磁控溅射技术

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磁控溅射技术

: 磁控溅射技术 ### 磁控溅射技术概述与发展 磁控溅射技术作为现代镀膜技术的一种重要分支，因其在沉积速率、膜基结合强度以及操作稳定性等方面的卓越表现，被广泛应用于微电子、光学薄膜以及材料表面改性等多个领域。本文旨在深入...
评级：0 浏览量：303 收藏量：0 资源大小：166KB 上传时间：2011-10-26

: 用磁控溅射技术制备氮化铝薄膜 磁控溅射技术是一种在真空室内利用高能粒子轰击靶材，使靶材表面原子逸出并沉积在衬底上形成薄膜的物理气相沉积方法。它被广泛用于制备具有特殊功能的薄膜材料，比如本篇文章中提到的氮化铝薄膜。氮化铝薄膜由于其...
评级：0 浏览量：175 收藏量：0 资源大小：921KB 上传时间：2021-02-06

: 磁控溅射技术的发展背景、现状及前景根据给定文件的信息，我们可以详细地探讨磁控溅射技术的发展背景、现状及前景，同时对等离子增强磁控溅射技术进行深入分析。 ### 发展背景 磁控溅射技术作为一种重要的表面处理方法，其起源可以追溯到20世纪初。...
评级：0 浏览量：557 收藏量：1 资源大小：563KB 上传时间：2016-04-04

: 磁控溅射技术优缺点.pdf 磁控溅射技术是一种在物质表面沉积薄膜的重要方法，它在半导体、光学、电子、航空航天等领域有着广泛应用。这种技术自20世纪70年代初发展以来，因其独特的优点而受到青睐，但也存在一些不可忽视的缺点。以下是磁控...
评级：0 浏览量：76 收藏量：0 资源大小：4KB 上传时间：2021-12-05

: 磁控溅射技术及其应用PPT学习教案.pptx * 近15年来，磁控溅射技术飞速发展，出现了一系列新的溅射技术，如平衡磁控溅射技术、非平衡磁控溅射技术、多靶非平衡磁控溅射技术、反应磁控溅射技术、中频磁控溅射技术、脉冲磁控溅射技术。二、磁控溅射技术原理...
评级：0 浏览量：62 收藏量：0 资源大小：919KB 上传时间：2021-10-10

: 磁控溅射技术新进展及应用 磁控溅射技术作为一种先进的薄膜制备方法，在材料科学领域占据着重要的地位。该技术的发展不仅推动了新材料的研发，还促进了多个行业的技术创新。以下是对磁控溅射技术新进展及应用的详细解析。 ### 基本原理磁控...
评级：0 浏览量：168 收藏量：0 资源大小：181KB 上传时间：2012-04-22

: 电子功用-基于直流磁控溅射技术的干式软电极及其制备工艺《电子功用-基于直流磁控溅射技术的干式软电极及其制备工艺》这份行业资料详尽地探讨了现代电子技术中的一个重要领域——干式软电极的制造过程，特别是利用直流磁控溅射技术来实现。该技术在半导体、微电子、纳米...
评级：0 浏览量：69 收藏量：0 资源大小：349KB 上传时间：2021-09-15

: 利用磁控溅射技术提高绝缘金属基板PCB的散热性能 1、介绍　发光二极管（ LED）是一种将电能转换成光固态的半导体器件。相比传统的白炽灯，LED 具有使用寿命长，色域宽，经久耐用，设计灵活，控制简单，环保等优点。因此，LED 被认为是未来有潜力的光源。...
评级：0 浏览量：113 收藏量：0 资源大小：299KB 上传时间：2021-01-19

: PVD磁控溅射镀膜工艺理论 3. **装饰行业**：通过磁控溅射技术可以在各种材料表面镀上金属薄膜，赋予其金属光泽，提高装饰效果。 #### 六、结论磁控溅射作为一种高效的PVD技术，在多个行业中发挥着重要作用。通过对磁控溅射工作原理的深入...
评级：0 浏览量：1105 收藏量：7 资源大小：2.05MB 上传时间：2017-07-19

: 行业资料-电子功用-利用磁控溅射技术制备锂硫电池正极片的方法的介绍分析.rar 磁控溅射技术作为一种先进的薄膜沉积方法，被广泛应用于材料科学和半导体制造领域，它在这篇资料中被用来制备锂硫电池的正极片。本文将深入探讨磁控溅射技术及其在锂硫电池正极片制备中的应用。锂硫电池的核心在于...
评级：0 浏览量：52 收藏量：0 资源大小：407KB 上传时间：2021-09-21

