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集成电路制造工艺-MOSFET的结构及工作过程.pptx
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集成电路
电路制造
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集成电路制造工艺
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MOSFET
MOSFET
的
的
结
结
构
构
及
及
工
工
作
作
过
过
程
程
MOSFET
MOSFET是金属-氧化物半导体场效应晶体管(Metal-Oxide-
SemiconductorField-EffectTransistor)的英文简称,是集成电
路最常用的器件单元。
MOSFET
MOSFET依照其“通道”(工作载流子)的极性不同,可分为“N型”与
“P型”的两种类型,通常又称为NMOSFET与PMOSFET,也可简称为
NMOS、PMOS等。
MOSFET
的基本结构
1
2
3
4
MOSFET有衬底,源区S,漏区D,栅电介质,绝缘隔离层,栅电极,源电极、漏电极组成。衬
底材料采用最多的是硅晶体,源区S,漏区D是与衬底半导体类型相反的高掺杂区;栅介质和
隔离层可采用二氧化硅;栅电极,源电极和漏电极用金属属性的材料做成。
MOSFET的基本结构
5
各部分的常规材料:
衬底:硅晶体
S、D:高掺杂区域
二氧化硅
金属
源
电级
栅电级
漏
电级
衬
底
绝
隔离
缘层
S
D
栅
介
质
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