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: Image lithography in telluride suboxide thin film through controlling “virtual” bandgap In this work, TeO0.7 thin films were prepared by the reactive magnetron-controlling sputtering method. Complex gray-scale patterns were successfully fabricated on TeO0.7 thin films through the laser ...
评级：0 浏览量：46 收藏量：0 资源大小：810KB 上传时间：2021-02-07

: Maskless Lithography推出大批量PCB生产用直写光刻设备 Maskless Lithography公司近日首次公开推出全新的可提高印制电路板（PCB）生产门槛的直写数字成像技术。Maskless Lithography是硅谷...　“这台设备的售出标志着我们五年的研发工作已经开花结果，” Maskless Lithograp
评级：0 浏览量：86 收藏量：1 资源大小：47KB 上传时间：2021-01-19

: 均匀辐照365 nm LED光源设计及其在光刻中的应用优化设计了365 nm紫外LED点光源阵列、聚焦透镜组的排布，实现了高强度均匀辐照的LED面光源。利用优化后的365 nm LED面光源进行了接触式曝光光刻实验，所得刻写图形与掩模板图形一致。提出的基于365 nm紫外LED阵列...
评级：0 浏览量：67 收藏量：0 资源大小：2.24MB 上传时间：2021-02-09

: 极紫外投影光刻物镜设计极紫外投影光刻用14 nm波长的电磁辐射，可以在实现高分辨率的同时保持相对较大的焦深，有希望成为制造超大规模集成电路的下一代光刻技术。极紫外投影光刻工作于步进扫描方式，采用全反射、无遮拦、缩小的环形视场...
评级：0 浏览量：117 收藏量：1 资源大小：895KB 上传时间：2021-02-10

: 单模共振干涉光刻曝光显影模拟研究针对纳米光栅的加工需求，提出一种以柱形光栅耦合结构为基础的单模共振干涉光刻方法。该方法以柱形光栅耦合结构为掩模，结合光刻胶和基底层形成介质波导，入射光经过光栅衍射后以特定衍射级次(±1级)进入光刻胶形成...
评级：0 浏览量：86 收藏量：1 资源大小：3.76MB 上传时间：2021-02-08

: 调焦调平探测光斑位置误差对测量准确度影响的研究调焦调平测量系统(FLMS),实时测量硅片曝光视场区域与投影物镜焦面的相对位姿,其测量准确度影响光刻机曝光成像质量。调焦调平测量采用大入射角将3个以上的探测光斑投影到硅片曝光视场区域实现对硅片高度和倾斜的测量...
评级：0 浏览量：113 收藏量：0 资源大小：1.22MB 上传时间：2021-02-10

: 基于琼斯矩阵的薄膜诱导偏振像差分析利用琼斯矩阵分析了大角度入射情况时薄膜诱导的偏振像差，通过理论推导提出了减小薄膜诱导偏振像差的膜系设计方法，即在满足最基本的透射率要求的前提下，将尽可能的减小任何入射角度的透射率差和相位差作为膜系优化...
评级：0 浏览量：92 收藏量：0 资源大小：2.56MB 上传时间：2021-02-26

: 准分子激光技术发展介绍了准分子的基本能级结构、光谱特性及产生激光的激励方式。简要回顾了准分子激光及实用准分子器件的发展历史。着重阐述了放电激励准分子器件的相关技术,如大能量与大功率技术、高重复频率技术、光束控制技术和...
评级：0 浏览量：45 收藏量：0 资源大小：7.45MB 上传时间：2021-02-11

: 宽带折反射式紫外光刻物镜的设计本文设计了一种新系列的紫外或远紫外激光光刻物镜,它与国内外已有的紫外物镜相比,在365nm以下的光谱区,具有更宽的光谱工作带宽和较高的数值孔径.以宽带准分子激光或短弧汞氙灯做光源,无需另加色散补偿光学元件,可以...
评级：0 浏览量：48 收藏量：0 资源大小：945KB 上传时间：2021-02-10

: 太赫兹波段一维金属线栅的偏振特性研究基于时域有限差分法(FDTD)对一维金属线栅结构在0.2~2.6 THz波段的偏振特性进行了数值分析，研究了其结构参数如金属占空比、狭缝宽度以及线栅周期对相互垂直的两种偏振模式太赫兹波透射系数的影响。...
评级：0 浏览量：102 收藏量：2 资源大小：2.46MB 上传时间：2021-02-09

