磁控溅射

本专辑为您列举一些磁控溅射方面的下载的内容,磁控溅射等资源。把最新最全的磁控溅射推荐给您,让您轻松找到相关应用信息,并提供磁控溅射下载等功能。本站致力于为用户提供更好的下载体验，如未能找到磁控溅射相关内容，可进行网站注册，如有最新磁控溅射相关资源信息会推送给您。

阅读全文

磁控溅射

: 磁控溅射法制备薄膜材料实验报告.doc 磁控溅射法制备薄膜材料实验报告.doc
评级：0 浏览量：217 收藏量：0 资源大小：191KB 上传时间：2021-10-07

: 反应磁控溅射制备SiO 利用反应磁控溅射工艺, 改变沉积SiOx(0≤x≤2)膜氧化程度, 获得折射率从2.74逐渐变化到1.58(λ=1550 nm)的SiOx渐变折射率薄膜材料。通过调制膜层折射率振幅和引入膜层-外部介质折射率匹配层, 成功地设计并制备了具有...
评级：0 浏览量：67 收藏量：0 资源大小：1.32MB 上传时间：2021-02-10

: PVD磁控溅射镀膜工艺理论 PVD磁控溅射镀膜工艺理论
评级：0 浏览量：1002 收藏量：3 资源大小：2.05MB 上传时间：2017-07-19

: 磁控溅射法制备的高反Ag 研究了磁控溅射制备的Ag5In5Te47Sb33相变薄膜的光谱及短波长静态记录性能。研究结果表明,晶态薄膜反射率较高,并在600～900nm波长范围内,晶态与非晶态的反射率和折射率相差很大。在CD-E系统的工作波长780nm处,晶态...
评级：0 浏览量：47 收藏量：0 资源大小：844KB 上传时间：2021-02-11

: 直流磁控溅射制备非晶硅薄膜的研究直流磁控溅射具有工艺简单，沉积温度低等优点，是制备薄膜的一种重要技术。采用直流磁控溅射工艺在玻璃基板上沉积薄膜，并对样品进行了退火处理。研究了沉积速率与溅射功率的关系。结果表明薄膜的沉积速率与溅射功率...
评级：0 浏览量：78 收藏量：0 资源大小：662KB 上传时间：2021-04-18

: 磁控溅射制备TaN薄膜研究 磁控溅射制备TaN薄膜研究，康杰，，使用磁控反应溅射制备TaN薄膜，研究不同氮分压，工作气压，溅射功率以及基片温度等条件对薄膜的结构和性能影响，得到了薄膜的方阻
评级：0 浏览量：198 收藏量：0 资源大小：187KB 上传时间：2020-01-28

: 基于DSP的直流磁控溅射电源设计-论文基于DSP的直流磁控溅射电源设计
评级：0 浏览量：62 收藏量：0 资源大小：1.7MB 上传时间：2021-05-19

: 高硼硅玻璃薄膜的磁控溅射沉积及性能研究本文采用射频磁控溅射法，以高硼硅玻璃为靶材，在高硼硅玻璃基底上制备高硼硅玻璃薄膜。探讨磁控溅射法与熔融法制得的高硼硅玻璃的性能差异，研究磁控溅射功率对高硼硅玻璃薄膜质量的影响。通过X射线衍射仪(XRD)、...
评级：0 浏览量：92 收藏量：0 资源大小：3.04MB 上传时间：2021-02-06

: 磁控溅射YSZ薄膜的激光损伤阈值利用射频磁控溅射方法在不同衬底上制备出掺Y2O3 8 %的YSZ薄膜, 用X射线衍射、原子力显微镜(AFM)、扫描电子显微镜和透射光谱测定薄膜的结构、表面特性和光学性能, 研究了退火对薄膜结构和光学性能的影响。结果表明：...
评级：0 浏览量：132 收藏量：0 资源大小：2.41MB 上传时间：2021-02-10