: 基于DSP的直流磁控溅射电源设计-论文直流磁控溅射技术因其操作工艺简单、镀层牢固以及薄膜性能优异等优点，在微电子、光学薄膜和材料科学等众多领域有着广泛的应用。磁控溅射电源需要满足特定的技术要求以应对磁控溅射过程中负载特性变化所带来的挑战...
评级：0 浏览量：91 收藏量：0 资源大小：1.7MB 上传时间：2021-05-19

: 电子功用-基于磁控溅射技术沉积太阳能电池用硅薄膜的方法行业资料-电子功用-基于磁控溅射技术沉积太阳能电池用硅薄膜的方法
评级：0 浏览量：45 收藏量：0 资源大小：591KB 上传时间：2021-09-15

: 直流反应磁控溅射氮化钛薄膜电极的工艺研究直流磁控溅射技术利用直流电源在靶材与基片间产生电场，通过气体放电产生等离子体，使得靶材表面的原子或分子被溅射出来，并在基片上沉积形成薄膜。为了制备氮化钛薄膜电极，首先需要在硅（100）基片上进行沉积。...
评级：0 浏览量：171 收藏量：0 资源大小：652KB 上传时间：2020-02-11

: 非对称双极脉冲磁控溅射沉积氮化铬铝涂层的微观结构和硬度.pdf 在当前所给文件中，涉及了非对称双极脉冲磁控溅射技术以及氮化铬铝涂层的微观结构和硬度研究。以下为相关的详细知识点介绍：一、非对称双极脉冲磁控溅射技术 非对称双极脉冲磁控溅射技术是磁控溅射方法中的一种。...
评级：0 浏览量：89 收藏量：0 资源大小：1.37MB 上传时间：2021-07-27

: 直流磁控溅射制备超导TiN薄膜在本文中，研究者们利用直流磁控溅射技术在室温下于高阻硅上制备了TiN薄膜。TiN作为一种具有超导特性的材料，其薄膜形式广泛用于微电子和超导量子计算领域。由于直流磁控溅射技术能够在低温条件下制备薄膜，因此可以...
评级：0 浏览量：284 收藏量：0 资源大小：627KB 上传时间：2020-01-29

: 中频孪生磁控溅射WO 采用先进的中频孪生非平衡磁控溅射技术,以金属钨为靶材,制备非晶态WO3电致变色薄膜。用X射线衍射(XRD)、X射线光电子能谱(XPS)、紫外分光光度计等测试手段分析薄膜的结构、表面形貌、成分以及透射光谱特性。研究了...
评级：0 浏览量：72 收藏量：0 资源大小：760KB 上传时间：2021-02-11

: 直流诱导的高功率脉冲非平衡磁控溅射 直流诱导的高功率脉冲非平衡磁控溅射技术是一种先进的表面处理技术，它利用直流电源放电，并通过控制放电参数（如磁场分布、气压和功率等），形成高功率脉冲。这种技术能有效改变溅射靶的非平衡度，适用于制备高密度...
评级：0 浏览量：98 收藏量：0 资源大小：359KB 上传时间：2020-01-18

: 磁控溅射制备TaN薄膜研究 磁控溅射是一种利用磁场控制电子运动轨迹、提高电子与气体碰撞几率从而增强气体电离的物理气相沉积技术。该技术广泛应用于薄膜材料的制备，尤其是在对薄膜成分、结构和性能有严格要求的应用领域。本文所关注的TaN...
评级：0 浏览量：230 收藏量：0 资源大小：187KB 上传时间：2020-01-28

: 磁控溅射启辉电压波动和机理 磁控溅射技术是一种广泛应用于薄膜沉积的工艺，它通过利用阴极靶表面的磁场与电场的交叉作用来增加电荷密度和电离率，从而提高溅射效率和降低放电气压。深入了解磁控溅射的放电特性对于精确控制沉积过程至关重要，...
评级：0 浏览量：380 收藏量：0 资源大小：339KB 上传时间：2019-12-30

: 磁控溅射制备TiO2薄膜及其光学特性研究 (2010年) ### 磁控溅射制备TiO2薄膜及其光学特性研究 #### 一、引言 TiO2薄膜作为一种重要的半导体材料，在多种领域中展现出卓越的应用价值，例如作为减反射膜、保护涂层、光波导、光催化、防雾玻璃等。近年来，由于其在...
评级：0 浏览量：71 收藏量：0 资源大小：619KB 上传时间：2021-04-27