: 探针诱导表面等离子体共振纳米光刻系统提出了一种在原子力显微镜(AFM)基础上设计的探针诱导表面等离子体共振纳米光刻(PSPRN)系统。此系统不但实现了探针的精确控制,而且由于系统本身具有AFM的全部功能,因此可以实时检测样品表面的形貌以及光刻效果。...
评级：0 浏览量：127 收藏量：0 资源大小：530KB 上传时间：2021-02-10

: 一种新的带有线段与控制点映射模型的光学邻近校正技术在基于光刻模型的光学邻近校正(MB-OPC)中,线段与控制点的映射关系是影响校正结果的一个重要因素。现有的线段与控制点的映射关系均是基于规则的,或者是精度较差的一对一映射关系,或者是计算速度较慢的全对一映射关系...
评级：0 浏览量：61 收藏量：0 资源大小：4.66MB 上传时间：2021-02-09

: 一种基于空间光调制器的微透镜阵列制备技术提出了一种基于空间光调制器的并行光刻制备微透镜阵列的技术。采用数字微反射镜器件输入光刻图形，结合热回流技术，制作任意结构和排布的微透镜阵列。无限远校正显微微缩光学系统的长焦深保证了深纹光刻的实现，热...
评级：0 浏览量：90 收藏量：0 资源大小：3.27MB 上传时间：2021-02-09

: 基于自相干叠栅条纹的光刻机对准技术随着光刻技术向10 nm及以下工艺节点的延伸, 光刻工艺对套刻精度提出了更高的要求, 相应的对准精度的要求已经达到亚纳米量级。提出一种基于自相干叠栅条纹的光刻机对准方法, 其原理是利用对准系统的光学结构将位相型...
评级：0 浏览量：107 收藏量：0 资源大小：9.52MB 上传时间：2021-02-04

: 光刻投影物镜的琼斯光瞳检测方法提出一种基于琼斯光瞳的光刻投影物镜偏振像差检测方法。推导了基于琼斯矩阵的检测方程，建立了光强矢量与琼斯矩阵克氏积的线性关系，利用该线性关系直接检测琼斯光瞳形式的偏振像差。以一个典型的光刻投影物镜的琼斯...
评级：0 浏览量：128 收藏量：0 资源大小：11.28MB 上传时间：2021-02-22

: 全球面变焦距光刻系统设计设计了一种采用全球面透镜并具有变焦距功能的光刻系统。系统具有4个机械变焦的位置，两片负透镜作为变倍组，两片正透镜作为移动补偿组，补偿在变焦过程中由于系统共轭距离变化造成的像面移动。该系统光学总长为653....
评级：0 浏览量：54 收藏量：0 资源大小：3.94MB 上传时间：2021-02-12

: 一维版图的快速光刻仿真充分利用光刻系统中光源的部分相干特性和一维图形的特性，提出了针对一维版图的快速平面光刻仿真算法。该方法由一维基元图形查表法、最小查找表及其边缘延伸和无切割的大面积版图仿真组成。仿真结果表明，在保证极高...
评级：0 浏览量：177 收藏量：1 资源大小：5.26MB 上传时间：2021-02-08

: 宽视场角1/4波片装调和加工误差对偏振检测的影响波片通常用于测量光学系统的偏振效应。对于大入射角的超高数值孔径（NA）成像系统，待测光不再平行于系统光轴，而是与系统光轴有较大夹角的圆锥形光束，所以在高NA的成像系统中使用的波片不是传统的两片式零级1/4波...
评级：0 浏览量：100 收藏量：0 资源大小：6.52MB 上传时间：2021-02-25

: 精确控制大数值孔径微透镜列阵面形的显影阈值方法提出了一种可对大矢高、非球面微透镜阵列面形进行精确控制的新方法。针对不同面形的微透镜阵列，该方法首先对光致抗蚀剂表面的曝光分布进行设计，然后，利用光致抗蚀剂显影过程中的阈值特性，对微透镜的面形实行控制...
评级：0 浏览量：125 收藏量：0 资源大小：1004KB 上传时间：2021-02-10

: 光栅横向剪切干涉仪及其系统误差分析在分析光栅横向剪切干涉仪典型结构及系统参数配置，给出其适用范围的基础上，系统研究了该干涉仪结构最显著的系统误差：几何光程误差和探测器倾斜误差。采用Zernike多项式给出波前重建前后系统误差项的解析表达式；...
评级：0 浏览量：94 收藏量：0 资源大小：6.6MB 上传时间：2021-02-05