: 磁控溅射技术 磁控溅射设备一般根据所采用的电源的不同又可分为直流溅射和射频溅射两种，等等介绍了磁控溅射技术的发展与原理。
评级：0 浏览量：283 收藏量：0 资源大小：166KB 上传时间：2011-10-26

: 直流磁控溅射制备超导TiN薄膜直流磁控溅射制备超导TiN薄膜，陈志平，曹春海，在室温下，采用直流磁控溅射在高阻硅上生长了TiN薄膜，分别设定溅射功率、溅射气压以及N2和Ar的气体流量比为单一变量，获得了不同�
评级：0 浏览量：264 收藏量：0 资源大小：627KB 上传时间：2020-01-29

: 射频磁控溅射SiO2薄膜的制备与性能研究 (2006年) 采用磁控射频反应溅射法在单晶硅片上制备了二氧化硅薄膜。研究了制备工艺对薄膜沉积速率、表面形貌、折射率和电击穿场强的影响。结果表明：薄膜的沉积速率随氧分压的增加先急剧减小，稍有增加后再缓慢减小，而随溅射...
评级：0 浏览量：121 收藏量：0 资源大小：2.23MB 上传时间：2021-05-09

: 磁控溅射ZnO：Al的有限元模拟与实验研究在磁控溅射过程中，沉积在钠钙玻璃上的ZnO：Al的电阻率和膜质量不均匀。根据目标上方磁场的测量结果，分别沿垂直方向和水平方向观察到明显的磁场分布不均。随着靶材和基板之间的距离变长，两个磁极之间的磁场强度...
评级：0 浏览量：117 收藏量：0 资源大小：937KB 上传时间：2021-02-23

: 磁控溅射工艺参数对Cu薄膜织构的影响 (2009年) 介绍了直流磁控溅射制备cu薄膜时，溅射功率和玻璃基片温度等工艺参数的变化对薄膜织构的影响．靶材采用质量分数大于99.9％的铜靶，溅射室内真空度低于1.7×10-4，在氩气为保护气体的氛围下制备薄膜．用X射线衍射(XRD...
评级：0 浏览量：143 收藏量：0 资源大小：284KB 上传时间：2021-05-18

: 室温下射频磁控溅射制备ZnO:Al透明导电薄膜及其性能研究采用射频磁控溅射技术,在室温下,以ZnO:Al2O3(2%Al2O3(质量比))为靶材,在石英玻璃基底上,采用不同工艺条件制备了ZnO:Al(AZO)薄膜。使用扫描电子显微镜观察了薄膜的表面形貌,X射线衍射分析了薄膜的结构,四探针测量仪...
评级：0 浏览量：104 收藏量：0 资源大小：538KB 上传时间：2021-03-11

: 磁控溅射启辉电压波动和机理 磁控溅射启辉电压波动和机理，牟宗信，邓新绿，磁控溅射沉积技术被广泛应用于沉积各种功能薄膜。深入研究其放电特性对控制沉积过程有重要意义。在磁控靶表面，和电场正交的磁场
评级：0 浏览量：346 收藏量：0 资源大小：339KB 上传时间：2019-12-30

: 磁控溅射靶源设计及溅射工艺研究 (1999年) 设计制作了方便实用的圆形直流平面磁控溅射靶源;用CT―5型高斯计测量铝靶面上的磁场分布,给出靶电压和靶电流随溅射氩气压(3.0×10-1～9.0×10-1Pa)的变化曲线和3种不同气压(1.0,0.6,0.2Pa)下的伏安特性曲线;在玻璃...
评级：0 浏览量：70 收藏量：0 资源大小：326KB 上传时间：2021-05-17

: 用磁控溅射技术制备氮化铝薄膜报道了用磁控溅射制备氮化铝薄膜的工艺过程和实验结果.给出了氮化铝薄膜的光学常数与氩气、氮气压强之间的关系.结果表明,氮化铝薄膜的光学性质,很大程度上取决于氮气和氩气之间的压强比.
评级：0 浏览量：149 收藏量：0 资源大小：921KB 上传时间：2021-02-06

