论文研究-硅烷浓度对VHF-PECVD制备过渡区微晶硅薄膜特性的影响 .pdf

硅烷浓度对VHF-PECVD制备过渡区微晶硅薄膜特性的影响，汪文明，杨恢东，采用甚高频等离子体化学气相沉积（VHF-PECVD）技术，通过调节硅烷浓度，获得了系列非晶/微晶过渡区薄膜材料，并测试分析了硅烷浓度��