FIB技术在硅基上刻蚀光子晶体的研究 (2009年)

光子晶体是一种新型的光波导材料,具有优良的导光性能。亚微米级光子晶体的加工对几何形状要求相当高。聚焦离子束在文中被用作直接写入技术,用于制备亚微米级的圆孔光子晶体。如何在硅基上优化聚焦离子束制备参数是该文的重点。讨论了不同电流不同点刻蚀时间下的刻蚀效果,采用边缘冗余刻蚀方式的刻蚀效果以及不同深度的孔洞的加工。结果表明,选择合适的刻蚀电流和点刻蚀时间对光子晶体加工非常重要。