: 功率对射频磁控溅射生长ZnO薄膜性能的影响通过使用不同溅射功率的射频（RF）磁控溅射技术，在石英衬底上生长了氧化锌（ZnO）薄膜，该技术将其功率从10 W调整到200W。发现溅射功率起着重要的作用。在电影的成长过程中。检查了结晶度，吸收和光致发光（PL）的...
评级：0 浏览量：124 收藏量：0 资源大小：640KB 上传时间：2021-02-24

: 基底温度对直流磁控溅射ITO透明导电薄膜性能的影响用直流磁控溅射法制备透明导电锡掺杂氧化铟(ITO)薄膜,靶材为ITO陶瓷靶,组分为m(In2O3):m(SnO2 )=9:1。运用分光光度计、四探针测试仪研究了基底温度对薄膜透过率、电阻率的影响,并用X射线衍射(XRD)仪对薄膜进行结构...
评级：0 浏览量：82 收藏量：1 资源大小：920KB 上传时间：2021-02-10

: 脉冲磁控溅射制备树脂镜片红外防护功能薄膜选取氮化硅和二氧化硅作为薄膜材料，借助膜系设计软件对膜系结构进行优化，采用中频脉冲磁控溅射技术进行薄膜制备。利用高反膜透射曲线拟合方法调整薄膜的实际沉积速率，减少膜厚控制误差，在树脂镜片CR39基底的凸面...
评级：0 浏览量：76 收藏量：0 资源大小：1.85MB 上传时间：2021-02-26

: 直流诱导的高功率脉冲非平衡磁控溅射 直流诱导的高功率脉冲非平衡磁控溅射，牟宗信，贾莉，发表了直流诱导的高功率脉冲非平衡磁控溅射模式的现象和机制分析。常规圆形平面磁控靶与同轴线圈构成非平衡磁控溅射靶，同轴线圈
评级：0 浏览量：78 收藏量：0 资源大小：359KB 上传时间：2020-01-18

: 中频孪生磁控溅射WO 采用先进的中频孪生非平衡磁控溅射技术,以金属钨为靶材,制备非晶态WO3电致变色薄膜。用X射线衍射(XRD)、X射线光电子能谱(XPS)、紫外分光光度计等测试手段分析薄膜的结构、表面形貌、成分以及透射光谱特性。研究了...
评级：0 浏览量：60 收藏量：0 资源大小：760KB 上传时间：2021-02-11

: 磁约束磁控溅射源的磁场设计 (2010年) 磁控溅射镀膜机中的磁场分布对靶材利用率有着重要影响。为了提高磁控溅射源的靶材利用率,设计组抛弃了传统的“跑道环”形式的磁场设计理念,而是将永磁体或电磁体分置溅射靶的两侧,使其在溅射靶表面上方产生磁约束 ...
评级：0 浏览量：86 收藏量：0 资源大小：2MB 上传时间：2021-05-22

: 磁控溅射法制备氮掺杂的氧化锌薄膜 (2009年) 方法用射频磁控溅射法，在玻璃衬底上通过控制氩气，氧气，氮气的流量，制备了纯氧化锌薄膜和氮掺杂的氧化锌薄膜样品。结果通过比较纯氧化锌薄膜样品和氮掺杂的氧化锌薄膜样品的发光谱，在466 nm(2.6 eV)附近发现了一...
评级：0 浏览量：176 收藏量：0 资源大小：295KB 上传时间：2021-05-11

: 磁控溅射制备TiO2薄膜及其光学特性研究 (2010年) 采用直流反应磁控溅射法在玻璃衬底上制备TiO2薄膜。用紫外-可见光分光光度计和AFM分别表征了薄膜的透射率和表面形貌,用包络线法详细研究了不同衬底温度下TiO2薄膜的光学特性。结果表明:薄膜在可见光波段有很高的透明...
评级：0 浏览量：56 收藏量：0 资源大小：619KB 上传时间：2021-04-27