: 反应磁控溅射沉积工艺对Cr-N涂层微观结构的影响 (2008年) 研究在不同工艺条件下用直流反应磁控溅射技术在T10衬底上制备Cr-N涂层,并采用光电子能谱仪和XRD依次分析Cr-N涂层的表面结构和工艺参数对Cr-N涂层成分及相组成的影响。结果表明,Cr-N涂层在存放一段时间后表面产生复杂...
评级：0 浏览量：110 收藏量：0 资源大小：722KB 上传时间：2021-05-12

: 磁控溅射薄膜附着性能的影响因素薄膜的附着性能直接关系到其在应用中的可靠性和性能表现，是磁控溅射技术研究中不可或缺的一部分。影响磁控溅射薄膜附着性能的因素主要包括基体的预处理、沉积过程的工艺参数和薄膜与基体材料的匹配三个方面。 ...
评级：0 浏览量：274 收藏量：0 资源大小：340KB 上传时间：2020-01-26

: 磁约束磁控溅射源的磁场设计 (2010年) 磁控溅射镀膜机中的磁场分布对靶材利用率有着重要影响。为了提高磁控溅射源的靶材利用率,设计组抛弃了传统的“跑道环”形式的磁场设计理念,而是将永磁体或电磁体分置溅射靶的两侧,使其在溅射靶表面上方产生磁约束 ...
评级：0 浏览量：105 收藏量：0 资源大小：2MB 上传时间：2021-05-22

: 直流磁控溅射制备非晶硅薄膜的研究直流磁控溅射具有工艺简单，沉积温度低等优点，是制备薄膜的一种重要技术。采用直流磁控溅射工艺在玻璃基板上沉积薄膜，并对样品进行了退火处理。研究了沉积速率与溅射功率的关系。结果表明薄膜的沉积速率与溅射功率...
评级：0 浏览量：91 收藏量：0 资源大小：662KB 上传时间：2021-04-18

: 沉积压力对磁控溅射Mg薄膜结构的影响 (2012年) 采用直流磁控溅射方法在氧化锆固体电解质表面制备了Mg金属薄膜,利用XRD和SEM研究了沉积压力(0.9～2.1 Pa)对薄膜形貌和结构的影响.结果表明:随着沉积压力的提高,薄膜结晶程度逐渐变差,晶粒尺寸减小,表面粗糙度增大;...
评级：0 浏览量：54 收藏量：0 资源大小：289KB 上传时间：2021-06-14

: 磁控溅射镀膜技术发展 #### 一、磁控溅射技术概述磁控溅射作为一种先进的镀膜技术，在工业镀膜领域占据着举足轻重的地位。该技术通过利用磁场与电场的相互作用，提高了等离子体中的离子密度和能量，从而提升了材料的溅射效率和镀膜质量...
评级：0 浏览量：154 收藏量：0 资源大小：378KB 上传时间：2010-10-24

: 室温下射频磁控溅射制备ZnO:Al透明导电薄膜及其性能研究采用射频磁控溅射技术,在室温下,以ZnO:Al2O3(2%Al2O3(质量比))为靶材,在石英玻璃基底上,采用不同工艺条件制备了ZnO:Al(AZO)薄膜。使用扫描电子显微镜观察了薄膜的表面形貌,X射线衍射分析了薄膜的结构,四探针测量仪...
评级：0 浏览量：119 收藏量：0 资源大小：538KB 上传时间：2021-03-11

: 工作功率对射频磁控溅射沉积硼薄膜性能的影响通过本研究可以进一步了解射频磁控溅射技术在制备硼薄膜材料过程中的作用机制，并为优化工艺参数以提高薄膜质量提供理论依据和技术指导。在半导体器件等高科技领域，通过精确控制沉积条件，可以实现对硼薄膜性能的...
评级：0 浏览量：75 收藏量：0 资源大小：1.46MB 上传时间：2021-03-17

: 磁控溅射镀膜原理与工艺设计.doc 磁控溅射镀膜技术的研究和应用需要深入了解溅射原理和工艺设计，掌握磁控溅射技术的原理和应用领域，了解溅射变量的调整和控制，以获得高质量的膜层。同时，磁控溅射镀膜技术的发展和应用还需要结合实际情况，考察...
评级：0 浏览量：93 收藏量：0 资源大小：142KB 上传时间：2021-10-11

