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半导体集成电路制造工艺.pptx

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半导体集成电路制造工艺

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第

四

章

半

导

体

集

成

电

路

制

造

工

艺

微

电

子

与

集

成

电

路

设

计

导

论

Introduction to microelectronics and

integrated circuit design

本章内容

光刻

掺杂技术

制膜技术

互连、隔离、封装

4.1 单晶生长及衬底制备

4.1.1 单晶生长

图4.1.1 周期表中用作半导体的元素

自然界中硅的含量

极为丰富，但不能

直接拿来用。因为

硅在自然界中都是

以化合物的形式存

在的。

左图为在一个可抽真空的腔室内

置放一个由熔融石英制成的坩埚

，调节好坩埚的位置，腔室回充

保护性气氛，将坩埚加热至

1500°C左右。化学方法蚀刻的籽

晶置于熔硅上方，然后降下来与

多晶熔料相接触。籽晶必须是严

格定向生长形成硅锭。

图4.1.2 拉晶仪结构示意图

图4.1.3 拉晶法生产硅棒的过程

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