: 溅射功率和工作气压对磁控溅射铬薄膜光电学性质的影响 (2012年) 采用直流磁控溅射方法在石英基片上沉积铬薄膜．研究溅射功率、工作气压对铬薄膜结构、电学和光学性质的影响．利用X射线衍射仪、分光光度计和Van der Pauw方法分别检测薄膜的结构、光学和电学特性，利用德鲁特模型和...
评级：0 浏览量：54 收藏量：0 资源大小：362KB 上传时间：2021-05-18

: 快速热处理对磁控溅射VO2薄膜光电特性的影响采用反应磁控溅射法制备二氧化钒(VO2)薄膜，并对其进行快速热处理(RTP)。主要研究500 ℃快速热处理10、15、20 s工艺条件下VO2薄膜结晶状况和光电性能的变化。在20 ℃~80 ℃温区内，应用四探针薄膜电阻测试方法和太...
评级：0 浏览量：97 收藏量：0 资源大小：3.06MB 上传时间：2021-02-09

: PET基片上射频磁控溅射不同厚度ITO薄膜的光电学特性 (2013年) 采用射频磁控溅射技术，室温下在PET柔性衬底上沉积不同厚度的掺锡氧化铟(ITO)薄膜，样品的结构、形貌和光电学性质分别用x射线衍射仪、原子力显微镜、分光光度计和Van der Pauw方法测量．实验结果表明：在其它参数...
评级：0 浏览量：134 收藏量：0 资源大小：304KB 上传时间：2021-05-18

: 反应磁控溅射方法制备BCN薄膜的高温抗氧化性为了考察BCN薄膜的高温抗氧化,用反应磁控溅射方法在高速钢基体上制备了BCN硬质薄膜材料,用X射线衍射仪(XRD)、高分辨透射电镜(HRTEM)、扫描电镜(SEM)、傅里叶变换红外光谱(FTIR)和显微硬度计等方法研究了BCN薄膜的...
评级：0 浏览量：189 收藏量：0 资源大小：1.12MB 上传时间：2020-06-23

: DC反应磁控溅射制备VO2薄膜及XPS分析 (2005年) 文章通过改变玻璃基温度和靶基间距，采用m（O2）/m（Ar）为1∶12.5，溅射功率为190W，工作真空度为2.2Pa，用DC磁控溅射法在玻璃基上沉积VO2薄膜，并经真空退火处理，制备的试样通过XPS测试分析薄膜表面的元素组成及...
评级：0 浏览量：33 收藏量：0 资源大小：261KB 上传时间：2021-05-10

: 沉积压力对磁控溅射Mg薄膜结构的影响 (2012年) 采用直流磁控溅射方法在氧化锆固体电解质表面制备了Mg金属薄膜,利用XRD和SEM研究了沉积压力(0.9～2.1 Pa)对薄膜形貌和结构的影响.结果表明:随着沉积压力的提高,薄膜结晶程度逐渐变差,晶粒尺寸减小,表面粗糙度增大;...
评级：0 浏览量：47 收藏量：0 资源大小：289KB 上传时间：2021-06-14

: 非对称双极脉冲磁控溅射沉积氮化铬铝涂层的微观结构和硬度.pdf 非对称双极脉冲磁控溅射沉积氮化铬铝涂层的微观结构和硬度
评级：0 浏览量：72 收藏量：0 资源大小：1.37MB 上传时间：2021-07-27

: 射频磁控溅射沉积ITO薄膜性能及导电机理 (2006年) 将In203和Sn02粉末按质量比1: 1热压烧结制成靶材,采用射频磁控溅射制备了高性能的IT0薄膜。实验结果表明：氢气压强对薄膜的电阻率、可见光透射率TVIL有着重要的影响,其最佳值为0.2 Pa。IT0膜的方阻、T VIL和颜色与膜...
评级：0 浏览量：108 收藏量：0 资源大小：3.9MB 上传时间：2021-05-17

