Ge/ Al-SiO2薄膜材料的非线性光学特性 (2012年)

采用磁控共溅射及后退火技术制备Ge,Al共掺SiO2薄膜,通过X射线衍射谱和傅里叶红外吸收谱对样品进行表征,并采用皮秒脉冲激光器的单光束Z扫描技术研究薄膜的三阶非线性光学特性.研究结果表明:薄膜材料对1064 nm的光具有自散焦和双光子吸收效应,薄膜的三阶极化率χ(3 )为3.84×10 - 16 m2・V- 2 .薄膜材料的三阶非线性极化率比Si O2和GeO2均有显著的提高,说明薄膜材料中的纳米Ge颗粒的量子限域效应及双光子吸收效应是其产生非线性光学效应增强的主要原因,同时Al的掺杂也促进了材料的三阶