磁控溅射靶源设计及溅射工艺研究 (1999年)

设计制作了方便实用的圆形直流平面磁控溅射靶源;用CT―5型高斯计测量铝靶面上的磁场分布,给出靶电压和靶电流随溅射氩气压(3.0×10-1～9.0×10-1Pa)的变化曲线和3种不同气压(1.0,0.6,0.2Pa)下的伏安特性曲线;在玻璃基体上制备了高纯铝、铜和钛膜.结果表明,该靶源可得到最佳磁场分布,且结构简单、更换靶材方便、溅射电压和气压低、成膜速度快、基体温升低.