: 功率对射频磁控溅射生长ZnO薄膜性能的影响通过使用不同溅射功率的射频（RF）磁控溅射技术，在石英衬底上生长了氧化锌（ZnO）薄膜，该技术将其功率从10 W调整到200W。发现溅射功率起着重要的作用。在电影的成长过程中。检查了结晶度，吸收和光致发光（PL）的...
评级：0 浏览量：136 收藏量：0 资源大小：640KB 上传时间：2021-02-24

: 射频磁控溅射制备Zn0光波导薄膜 (2010年) #### 一、射频磁控溅射技术简介射频磁控溅射（RF Magnetron Sputtering）是一种常用的薄膜沉积技术，它结合了射频溅射与磁控溅射的优点，可以在较低的工作气压下实现高速度的薄膜沉积。这项技术广泛应用于多种材料...
评级：0 浏览量：37 收藏量：0 资源大小：765KB 上传时间：2021-04-22

: 射频磁控溅射沉积ITO薄膜性能及导电机理 (2006年) 将In203和Sn02粉末按质量比1: 1热压烧结制成靶材,采用射频磁控溅射制备了高性能的IT0薄膜。实验结果表明：氢气压强对薄膜的电阻率、可见光透射率TVIL有着重要的影响,其最佳值为0.2 Pa。IT0膜的方阻、T VIL和颜色与膜...
评级：0 浏览量：124 收藏量：0 资源大小：3.9MB 上传时间：2021-05-17

: 磁控溅射TiN薄膜工艺参数对显微硬度的影响 (2007年) 测试了各种工艺参数下磁控溅射制备 TiN薄膜的显微硬度,并研究了 TiN薄膜硬度随偏压、N 2流量及溅射功率的变化。实验结果表明:N2流量对薄膜性能和结构影响较大,随着 N2流量的增加,氮化钛薄膜的硬度先急剧上升,到15 ...
评级：0 浏览量：71 收藏量：0 资源大小：177KB 上传时间：2021-05-30

: 磁控溅射制备全固态薄膜锂离子二次电池及其性能研究 (2013年) 本文详细介绍了全固态薄膜锂离子二次电池的制备过程，以及如何通过磁控溅射技术将粉末靶材制成薄膜，以及后续电化学性能的研究。下面是对本文知识点的详尽解析。磁控溅射是一种物理气相沉积技术，它利用磁场控制...
评级：0 浏览量：46 收藏量：0 资源大小：1.37MB 上传时间：2021-04-26

: 磁控溅射偏压对Zr-Si-N扩散阻挡层组织结构的影响 (2004年) 用反应磁控溅射法在不同偏压下沉积了Zr-Si-N扩散阻挡层。结果表明Zr-Si-N膜的成分、电阻率和结构均随偏压的改变而不同;随着溅射偏压的增加,Zr-Si-N膜的表面粗糙度值增大;Zr/ Si比值也随着偏压的增加而增大;电阻率随...
评级：0 浏览量：97 收藏量：0 资源大小：2.43MB 上传时间：2021-04-26

: 磁控溅射法制备的羟基磷灰石?氧化锆涂层的力学性能 (2012年) 采用磁控溅射法在Ti6Al4V钛合金基体上制备羟基磷灰石(HA)?氧化锆(ZrO2)复合涂层，通过SEM、E DS、XRD 和划痕法对 50HA?50ZrO2 和 75HA?25ZrO2(质量分数，%)涂层进行表征，分析 HA 含量对涂层残余应力的影响。实验...
评级：0 浏览量：51 收藏量：0 资源大小：4.27MB 上传时间：2021-04-23

: 直流磁控溅射氧化铟锡薄膜的低温等离子退火研究 (2007年) 提出了一种可显著改善室温下直流磁控溅射氧化铟锡（ITO）薄膜晶体结构、光学和电学性能的后处理方法，将ITO薄膜分别置于氩气、氨气和氧气中进行低温等离子体退火处理。同单纯的退火处理相比，在3种气氛下，低温...
评级：0 浏览量：60 收藏量：0 资源大小：1.82MB 上传时间：2021-04-22

: 脉冲磁控溅射制备树脂镜片红外防护功能薄膜选取氮化硅和二氧化硅作为薄膜材料，借助膜系设计软件对膜系结构进行优化，采用中频脉冲磁控溅射技术进行薄膜制备。利用高反膜透射曲线拟合方法调整薄膜的实际沉积速率，减少膜厚控制误差，在树脂镜片CR39基底的凸面...
评级：0 浏览量：90 收藏量：0 资源大小：1.85MB 上传时间：2021-02-26