: 基于塔尔博特自成像光刻机的照明系统设计与分析针对塔尔博特自成像光刻机对照明系统的特定需求, 基于成像照明光学设计理论,引入非成像光学理论思想, 建立照明系统的初始结构。利用光学设计软件Zemax对照明系统光学初始结构进行优化, 并在Lighttools中对该照明系统...
评级：0 浏览量：140 收藏量：0 资源大小：7.64MB 上传时间：2021-02-04

: 光刻机照明系统的多自由度均匀性校正方法提出了一种光刻机照明系统的多自由度均匀性校正方法。当照明光瞳的部分相干因子发生变化时，该方法的校正手指只需整体在光轴方向进行微调就能使照明光场的均匀性满足要求。仿真分析了校正手指的三维空间移动对照明...
评级：0 浏览量：91 收藏量：0 资源大小：11.09MB 上传时间：2021-02-03

: 光栅横向剪切干涉仪系统误差的校正方法针对光栅横向剪切干涉仪研究了旋转绝对检测的方法，并用前36项Zernike多项式标定出剪切装置的系统误差非对称项。研究结果表明，将面形检测的绝对算法应用于检测镜头系统波像差，在干涉仪系统误差消除后可以达到相对...
评级：0 浏览量：82 收藏量：0 资源大小：7.32MB 上传时间：2021-01-27

: 标记非对称变形导致的对准误差修正方法及其在套刻测量中的应用硅片对准标记经过光刻工艺后产生的非对称变形会导致对准测量误差,目前普遍采用工艺验证的方法修正此对准测量误差,但该方法存在一定的工艺适应性问题。针对该对准测量误差,提出了一种新的修正方法,即利用非对称变形...
评级：0 浏览量：63 收藏量：0 资源大小：8.87MB 上传时间：2021-01-26

: 膜系引入偏振像差对投影光刻物镜设计的影响与改进为了实现高成像要求，投影光刻物镜在设计时需要考虑膜层偏振效应的影响，并进行相应的分析和评价。首先介绍了基于琼斯矩阵的偏振像差理论，然后以一个数值孔径（NA）为0.75的投影光刻物镜为例，设计了相应膜系，系统...
评级：0 浏览量：77 收藏量：0 资源大小：6.61MB 上传时间：2021-01-25

: 投影光刻物镜的计算机辅助装调针对投影光刻物镜苛刻的像质要求，将计算机辅助装调(CAA)技术引入投影光刻物镜的装调过程中，建立了相应的数学模型。选取33个视场Fringe Zernike多项式的4~37项，以及畸变作为校正对象，并选取19个结构参量作为补偿...
评级：0 浏览量：94 收藏量：1 资源大小：2.83MB 上传时间：2021-02-24

: 相移点衍射干涉仪的关键技术研究相移点衍射干涉仪（PS/PDI）是应用于极紫外光刻投影物镜波像差在线检测的高精度检测设备。在介绍国际相关机构PS/PDI研究进展的基础上，重点阐述在干涉仪优化设计、高精度对准、系统误差标定以及干涉图像处理等PS/PDI...
评级：0 浏览量：82 收藏量：0 资源大小：359KB 上传时间：2021-02-10

: 接近式光刻衍射光场的有效波前作用规律分析掩模图形不同区域的波前因衍射光的相干叠加作用而对光刻胶上的场点产生不同的影响。为研究这一作用规律,采用波前分割的方法对掩模图形上的波前进行区域划分,并利用光场相干叠加相互抵消的性质,最终得到了掩模图形上...
评级：0 浏览量：58 收藏量：0 资源大小：2.24MB 上传时间：2021-02-10

: 深紫外光刻投影物镜温度特性研究透镜材料对激光能量的吸收导致深紫外光刻投影物镜温度升高，产生热像差。离轴照明模式下，温度呈非对称分布，研究温度场对热像差的仿真预测和补偿具有十分重要的意义。提出了温度分布函数模型描述4种照明模式下物镜...
评级：0 浏览量：129 收藏量：0 资源大小：7.86MB 上传时间：2021-02-07

: 光刻物镜光瞳极平衡性标定方法极平衡作为光刻物镜的一项重要指标，受到多种误差因素综合调制，因此有必要准确区分各种误差源的独立贡献量。提出了一种标定方法，将远心度误差所引入的调制效果进行了解耦，对极平衡指标进行了标定，并与质心标定...
评级：0 浏览量：112 收藏量：0 资源大小：5.83MB 上传时间：2021-02-05

