磁控溅射

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2020-09-19 09:53:26
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PVD磁控溅射镀膜工艺理论
磁控溅射技术制备氮化铝薄膜
反应磁控溅射制备SiO
磁控溅射ZnO:Al的有限元模拟与实验研究
磁控溅射法制备的高反Ag
直流磁控溅射制备非晶硅薄膜的研究
磁控溅射制备TaN薄膜研究
基于DSP的直流磁控溅射电源设计-论文
高硼硅玻璃薄膜的磁控溅射沉积及性能研究
磁控溅射YSZ薄膜的激光损伤阈值
磁控溅射技术
直流磁控溅射制备超导TiN薄膜
室温下射频磁控溅射制备ZnO:Al透明导电薄膜及其性能研究
磁控溅射靶源设计及溅射工艺研究 (1999年)
功率对射频磁控溅射生长ZnO薄膜性能的影响
基底温度对直流磁控溅射ITO透明导电薄膜性能的影响
脉冲磁控溅射制备树脂镜片红外防护功能薄膜
氮流量对磁控溅射法制备氮化钛薄膜光学性能的影响
磁控溅射工艺参数对Cu薄膜织构的影响 (2009年)
直流诱导的高功率脉冲非平衡磁控溅射
磁控溅射法制备薄膜材料实验报告.doc
中频孪生磁控溅射WO
磁约束磁控溅射源的磁场设计 (2010年)
磁控溅射薄膜附着性能的影响因素
磁控溅射法制备氮掺杂的氧化锌薄膜 (2009年)
磁控溅射制备TiO2薄膜及其光学特性研究 (2010年)
溅射功率和工作气压对磁控溅射铬薄膜光电学性质的影响 (2012年)
快速热处理对磁控溅射VO2薄膜光电特性的影响
PET基片上射频磁控溅射不同厚度ITO薄膜的光电学特性 (2013年)
反应磁控溅射方法制备BCN薄膜的高温抗氧化性
DC反应磁控溅射制备VO2薄膜及XPS分析 (2005年)
沉积压力对磁控溅射Mg薄膜结构的影响 (2012年)
非对称双极脉冲磁控溅射沉积氮化铬铝涂层的微观结构和硬度.pdf
溅射和退火温度对磁控溅射法生长的ZnO薄膜性质的影响
磁控溅射钦膜的沉积过程及表面形貌研究 (2009年)
对向靶磁控溅射纳米氧化钒薄膜的热氧化处理 (2009年)
磁控溅射偏压对Zr-Si-N扩散阻挡层组织结构的影响 (2004年)
磁控溅射TiN薄膜工艺参数对显微硬度的影响 (2007年)
直流磁控溅射氧化铟锡薄膜的低温等离子退火研究 (2007年)
磁控溅射法制备的羟基磷灰石?氧化锆涂层的力学性能 (2012年)
偏压对磁控溅射Cr-N薄膜组织及性能影响 (2010年)
反应磁控溅射沉积工艺对Cr-N涂层微观结构的影响 (2008年)
直流反应磁控溅射氮化钛薄膜电极的工艺研究
射频磁控溅射种子层制备(Pb0.8Ca0.2)TiO3薄膜的微观结构和电学性能
氧浓度对磁控溅射Ti/WO3薄膜光学性能的影响* (2009年)
基于蛋白石模板的磁控溅射制备三维核壳结构ZnO光子晶体及其表征
磁控溅射技术的发展背景、现状及前景
磁控溅射制备的含He纳米晶铜膜的微结构分析 (2011年)
工作功率对射频磁控溅射沉积硼薄膜性能的影响