A1薄膜的制备及其在太阳能电池中的应用.pdf

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采用甚高频等离子体增强化学气相沉积技术,在相对较高气压和较高功率条件下,制备了不同硅烷浓度的微晶硅材料. 材料沉积速率随硅烷
2. 3mA/c 047V FF= 0.61 Efficiency=6.3% Ral. 2nm/s 0.2 0.4 0.5 X=75% 70% 6% 52% 200250300350400450500550600650 Raman shifu/cm 201994-2008ChinaAcademicJournalElectronicPublishingHouse.Allrightsreservedhttp://www.cnki.net C1994-2008ChinaAcademicJournalElectronicPublishingHouseAllrightsreservedhttp://www.cnki.net

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2019-09-05
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