电沉积Cu层

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电沉积Cu层

: 论文研究 - 柠檬酸三钠对2-电极法在ZnS薄膜上电沉积Cu2ZnSnS4（CZTS）层性能的影响使用2电极方法在ZnS上进行CZTS薄膜的电沉积，以制造上覆结构的太阳能电池。对柠檬酸三钠对CZTS电解液的影响进行了全面的研究。在本研究中，已证明使用浓度为0.2 M柠檬酸三钠的CZTS电解质可制得CZTS薄膜，其电子带...
评级：0 浏览量：110 收藏量：0 资源大小：1.52MB 上传时间：2020-05-26

: 电沉积Cu/Ni多层膜硬度与调制波长关系的研究 (2008年) 分别采用双槽法和单槽法制备了不同调制波长的Cu/Ni多层膜,研究了多层膜硬度与调制波长之间的关系。结果表明,当调制波长大于33 nm时．硬度与调制波长的关系符合Hall-Petch关系式；小于33 nm时,偏离了Hall-Petch关系式...
评级：0 浏览量：42 收藏量：0 资源大小：269KB 上传时间：2021-06-16

: 电沉积Cu(In,Ga)Se2预置层硫化退火制备Cu(In,Ga)(Se,S)2薄膜及表征 电沉积Cu(In,Ga)Se2预置层硫化退火制备Cu(In,Ga)(Se,S)2薄膜及表征，张治安，赖延清，在550℃下的H2S气氛中退火处理电沉积制备的Cu(In,Ga)Se2 (CIGS)预置层，制备了太阳电池光吸收层Cu(In,Ga)(Se,S)2(CIGSS)薄膜。...
评级：0 浏览量：88 收藏量：0 资源大小：549KB 上传时间：2020-03-03

: 电沉积Cu基SiC复合电极材料* (2013年) 将SiC微粒作为第二相电沉积成分来制备Cu基SiC复合电极材料，研究了微粒添加量、微粒粒径、电流密度及镀液温度等工艺因素对复合铸层中SiC颗粒共沉积量的影响．以及SiC颗粒对铸层表面形貌的影响，并进行了电极材料的抗...
评级：0 浏览量：38 收藏量：0 资源大小：258KB 上传时间：2021-05-18

: 沉积电位对在氟掺杂氧化锡衬底上共电沉积的Cu2ZnSnS4薄膜太阳能电池的影响通过在掺杂氟的氧化锡（FTO）涂覆的玻璃基板上共电沉积Cu-Zn-Sn-S前驱体，然后在硫气氛中进行硫化，合成了富含稀土的Cu2ZnSnS4（CZTS）薄膜光伏吸收剂。在本文中，我们研究了沉积电势对CZTS薄膜的性能以及由其制成...
评级：0 浏览量：68 收藏量：0 资源大小：3.25MB 上传时间：2021-04-02

: 直流和脉冲电镀Cu互连线的性能比较针对先进纳米Cu互连技术的要求,比较了直流和脉冲两种电镀条件下Cu互连线的性能以及电阻率、织构系数、晶粒大小和表面粗糙度的变化。实验结果表明,在相同电流密度条件下,脉冲电镀所得Cu镀层电阻率较低,表面粗糙度较小...
评级：0 浏览量：86 收藏量：0 资源大小：94KB 上传时间：2020-07-28

: 不锈钢表面电镀Cu-Mn3O4复合涂层 (2014年) 为解决这一问题，本文利用电镀的方法在铁素体不锈钢(SUS 430)连接体表面沉积Cu- Mn3O4复合涂层，研究了复合电镀Cu-Mn3O4涂层的电镀工艺，结果表明：复合电镀的适宜工艺参数为：溶液 pH值为3，阴极电流密度为2．12 A...
评级：0 浏览量：39 收藏量：0 资源大小：584KB 上传时间：2021-05-11

: 电沉积后硫化法制备铜锌锡硫薄膜太阳电池 电沉积后硫化法制备铜锌锡硫薄膜太阳电池，李轶，袁腾飞，采用电沉积铜锌锡(Cu-Zn-Sn，CZT)合金预制层后硫化法制备了薄膜太阳电池用吸收层材料铜锌锡硫(Cu2ZnSnS4，CZTS)。利用扫描电镜、X射线能量�
评级：0 浏览量：92 收藏量：0 资源大小：556KB 上传时间：2019-12-31

