0.13工艺

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0.13工艺

: SMIC0.13um_smic13mmrf_1233工艺参数,smic0.13um工艺 SMIC0.13微米工艺库文件：l013_v2p6
评级：5 浏览量：2735 收藏量：4 资源大小：21KB 上传时间：2021-06-24

: 0.13工艺 高性能库 0.13工艺 高性能库
评级：0 浏览量：202 收藏量：0 资源大小：1.82MB 上传时间：2014-03-17

: 台积电0.13um工艺库台积电0.13um工艺库
评级：0 浏览量：138 收藏量：2 资源大小：89.47MB 上传时间：2023-05-21

: 基于0.13微米CMOS工艺下平台式FPGA中可重构RAM模块的一种设计方法本文介绍了基于0.13微米CMOS工艺下平台式FPGA中可重构RAM模块的一种设计方法。该RAM模块是一个16Kb的高速低功耗可重构模块，通过不同的配置信息，可以实现多种功能。重点介绍了一种用于可重构静态存储器的全新的...
评级：0 浏览量：75 收藏量：0 资源大小：153KB 上传时间：2020-10-21

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评级：5 浏览量：2783 收藏量：10 资源大小：587KB 上传时间：2019-10-05

: 光刻胶等效扩散长度对0.13um工艺窗口的影响展示了在0.13um及以下工艺中等效扩散对能量裕度和掩模版误差因子的影响的研究结果。关键词：等效扩散长度,像对比度,能量裕度,光刻中图分类号：TN305.7 文献标识码：A 文章编号：1003-353X(2005)07-0039-041 引言 ...
评级：0 浏览量：125 收藏量：0 资源大小：80KB 上传时间：2020-12-09

: lambda工艺设计参数表_smic_ smic工艺参数的设计表，lambda的参数值
评级：0 浏览量：137 收藏量：0 资源大小：55KB 上传时间：2021-10-04

: SMIC0.13um SMIC0.13微米工艺库文件：l013_v2p6
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: 单片机与DSP中的ST 推出采用0.13微米制造工艺的下一代微控制器金融市场上知名的智能卡IC供应商意法半导体（纽约证券交易所代码：STM)宣布一系列新的安全型微控制器产品，新系列产品采用最先进的0.13微米制造工艺，以银行卡、顾客忠诚卡等金融智能卡为目标应用。新系列产品基于新...
评级：0 浏览量：73 收藏量：0 资源大小：52KB 上传时间：2020-11-25

: 基于0.13微米CMOS工艺制造的单芯片UMTS W-CDMA多频段收发器前言随着通用移动通信系统（UMTS）网络在日本和欧洲实现商用，市场对...颗采用0.13微米CMOS工艺制造的单芯片直接转换收发器于2003年2月面世；颗采用0.35微米SiGe BiCMOS工艺制造的单芯片 UMTS收发器于2004年正式推出
评级：0 浏览量：78 收藏量：0 资源大小：307KB 上传时间：2021-01-19

: 采用0.13微米CMOS工艺制造的单芯片UMTS W-CDMA多频段收发器本文介绍了一种适用于频分复用（FDD）网络的低功耗、多频段、全集成化单芯片UMTS W-...它采用 0.13微米CMOS工艺制造而成。该设计包括三条零中频接收（RX）通道，三条直接转换型发射（TX）通道，两个分数型频率合成器。
评级：0 浏览量：74 收藏量：0 资源大小：319KB 上传时间：2020-10-25

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评级：0 浏览量：90 收藏量：0 资源大小：40KB 上传时间：2020-12-04

: 论文研究-0.13μm显影工艺中喷嘴选择和程式改进的研究 .pdf 0.13μm显影工艺中喷嘴选择和程式改进的研究，吴敏，，随着集成电路工艺关键尺寸的不断递减，制造工艺中关键的光刻技术面临巨大的挑战。这不仅是技术节点跨越的难题，更是需要新工艺平
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: 0．13微米—开创CPU制造工艺新纪元.pdf 0．13微米—开创CPU制造工艺新纪元.pdf
评级：0 浏览量：47 收藏量：0 资源大小：48KB 上传时间：2021-09-24

: 一款基于0.13 μm CMOS工艺,0.1 GHz~18 GHz采用双反馈和噪声消除技术的低噪声放大器设计* (2012年) 介绍一款1.2 V 0.1 GHz~18GHz超带宽级联型低噪声放大器。该LNA采用反馈网络来简化超宽带匹配并且不导致振荡。引入反相器结构作为第二级从而实现噪声消除。同时采用了感性尖峰技术来拓展带宽，所采用电感占用较小面积...
评级：0 浏览量：56 收藏量：0 资源大小：1.02MB 上传时间：2021-05-30

: 单片机与DSP中的意法半导体发布采用0.13微米制造工艺的下一代微控制器... 金融市场上知名的智能卡IC供应商意法半导体日前宣布一系列新的安全型微控制器产品，新系列产品采用最先进的0.13微米制造工艺，以银行卡、顾客忠诚卡等金融智能卡为目标应用。新系列产品基于新的ST23安全平台，吸收了...
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评级：0 浏览量：55 收藏量：0 资源大小：235KB 上传时间：2020-10-22

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: eetop.cn_ADS_tsmc013um.zip_ads 130nm_ads 安装工艺库_indeedlof_moscap 台积电130nm工艺库文件，用于ADS仿真测试。
评级：5 浏览量：774 收藏量：2 资源大小：923KB 上传时间：2022-07-15