: 磁控溅射薄膜附着性能的影响因素 磁控溅射薄膜附着性能的影响因素，宋文龙，邓建新，磁控溅射薄膜技术应用日趋广泛，其中溅射薄膜的附着性是制约薄膜性能和使用的关键因素。结合作者已有研究，参考国内外现有的资料
评级：0 浏览量：245 收藏量：0 资源大小：340KB 上传时间：2020-01-26

: 溅射和退火温度对磁控溅射法生长的ZnO薄膜性质的影响溅射和退火温度对磁控溅射法生长的ZnO薄膜性质的影响，王彬，赵子文，利用磁控溅射法在Al203(001)衬底上生长ZnO薄膜，生长温度分别为500℃、550℃、600℃和650℃。生长后进行了800℃退火和1000℃退火处理。利用X
评级：0 浏览量：183 收藏量：0 资源大小：379KB 上传时间：2020-02-19

: 反应磁控溅射制备五氧化二铌光学薄膜 (2004年) 利用低频反应磁控溅射制备五氧化二铌光学薄膜。薄膜的微结构、表面形貌和光学性质等分别采用x射线衍射、场发射扫描电子显微镜、原子力显微镜和紫外可见近红外分光光度计等观察和测量。测量发现溅射制备的光学薄膜为...
评级：0 浏览量：70 收藏量：0 资源大小：2.93MB 上传时间：2021-06-12

: 磁控溅射钦膜的沉积过程及表面形貌研究 (2009年) 实验研究了在磁控溅射工艺的溅射功率和工作压强恒定的情况下，薄膜在基底表面的沉积及生长的过程。结果表明，在溅射参数恒定、Ti膜尚未连续的情况下，薄膜的覆盖率的对数与时间基本成正比关系，即薄膜的覆盖率随时间...
评级：0 浏览量：68 收藏量：0 资源大小：310KB 上传时间：2021-05-21

: 对向靶磁控溅射纳米氧化钒薄膜的热氧化处理 (2009年) 采用直流对向靶磁控溅射方法制备低价态纳米氧化钒薄膜,研究热氧化处理温度和时间对氧化钒薄膜的组分、结构和电阻温度特性的影响。采用X射线光电子能谱(XPS)、X射线衍射(XRD)和原子力显微镜(AFM)对氧化钒薄膜的组分、...
评级：0 浏览量：42 收藏量：0 资源大小：620KB 上传时间：2021-05-26

: 磁控溅射偏压对Zr-Si-N扩散阻挡层组织结构的影响 (2004年) 用反应磁控溅射法在不同偏压下沉积了Zr-Si-N扩散阻挡层。结果表明Zr-Si-N膜的成分、电阻率和结构均随偏压的改变而不同;随着溅射偏压的增加,Zr-Si-N膜的表面粗糙度值增大;Zr/ Si比值也随着偏压的增加而增大;电阻率随...
评级：0 浏览量：81 收藏量：0 资源大小：2.43MB 上传时间：2021-04-26

: 直流磁控溅射氧化铟锡薄膜的低温等离子退火研究 (2007年) 提出了一种可显著改善室温下直流磁控溅射氧化铟锡（ITO）薄膜晶体结构、光学和电学性能的后处理方法，将ITO薄膜分别置于氩气、氨气和氧气中进行低温等离子体退火处理。同单纯的退火处理相比，在3种气氛下，低温...
评级：0 浏览量：46 收藏量：0 资源大小：1.82MB 上传时间：2021-04-22

: 磁控溅射法制备的羟基磷灰石?氧化锆涂层的力学性能 (2012年) 采用磁控溅射法在Ti6Al4V钛合金基体上制备羟基磷灰石(HA)?氧化锆(ZrO2)复合涂层，通过SEM、E DS、XRD 和划痕法对 50HA?50ZrO2 和 75HA?25ZrO2(质量分数，%)涂层进行表征，分析 HA 含量对涂层残余应力的影响。实验...
评级：0 浏览量：41 收藏量：0 资源大小：4.27MB 上传时间：2021-04-23

