反应离子束蚀刻中温度效应的研究 (1998年)

介绍了一种新型的千法刻蚀方法―冷源反应离子束刻蚀法用来刻蚀各种微光学器件,并着重研究了刻蚀过程中的温度效应,提出了解决温度效应的有效方法。