激光等离子体有助于改进X射线光刻

为了迅速突破集成电路的X射线光刻工艺，华盛顿州贝尔里尤的Spectra Technology研究小组发展了一种高亮度激光等离子体源。用这种X射线光刻可望大大提高电路板的生产效率。