: Cu基体电镀Ni层表面渗Al组织及其形成机理 (2007年) 以纯Al粉为渗剂、NHCl4作为活化剂、鸡蛋清为粘结剂、Cu基体镀Ni层表面渗A1。研究经800℃保温12h后的渗铝层的表面形貌、组织、厚度和截面元素分布，分析渗铝过程的机理。结果表明：渗铝处理后Cu-Ni界面结合良好。渗铝...
评级：0 浏览量：41 收藏量：0 资源大小：482KB 上传时间：2021-05-10

: 在金属基片上激光沉积YBCO超导薄膜介绍了在金属基片上激光沉积缓冲层和YBa2Cu3O7-x(YBCO)高温超导薄膜的研究结果。在带yttria-stabilized-zirconia(YSZ)缓冲层的NiCr合金基片上, 激光原位沉积出YBCO超导薄膜, 薄膜的零电阻转变温度为84 K, 77 K时...
评级：0 浏览量：60 收藏量：0 资源大小：918KB 上传时间：2021-02-11

: 电镀原理及方法.pdf 电镀原理基于电化学反应，通过外界直流电的作用，在溶液中进行电解反应，使金属表面沉积一层金属或合金层。电镀方法有很多种类，包括镀（Plating）、电镀（Electroplating）、自催化镀（Auto-catalytic Plating）...
评级：0 浏览量：15 收藏量：0 资源大小：3.11MB 上传时间：2023-11-02

: Cu-In系中Cu11In9相的生长动力学研究 Cu-In系中Cu11In9相的生长动力学研究，谭艳芳，潘勇，采用电沉积方法在Cu基底上制备一层In薄膜得到Cu-In扩散偶。将扩散偶在T=453、503和553 K分别进行t=20、40、60和90min的热处理。热处理后，在C
评级：0 浏览量：73 收藏量：0 资源大小：478KB 上传时间：2020-02-06

: 电化学沉积CdS薄膜及其在 CZTS薄膜太阳能电池中的应用 (2014年) 采用硫代硫酸钠、硫酸镉，配以有机酸NTA调节溶液pH值，首次在碱性环境中电沉积制备CdS薄膜，并将其应用到Cu：ZnSnS。(CZTS)薄膜太阳能电池中作为缓冲层．实验探讨了pH值、溶液浓度、沉积电位对薄膜晶体结构、形貌、...
评级：0 浏览量：64 收藏量：0 资源大小：421KB 上传时间：2021-05-11

: 多孔SnO2-Cu2O复合薄膜的制备及其光催化性能 (2010年) 采用加热氧化多孔Sn-Cu合金电沉积层，制备得多孔SnO2-Cu2O复合薄膜.应用X射线衍射(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)和X射线能量散射(EDS)分析了镀液中Sn2+/Cu2+值对薄膜结构、形貌和组成的影响.通过低压汞灯下光降解罗丹明...
评级：0 浏览量：67 收藏量：0 资源大小：495KB 上传时间：2021-05-15

: 混合离子液体中锌的电化学结晶及生长机理 (2009年) 在1-丁基-3-甲基咪唑氟硼酸盐和1-丁基-3-甲基咪唑氯化物组成的混合离子液体中，研究了锌在Pt， Cu，Fe-Ni基体上的电沉积过程．温度和ZnCI2的浓度等因素对锌电沉积的伏安行为会产生重要影响．计时电流实验表明，锌在...
评级：0 浏览量：97 收藏量：0 资源大小：358KB 上传时间：2021-05-12

: CdS/Cu2 O太阳能电池的制备及膜厚对光电性能的影响 (2011年) 采用水浴法和电沉积法制备 CdS/Cu2O复合膜,组装成异质结薄膜太阳能电池。通过改变薄膜的厚度,测试了不同厚度的窗口层和吸收层对太阳能电池性能的影响。实验表明,在400 nm厚的 CdS薄膜上沉积30次 Cu2O薄膜,所获得的...
评级：0 浏览量：45 收藏量：0 资源大小：1.05MB 上传时间：2021-04-26

: 退火对泡沫镍沉积金属催化剂的析氢性能影响采用XRD,SEM和电化学工作站对复合催化剂的组成、结构、微观形貌及性能进行研究,可以得出,泡沫镍沉积单/双元金属电极在300℃下退火处理后表现出较好的电催化析氢活性,大小依次为(相比于退火前):NF@Cu0.01@Ni0.01-300,...
评级：0 浏览量：104 收藏量：0 资源大小：1.17MB 上传时间：2020-04-24

