 SiO膜结构的影响。实验表明,在利用等离子体化学气相沉积法制备 SiO 膜时,表面反应是低温条件...
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