: 磁控溅射TiN薄膜工艺参数对显微硬度的影响 (2007年) 测试了各种工艺参数下磁控溅射制备 TiN薄膜的显微硬度,并研究了 TiN薄膜硬度随偏压、N 2流量及溅射功率的变化。实验结果表明:N2流量对薄膜性能和结构影响较大,随着 N2流量的增加,氮化钛薄膜的硬度先急剧上升,到15 ...
评级：0 浏览量：59 收藏量：0 资源大小：177KB 上传时间：2021-05-30

: 偏压对磁控溅射Cr-N薄膜组织及性能影响 (2010年) 采用磁控溅射离子镀制备Cr-N薄膜,研究基体偏压对Cr-N薄膜组织结构和性能的影响。分别用辉光放电光电子谱(GDOES)、场发射扫描电镜(FESEM)和X射线衍射(XRD)分析薄膜成分和组织结构,显微硬度计测量薄膜硬度。结果表明,...
评级：0 浏览量：60 收藏量：0 资源大小：1.16MB 上传时间：2021-05-31

: 反应磁控溅射沉积工艺对Cr-N涂层微观结构的影响 (2008年) 研究在不同工艺条件下用直流反应磁控溅射技术在T10衬底上制备Cr-N涂层,并采用光电子能谱仪和XRD依次分析Cr-N涂层的表面结构和工艺参数对Cr-N涂层成分及相组成的影响。结果表明,Cr-N涂层在存放一段时间后表面产生复杂...
评级：0 浏览量：92 收藏量：0 资源大小：722KB 上传时间：2021-05-12

: 直流反应磁控溅射氮化钛薄膜电极的工艺研究直流反应磁控溅射氮化钛薄膜电极的工艺研究，王男，周大雨，采用直流磁控溅射技术在Si（100）基片上制备了不同溅射电流以及不同氩氮比下的氮化钛（TiN）纳米薄膜电极。通过表面台阶测试仪﹑四�
评级：0 浏览量：156 收藏量：0 资源大小：652KB 上传时间：2020-02-11

: 射频磁控溅射种子层制备（Pb0.8Ca0.2）TiO3薄膜的微观结构和电学性能具有和不具有Pb0.8La0.1Ca0.1Ti0.975O3（PLCT）种子层的四方（Pb0.8Ca0.2）TiO3（PCT）薄膜通过射频磁控溅射在Pt（111）/ Ti / SiO2 / Si衬底上沉积了Pt（111）。种子的影响对PCT薄膜的微观结构和电性能进行了研究...
评级：0 浏览量：105 收藏量：0 资源大小：401KB 上传时间：2021-03-10

: 磁控溅射技术的发展背景、现状及前景
评级：0 浏览量：540 收藏量：1 资源大小：563KB 上传时间：2016-04-04

: 基于蛋白石模板的磁控溅射制备三维核壳结构ZnO光子晶体及其表征使用聚苯乙烯（PS）蛋白石模板和RF磁控管溅射，三-三维（3D）的氧化锌（ZnO）的光子晶体的核心（如PC） -壳结构制备。扫描电子显微镜（SEM）光谱表明有多达样品中五层而X射线衍射（XRD）谱表明它们是六方纤锌矿结构...
评级：0 浏览量：72 收藏量：0 资源大小：1.26MB 上传时间：2021-03-31

资源推荐

相关资源标签

磁控溅射磁控溅射技术硬质薄膜磁控溅射镀膜首发论文力学性能 high magnetron thin film mechanica vanadium rapid terahertz phase graded reactive 表面粗糙 annealing surface laser trans substrate direct 静态性能 static 薄膜光学电致变色 ZnO; Finite element analysis; sputtering Power; resin films; Pyroelectric properties; Texture 透明导电薄膜 sputtering; Composite opals; Photonic crystal; Zinc oxide 直流磁控溅射 X射线衍射扫描电子显微镜工程技术论文自然科学 DSP 电源设计