: 铜薄膜作中间层的镁铝扩散焊接 (2012年) 研究结果表明,在镁合金基体上沉积的Cu薄膜主要以(111)、(200)晶向上生长,薄膜表面平整、均匀、致密;在扩散焊接工艺条件焊接温度T=455℃、保温时间t=90 min、压力P=3 MPa下获得了质量较好的Mg/Al焊接接头.焊接接头...
评级：0 浏览量：47 收藏量：0 资源大小：4.48MB 上传时间：2021-06-01

: 集成电路互联金属的电迁移效应研究 (2011年) 本课题用离子束溅射,在介质层上沉积Al,Al-Cu和Cu薄膜,然后对三种薄膜材料进行光刻,得到所需的线条。对经光刻后的各种材质线条通以不同的电流密度,观察电迁移发生的极限电流密度,实验测得Al的极限电流密度为2.706×...
评级：0 浏览量：276 收藏量：1 资源大小：10.25MB 上传时间：2021-05-22

: 铜铟镓硒薄膜的四元叠层法制备与表征 (2012年) 采用热蒸发沉积Ga、离子束溅射沉积Cu、In和Se，在BK7玻璃上形成Ga/Gu/In/Se四元叠层，在同一高真空环境下对四元叠层进行退火热处理，制备得到铜铟镓硒(CIGS)薄膜太阳电池吸收层材料CIGS薄膜．通过X射线衍射仪、能谱...
评级：0 浏览量：49 收藏量：0 资源大小：366KB 上传时间：2021-06-05

: 含SiO2,ZrO2微粒复合镀镍层抗高温氧化性能 (2004年) 通过对含有SiO2,ZrO2微粒复合电沉积的研究,在Cu合金表面分别获得了含量(原子数分数)为11.3% SiO2,5 .31% ZrO2微粒的Ni基复合镀层。通过在800℃、900℃条件下的高温氧化和热震循环试验,研究了这种复合镀镍层的高温...
评级：0 浏览量：59 收藏量：0 资源大小：3.29MB 上传时间：2021-05-18

: 外镀铜层玻璃包裹丝的巨磁阻抗效应 (2013年) 最后利用化学镀方法在570℃退火的玻璃包裹丝上沉积了一层铜，构成复合结构丝.利用扫描电镜测量了材料的几何尺寸，研究了玻璃包裹丝退火前后及复合结构丝的巨磁阻抗效应.结果表明，材料的软磁特性改善提高了材料的...
评级：0 浏览量：48 收藏量：0 资源大小：290KB 上传时间：2021-05-09

: FPC基本知识.pdf * 化学沉铜：在孔和板面沉积上一层粉红色的铜层，使双面板的两面导通，为后续电镀加厚孔1/7铜提供条件。 3. PTH常见不良状况之处理 PTH常见不良状况之处理包括： * A-孔无铜：a、活化钯吸附沉积不好b、速化槽：速...
评级：0 浏览量：30 收藏量：0 资源大小：578KB 上传时间：2023-05-22

: Bumping基础培训资料-Bumping-Basic-Training-Material 同时，Bumping技术也可以根据保护层的不同分类，如Non-PI、PI（Polyimide）、BCB等。二、Bumping结构 Bumping结构主要包括Solder Bump、Copper Column Bump、UBM（Under Bump Metallurgy）等部分。Solder Bump是...
评级：5 浏览量：337 收藏量：3 资源大小：2.64MB 上传时间：2022-05-05

: 磁控溅射PP基氧化锌／铜层状膜性能研究 (2013年) 用磁控溅射法在PP非织造布表面...结果表明，Zn0／Cu层状膜比Zn0单层膜颗粒明显且更加致密．经过测试后，镀层状膜的PP具有良好的抗紫外透过性和良好的抗菌性，氧化锌参数为0．5 Pa，75 W，40 min，铜膜参数为1 Pa，20 W
评级：0 浏览量：53 收藏量：0 资源大小：311KB 上传时间：2021-05-19

: 用于非易失性存储应用的类石墨碳薄膜中电阻切换的研究使用直流磁控溅射法在Al / SiO2 / Si衬底上沉积类石墨碳膜。在Cu / aC / Al / SiO2 / Si多层结构中观察到稳定可靠的双极电阻开关（RS）特性。实现了约3的开/关比，大于10（5）s的保持时间以及小于3 V的开关阈值...
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