: 一种用于D/A转换电路的带隙基准电压源的设计本文介绍了带隙基准电压源的原理，实现了一个高精度的带隙基准电压源电路。此电路在-20℃~100℃的温度范围内，有效温度系数为6.1ppm/℃；电源电压在1.6V~2.0V 变化时，其电源抑制比为103.7dB。
评级：0 浏览量：56 收藏量：1 资源大小：141KB 上传时间：2020-10-18

: 宏力半导体发布其0.13μm铝制程逻辑及混合信号工艺.pdf 宏力半导体发布其0.13μm铝制程逻辑及混合信号工艺.pdf
评级：0 浏览量：49 收藏量：0 资源大小：76KB 上传时间：2021-08-29

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: 基于0．13 μm CMOS工艺的6．25 Gb/s高速串行数据接收器的设计 (2014年) 基于1．2 V 0．13 μm CMOS工艺，设计一种数据率为6．25 Gb/s的高速串行数据接收器。该接收器采用半速结构降低系统工作频率，其中：均衡电路利用一种低功耗小面积的差分有源电感，使RC负反馈均衡电路的高频增益增加...
评级：0 浏览量：75 收藏量：0 资源大小：328KB 上传时间：2021-06-01

: 0.13um-shrink工艺的嵌入式闪存的耐久性特性研究_V2.0-论文.zip 0.13um-shrink工艺的嵌入式闪存的耐久性特性研究_V2.0-论文.zip
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: tsmc13rf_PDK 台积电0.13um PDK工艺库，里面有安装方法说明文档
评级：5 浏览量：323 收藏量：3 资源大小：33.43MB 上传时间：2022-09-13

: 0.13 μm CMOS电流模式高精度基准源设计为提升基准源的精度，降低功耗，设计了一种新型带曲率...基于中芯国际130 nm COMS工艺，仿真表明，温度在-20 ℃～80 ℃范围内，温漂为4.6 ppm/℃，电源抑制比为60 dB，输出基准电压为610 mV，整体电路功耗为820 nW。
评级：0 浏览量：166 收藏量：0 资源大小：91KB 上传时间：2020-10-16

: 脱泥与不脱泥工艺脱介筛脱介效果的比较结果表明:脱泥工艺中精煤、中煤、矸石带介量分别为0.06%、0.05%、0.01%,不脱泥工艺中精煤、中煤、矸石带介量分别为0.15%、0.13%、0.02%。脱泥工艺中产品带介量更少,脱介筛脱介效果更好。该实验研究为今后选煤厂的...
评级：0 浏览量：78 收藏量：0 资源大小：438KB 上传时间：2020-07-07

: AssetStudio.x64.v0.13.24 原UnityStudio的升级版本，最新的版本。针对Unity3d开发的游戏，可预览、导出打包的纹理图集、shader代码、音乐音效等，对分析和借鉴优秀的游戏制作工艺非常有用。实测Unity3d 5.x，2018系列的资源都可使用。
评级：0 浏览量：234 收藏量：1 资源大小：7.81MB 上传时间：2019-08-23

: Unitank污水处理工艺硝化特性分析 (2012年) 利用数学模型分析发现，好氧阶段前期铵氮去除速率最高可达7．93 mgN・(L・h)～，曝气80 min后平均硝化速率降低至2．03±0．13 mgN・(L・h)-1．这主要是由于反应器铵氮浓度很低限制了硝化菌的生长活性．
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: 活性焦联合脱硫脱硝工艺试验研究当活性焦无吸附NH3时,NO对SO2脱除无影响,当活性焦吸附NH3时,通入NO前后,SO2出口体积分数由0.15%降至0.13%左右,说明NO对SO2脱除有促进作用;通入SO2气体后,NO出口体积分数由0.045%迅速增至0.065%,说明SO2与NO争抢NH3,...
评级：0 浏览量：84 收藏量：1 资源大小：1.53MB 上传时间：2020-07-18

: 论文研究-0.13微米CMOS逻辑器件的电容微缩实现 .pdf 0.13微米CMOS逻辑器件的电容微缩实现，宋锴焱，成中敏，本篇文章主要研究了对0.13微米CMOS逻辑器件进行90%微缩后，电容层的微缩工艺的实现；在0.13微米平台的基础上对介电层的沉积厚度以及介
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: ADS_tsmc_cm013rf_v1.7.zip 最新台积电ADS工艺库，里面有详细的安装说明，亲测可以用，130nm工艺。
评级：3 浏览量：882 收藏量：3 资源大小：454KB 上传时间：2019-07-09

: SMIC_018_MMRF OA 格式，可以直接用到IC617上 SMIC_018_MMRF OA 格式，可以直接用到IC617上，已经好了，直接指定path library 就可以用
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: 法国镀膜公司的X射线与紫外介质薄膜工艺法国马特拉技术公司电光部正在发展镀制0.13~20.0 nm X射钱和远紫外/紫外介质镀层的先进工艺。该计划在法国国家科学研究委员会和原子能委员会特许下由该公司进行。该公司发展的其它镀层还包括0.12~90 μm反射膜、增透...
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: IBAC工艺对洗浴废水中有机污染物的去除效能与机理 (2005年) 处理后水的浊度、高锰酸盐指数、LAS和浴臭平均值分别为2.46NTU，3.2mg/L，0.13mg/L和0级臭味，为了保证整体工艺的出水，IBAC进水的浊度要小于10NTU；通过GC/MS的检测，IBAC对这种水中的有机物具有较好的去除作用。在...
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