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集成电路制造工艺-离子注入掺杂.pptx

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集成电路

电路制造

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集成电路制造工艺

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离

子

注

入

技

术

离子注入技术

离子注入能用于材料表面改性，是制备现代集成电路必不可少的

技术之一。

离子注入的概念

离子注入是半导体的一种掺杂方法，是在真空环境下，将被掺杂的

杂质原子或分子进行离子化，经磁场选择和电场加速到一定的能量，形

成一定密度的离子束后，入射到固体材料，受到固体材料的抵抗速度慢

慢降低，最后停留在固体材料中的技术。

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