采用直流磁控溅射法在不同衬底温度下(27?150?300?450和750 ℃)制备Ta2O5 薄膜?利用 X射线衍射?扫描电子显微镜(SEM)和紫外-可见光分光光度计对薄膜的结构?表面形貌和光学性质进行分析研究?实验结果表明，当衬底温度为450℃时，薄膜开始结晶?低于450℃，薄膜为无定形态，光学透过率随着衬底温度的升高而升高，在可见光区域最大透过率为85%?薄膜结晶生成晶粒，会对通过的光束产生散射，降低透过率，光学性能下降?这些结果说明衬底温度和薄膜材料的结构?结晶转变温度及光学性质密切相关?
