退火处理后多晶金刚石表面的XPS研究

在许多电子应用中，氢封端金刚石薄膜的表面性能决定了电子设备的最终性能。 在这项工作中，通过热丝化学气相沉积法生长金刚石膜，并通过氢等离子体处理获得氢化膜。 进行X射线光电子能谱分析以评价退火处理后的膜表面。 C1s XPS光谱显示退火处理后C1s光谱发生了变化。 在空气中，氢气减少，氧气吸收增加。 在氩气中退火后，表面上的相互作用急剧变化，并且当退火温度提高到600摄氏度时，将发生相变。