薄膜非晶硅

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薄膜非晶硅

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: 直流磁控溅射制备非晶硅薄膜的研究 非晶硅薄膜（a-Si）是目前重要的光敏材料，在很多领域得到广泛应用。直流磁控溅射具有工艺简单，沉积温度低等优点，是制备薄膜的一种重要技术。采用直流磁控溅射工艺在玻璃基板上沉积薄膜，并对样品进行了退火处理。...
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: 本征非晶硅薄膜钝化晶体表面特性的DLTS分析以SiH4和H2作为气源, 采用热丝化学气相沉积法制备a-Si∶H薄膜钝化c-Si表面, 采用准稳态光电导法和I-V法分析了工艺参数对钝化效果的影响, 采用C-V法和深能级瞬态谱法对钝化后硅片表面的缺陷态进行测试。实验结果表明,...
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: 不同沉积温度下非晶硅光学薄膜的光学特性研究光学薄膜的光学特性是薄膜设计与制备的基础。硅材料是红外光学薄膜中一种重要...研究了在不同沉积温度下非晶硅光学薄膜的折射率和消光系数的变化。结果表明，在200 ℃时，硅薄膜折射率最大，消光系数随温度升高而减小。
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: 激光化学气相沉积非晶硅 本文报道了CO2激光化学气相沉积非晶硅的实验研究。实验结果表明,非晶硅的沉积速率与气室气压和基片温度密切相关。用各种手段测试了样品的性质,证实沉积得到的薄膜确是非晶硅,而且具有良好的光电导性。
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: 柔性非晶硅薄膜太阳电池技术在过去的几十年中，人类经济活动的持续高速发展使得电力需求迅速增加。太阳电池是一种利用光生伏特效应将太阳能能直接转换为电能的半导体器件，很容易实现并网发电或作为独立能源。众所周知，太阳电池发电具有许多...
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: 表面粗糙氢化非晶硅薄膜光学常量的确定在此基础上计算的薄膜厚度以及透射光谱与制备的氢化非晶硅薄膜的相应测量结果基本一致，由此确定的光学常量也更接近实际量值。该方法的运算过程不基于最小值优化算法，无需复杂软件辅助，是准确确定表面粗糙薄膜的...
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: 电源技术中的非晶硅太阳电池的发展 非晶硅科技已转化为一支大规模的产业。世界上总组件生产力在每年五十兆瓦以上。组件及相关产品销售额在十亿美元以上，应用范围小到手表、计．器电源大到10儿瓦级的独立电站。涉及诸多品种的电子消费品、照明和家用...
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