: 小型激光直写光刻系统针对早期研制的激光直写装置存在的刻写速度慢、功能不够完善的缺点，重新设计并搭建了一套小型激光直写光刻系统。该系统采用波长405 nm可高速模拟调制的单横模半导体激光器作为刻写光源，结构更为简单紧凑；...
评级：0 浏览量：136 收藏量：0 资源大小：6.07MB 上传时间：2021-02-05

: 接近式光刻对准中的叠栅干涉测角方法干涉测量是众多科学与工程领域广泛采用的精密计量手段。探索了一种方便可控的基于双光栅衍射的叠栅干涉相敏测角方法，可直接用于接近式光刻过程中掩模衬底的倾斜矫正及面内角调节，便于微纳米器件及微光电子系统集成...
评级：0 浏览量：63 收藏量：0 资源大小：2.58MB 上传时间：2021-02-05

: 叠栅条纹相位分布对对准精度的影响分析光刻对准中，一般将硅片和掩模对准标记制作成周期接近的光栅,通过光栅标记叠加形成的叠栅条纹的相位信息,探测掩模和硅片的相对位置关系。在实际的应用中，叠栅条纹的方向不仅与对准标记的几何位置有关，而且还与CCD...
评级：0 浏览量：53 收藏量：0 资源大小：11.96MB 上传时间：2021-02-25

: 基于面形检测的光学元件多层膜均匀性测量为了测量光学元件多层膜膜厚均匀性指标，基于面形检测对多层膜均匀性测量方法进行了研究。分析了均匀性的测量过程以及影响因素，评估了元件面形检测复现性对测量结果的影响，建立了多层膜结构的有限元模型，计算分析...
评级：0 浏览量：92 收藏量：0 资源大小：1.69MB 上传时间：2021-02-23

: 同轴两反式高NA投影光刻物镜热像差补偿方法研究热像差是导致光刻物镜工作状态下像质劣化的主要原因之一。针对同轴两反式高数值孔径(NA)投影光刻物镜的结构特点，提出了将元件位移法和元件分区加热法相结合，共同补偿热像差的方案。元件位移法通过改变元件的间隔、...
评级：0 浏览量：89 收藏量：0 资源大小：5.71MB 上传时间：2021-02-23

: 浸没式光刻技术的研究进展浸没式光刻技术是将某种液体充满投影物镜最后一个透镜的下表面与硅片之间来增加系统的数值孔径, 可以将193 nm光刻延伸到45 nm节点以下。阐述了浸没式光刻技术的原理, 讨论了液体浸没带来的问题, 最后介绍了浸没式...
评级：0 浏览量：116 收藏量：1 资源大小：665KB 上传时间：2021-02-11

: 光学表面中频误差对光刻物镜短程杂散光影响分析研究了光学表面中频误差对杂散光的影响规律，提出使用功率谱密度函数描述表面中频误差，并通过该描述方法进行杂散光分析；同时利用等效光瞳空间频率对表面中频误差进行公差分析。利用以上方法，对工作波长为193 nm、...
评级：0 浏览量：70 收藏量：0 资源大小：2.35MB 上传时间：2021-02-08

: 超高NA光刻投影物镜高阶波像差检测方法提出了一种基于八角度孤立空检测标记的超高NA光刻投影物镜高阶波像差检测方法。通过对八角度孤立空检测标记的空间像进行主成分分析(PCA)和多元线性回归分析，构建了超高NA光刻投影物镜的空间像光强分布与高阶波像差...
评级：0 浏览量：86 收藏量：0 资源大小：7.12MB 上传时间：2021-02-07

: 光刻物镜压力双膜片轴向调节机构优化设计针对光刻物镜对镜片间隔调节精度高、范围大的需求，提出一种利用气体压差提供驱动力的压力双膜片轴向调节机构。并对该轴向调节机构的不同膜片宽度、厚度以及凸台宽度进行优化分析，在特定压力范围内得到调节机构的...
评级：0 浏览量：74 收藏量：0 资源大小：3.79MB 上传时间：2021-02-05

: 光刻机扫描狭缝刀口半影宽度测量技术扫描狭缝是步进扫描光刻机用于控制曝光剂量的重要单元。随着光刻工艺节点减小到90 nm及以下,光刻照明分系统对刀口半影宽度的测量精度和重复性提出了更高要求。基于此,提出一种基于光瞳像的光刻机扫描狭缝刀口半影...
评级：0 浏览量：243 收藏量：1 资源大小：6.29MB 上传时间：2021-01-26

