简单解释一下主流光刻技术

-光刻是指将集成电路图形从掩膜版上转移到硅片上的工艺过程光刻技术是集成电路的关键技术之一 　　在整个产品制造中是重要的经济影响因子，光刻成本占据了整个制造成本的35％ 　　光刻也是决定了集成电路按照摩尔定律发展的一个重要原因，如果没有光刻技术的 　　进步，集成电路就不可能从微米进入深亚微米再进入纳米时代。。 光刻系统的组成： 　　　　光刻机（曝光工具） 　　　　掩膜版 　　　　光刻胶 主要指标： 　　　　分辨率W（resolution）-> 光刻系统所能分辨和加工的最小线条尺寸 　　　　焦深(DOF-Depth Of Focus) -> 投影光学系统可清晰成象的尺度范围 　　　　关键尺寸（CD