离子束溅射铂膜沉积速率的温度效应

实验研究了离子束溅射铂膜的沉积速率与溅射功率、基片温度之间的关系。结果表明基片温度对沉积速率有明显的影响.沉积速率随基片温度的上升而增大。利用吸附理论对此现象进行了探讨。