光刻技术剖析PPT教案.pptx

"光刻技术剖析PPT教案.pptx知识点总结" 光刻技术是半导体制造中的一种重要工艺，涉及到掩模版的设计、制作和应用。本PPT教案主要介绍了光刻技术的基本概念、掩模版的制造、光刻胶、紫外光曝光技术和光刻设备等方面的知识。 1. 掩模版的制造 掩模版是光刻技术中的一种关键零件，通过一定的方法将设计好的特定几何图形以一定的间距和布局做在基版上，供光刻工艺中重复使用。制造商将设计工程师交付的标准制版数据传送给一个称作图形发生器的设备，图形发生器会根据该数据完成图形的产生和重复，并将版图数据分层转移到各层光刻掩模版（为涂有感光材料的优质玻璃板）上，这就是制版。 2. 掩模版的基本构造及质量要求 掩模版的基本构造包括玻璃基片、铬膜和保护膜等部分。玻璃基片具有低热膨胀系数、低含钠含量、高化学稳定性及高光穿透性等特质。铬膜是掩模版的关键结构，能够阻挡光线的传输。保护膜的作用是防止外来物附着在掩模版上。 光刻工艺对掩模版的质量要求包括每一个微小图形尺寸精确无畸变、图形边缘清晰、锐利，无毛刺，过渡区要小等。 3. 铬版的制备技术 铬版是光刻技术中的一种重要零件，铬膜版工艺的特点包括金属铬膜与相应的玻璃衬底有很强的粘附性能、图形失真小、分辨率极高、铬膜的光学密度大等。 铬膜版制备有两个部分的内容：蒸发蒸镀和光刻技术。 4. 光刻胶 光刻胶是一种感光材料，能够在紫外光照射下发生化学变化，从而实现图形的转移。 5. 紫外光曝光技术 紫外光曝光技术是光刻技术中的一种重要步骤，通过紫外光照射，光刻胶发生化学变化，实现图形的转移。 6. 光刻设备 光刻设备是光刻技术中的一种重要设备，能够实现图形的转移和曝光等功能。 本PPT教案对光刻技术的基本概念、掩模版的制造、光刻胶、紫外光曝光技术和光刻设备等方面的知识进行了详细的介绍，为读者提供了一个系统的光刻技术知识框架。