: 磁控溅射NiO/ZnO透明异质结二极管及其光电特性研究* (2011年) 采用磁控溅射方法在ITO玻璃基板上沉积NiO，ZnO，AZO三层透明氧化物薄膜，成功制备了NiO/ZnO透明异质结二极管。实验结果表明，PN结展示出明显的，1-V整流特性，正向开启电压1V；在氙灯光照条件下，二极管反向电流在5V...
评级：0 浏览量：54 收藏量：0 资源大小：218KB 上传时间：2021-05-15

: 磁控溅射制备TiCN复合膜的微结构与性能 (2012年) 本研究通过磁控溅射技术制备了一系列不同石墨靶功率下的TiCN复合膜，并对其微结构、力学性能以及在室温和高温下的摩擦磨损性能进行了深入分析。TiCN复合膜作为一种重要的硬质涂层材料，其性能对现代工业生产具有重要...
评级：0 浏览量：57 收藏量：0 资源大小：1.65MB 上传时间：2021-05-25

: 磁控溅射法制备钛掺杂WO 采用中频孪生非平衡磁控溅射技术制备钛掺杂WO3薄膜。运用X射线衍射(XRD), 拉曼光谱、紫外分光光度计、计时安培分析仪和原子力显微镜(AFM)等测试手段分析了钛掺杂WO3薄膜的结构和光学性能。实验结果表明, 掺杂后的...
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: 磁控溅射制备持久性银反射镜研究本文献主要探讨了通过磁控溅射技术制备一种新型的银反射镜，该反射镜具有良好的光谱特性和环境稳定性。研究团队通过改变Ar/N2混合气体的比例来优化银反射镜的性能，并详细分析了N2比例变化对Ag薄膜、介质保护层以及...
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: 磁控溅射制备TiO2光催化薄膜工艺条件的优化 (2007年) 1. **磁控溅射技术概述**： - **定义**：磁控溅射是一种高效的薄膜制备技术，通过在真空环境下使用磁场和电场将靶材原子溅射出来并沉积到基片上形成薄膜。 - **特点**：沉积速度快、薄膜质量高、成膜均匀性及重复...
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: 磁控溅射ZrAIN薄膜的硬度和断裂韧性 (2014年) 采用磁控溅射技术在钛合金和单晶Si上沉积原子分数x(Al)分别为5％、23％、47％、63％的ZrAlN薄膜，并考察了薄膜硬度和断裂韧性。采用场发射扫描电镜观察截面形貌，X射线衍射(X-Ray Diffraction，XRD)分析物相结构。...
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: Mg_2Si半导体薄膜的磁控溅射制备.pdf 标题"Mg_2Si半导体薄膜的磁控溅射制备.pdf"主要探讨的是利用磁控溅射技术制备Mg2Si半导体薄膜的过程，并通过退火工艺对其结构和性能进行优化。该研究由肖清泉等人进行，属于半导体材料领域的专业指导。在半导体...
评级：0 浏览量：64 收藏量：0 资源大小：316KB 上传时间：2021-08-29

: 磁控溅射镀膜原理及工艺.doc 磁控溅射镀膜技术可以分为直流（DC）磁控溅射、中频（MF）磁控溅射、射频（RF）磁控溅射等多种类型，每种类型都有其特点和应用对象。 磁控溅射镀膜技术的原理是基于电子在电场E的作用下，在飞向基片过程中与氩原子...
评级：0 浏览量：148 收藏量：0 资源大小：150KB 上传时间：2021-09-25

: 基于FPGA的新型非对称双极脉冲磁控溅射电源的研究.pdf 磁控溅射技术可以用于生产各种薄膜，如导电膜、绝缘膜、光学膜等。 3. 双极脉冲磁控溅射电源双极脉冲磁控溅射电源指的是在磁控溅射过程中，采用具有正负脉冲输出的电源。这种电源能够交替地在正负电极之间施加电压...
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: 磁控溅射法制备氧化钒薄膜的研究 磁控溅射技术因具有薄膜沉积速率高、基片温度低、可以制备高纯度薄膜等优点，在制备氧化钒薄膜领域具有重要应用。氧化钒（VOx）是一类在一定温度范围内会发生金属-绝缘体转变（MIT）现象的材料，由于其独特的电学...
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