为消除目前手工设计掩膜和工艺流程的繁琐过程，提出了一种从表面硅微器件的三维结构模型自动生成掩膜和工艺流程的方法。该方法将三维器件模型作为输入，根据其组成特征的几何信息和材料信息识别出基底层、结构层、牺牲层和金属层等所有工艺层，再根据工艺层的结构特点和材料信息自动生成掩膜和工艺流程，并利用So1idWorks软件用户接口开发的应用程序验证了方法的可行性。应用实例表明，该方法不仅可以使设计者专注于器件结构本身的设计，而且易于实现掩膜和工艺流程的自动化生成，比传统的手工设计方法更加直观、高效，为相应的设计工具开