: 光刻机照明系统光瞳特性参数的评估算法针对光刻机照明系统的实际应用需求, 提出了一种光瞳特性参数的评估算法。该算法通过对光瞳强度分布进行转换, 可以在不同照明模式下同时计算光瞳椭圆度、X方向光瞳极平衡性、Y方向光瞳极平衡性和四象限光瞳极平衡性等...
评级：0 浏览量：166 收藏量：1 资源大小：8.18MB 上传时间：2021-01-25

: 基于空间像峰值光强差的奇像差测量技术提出一种基于空间像峰值光强差的光刻投影物镜奇像差测量技术。根据Hopkins部分相干成像理论，推导双缝图形空间像光强分布以及峰值光强差的解析表达式。该测量技术以双缝图形为测量标记，以空间像峰值光强差为测量...
评级：0 浏览量：82 收藏量：0 资源大小：3.62MB 上传时间：2021-02-13

: 基于等效叠栅的反射式光刻对准模型研究针对接近接触式光刻技术的特点，提出了一种实用的反射式光刻对准方案。方案采用差动叠栅条纹对准技术，以叠栅条纹相位作为对准信号的载体。在掩模和硅片上分别设计两组位置相反、周期接近的光栅对准标记。...
评级：0 浏览量：56 收藏量：0 资源大小：2.77MB 上传时间：2021-02-09

: 光刻物镜中主动透镜的变形和像差特性高精度光刻投影物镜在工作过程中吸收激光能量产生热像差，在离轴照明模式(如偶极照明)下，热像散显著且随时间变化，传统的被动光学方法无法补偿此类像差。提出在折射式光刻投影物镜系统中使用主动光学的方法，通过...
评级：0 浏览量：61 收藏量：0 资源大小：2.48MB 上传时间：2021-02-07

: 光刻对准中掩模光栅标记成像标定方法双光栅叠栅条纹对准方法具有精度高、可靠性强等特点，适用于接近接触式光刻。为了实现高精度测量，实际应用中要求掩模光栅标记与硅片光栅标记高度平行。掩模光栅标记在CCD中成像通常存在一定的倾斜角。...
评级：0 浏览量：112 收藏量：0 资源大小：3.02MB 上传时间：2021-02-06

: Ronchi剪切干涉光刻投影物镜波像差检测技术研究 Ronchi剪切干涉采用扩展光源调制光场空间相干性，具有干涉仪结构简单、共光路、零条纹检测等优点，适合用于光刻机投影物镜波像差原位检测。基于Ronchi剪切干涉的投影物镜波像差检测技术及系统，根据光栅衍射和空间...
评级：0 浏览量：151 收藏量：0 资源大小：3.57MB 上传时间：2021-02-04

: 高精度位移测量系统的硬件在环仿真设计了一个基于二维光栅的高精度位置测量系统的硬件在环仿真平台，分析了测量模型在编程过程中产生误差的原因，并使用该仿真平台测试了模型的精度和运算时间。结果表明，当计算频率为20 kHz时，测量模型的编程精度...
评级：0 浏览量：92 收藏量：0 资源大小：11.98MB 上传时间：2021-01-26

: 面向光印刷电路板的聚合物光波导制备及性能研究选用紫外固化型环氧树脂，采用光刻技术在FR-4基板上制备了平行排布的多模聚合物光波导。波导具有阶跃折射率分布，相邻波导间隔为250 μm，可与并带后的50 μm芯径多模光纤实现多通道低损耗耦合。...
评级：0 浏览量：77 收藏量：0 资源大小：5.88MB 上传时间：2021-02-23

: 基于二维Ronchi光栅的纳米光刻对准技术研究提出了一种基于二维光栅叠栅效应的纳米光刻对准方法，用于接近式光刻实现二维同步对准。该方法采用两组周期接近的二维光栅重叠产生一组周期分布的叠栅条纹，条纹的周期相对于两光栅周期被大幅度放大，将光栅间的位移...
评级：0 浏览量：112 收藏量：0 资源大小：3.7MB 上传时间：2021-02-13

: 超大数值孔径光刻机投影物镜波像差检测方法提出了一种基于空间像主成分分析的超大数值孔径光刻机投影物镜波像差检测方法。通过采用偏振光照明和矢量光刻成像模型并考虑投影物镜的偏振像差，准确表征了超大数值孔径光刻机的空间像，从而提高了像差检测模型的...
评级：0 浏览量：140 收藏量：0 资源大小：5.38MB 上传时间：2021-02-12

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