光学工艺

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光学工艺

: 光学工艺知识点 3玻璃的物理特性各向同性玻璃的性质如硬度弹性模数折射率等在各向测得的数值相等。介稳状态在一定条件下物质可能处于相对稳定状态但并不是能量最低储存状态称为介稳状态。
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: 欧洲纤维光学工艺的进展 1980年5月在英国召开的两个会议，突出了欧洲制造商和研究者在纤维光学工艺方面最近的进展和应用。第二次纤维光学年会(′84通讯会议）于5月15~18日在伯明翰附近举行。
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: 光学工艺实训心得.docx 光学工艺实训心得.docx
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: 光学测量与光学工艺知识点答案.docx 光学测量与光学工艺知识点答案.docx
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: 下一代光学加工技术和光学工艺 关于光学加工的一些前沿工艺以及对未来的一些展望，更好的了解目前的工艺现状
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: 三十年磨砺 光学工艺师变形记——访长春理工大学付秀华教授付老师从1984年开始从事光学工程应用方面的技术研究，拥有着30多年一线的光学工艺与检测技术和经验，堪称是一位地地道道的光学工艺师。从最初对光学概念一无所知，到如今精通光学制造和薄膜整个工艺；从最初面对仪器...
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: 光学镜片加工工艺详细说明了光学镜片的一些加工流程和工艺技术
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: AR眼镜中的光学显示方案原理及其工艺全解析 1、AR眼镜中的光学显示方案增强现实技术即AR技术是在展示真实场景的同时，通过图像、视频、3D模型等技术为用户提供虚拟信息，实现将虚拟信息与现实世界巧妙地相互融合，属于下一个信息技术的引爆点，据权威预测...
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: 碳化硅光学表面数控抛光工艺参数的优化与选择通过大量的工艺实验和理论分析了对抛光盘转数、磨料粒度、抛光盘材料、抛光盘压力、抛光盘转速、抛光液酸碱度等工艺参数对碳化硅光学表面抛光效果的影响进行了讨论，并对工艺参数进行了优化和选择。
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: 激光光学与工艺培训资料 2017激光光学与工艺培训资料编制黄锦雄编制时间2017/08/011.激光安全2.激光的基础知识3.激光打标机介绍4.光纤激光打标机5.紫外激光打标机6.CO射频管激光打标机27.CO玻璃管激光切割
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: 光学元件镀膜前高洁净度清洗工艺研究在超声波清洗机的频率和功率一定的情况下，通过研究超声清洗剂、清洗温度、清洗时间等对光学元件超声清洗效果的影响，研制出有效清洗光学元件的清洗工艺，并保障超声清洗工艺对光学元件的表面状况无损伤。...
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: 光学纤维波导的制造工艺信号沿光学纤维波导传输是按照Snell的折射律：sin ic=1/n，于是，从高折射率n2的媒质射到较低折射率n1的媒质的光线，如果它的入射角大于临界角ic，就会发生全反射。
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: 多台阶衍射光学元件的工艺优化通过对多台阶衍射光学元件(MDOE)刻蚀工艺中的误差分析,提出了一个反映整体刻蚀误差的参数——误差偏度。重点研究了误差偏度的变化对多台阶衍射光学元件光束整形效果的影响,发现在误差偏度曲线中存在一个能使刻蚀误差...
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: 光学玻璃连续熔炼的优点各光学玻璃制造厂相继独立开发光学玻璃连续熔炼，成为大批量光学玻璃制造的主要工艺。
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: 高精度同心光学元件制作工艺技术高精度同心光学元件——多路激光打靶开关球,是由两个同心半圆加工、胶合而成的特殊光学元件,由于开关球的口径与厚度之比为25.2:1,属超薄形件,为此具体分析了加工过程中可能出现的问题以及解决的方法。
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: 贴装基本工艺流程在高速机和多功能机之间（或在回流焊接机之后）加上A01光学在线检查机，以及在回流焊接机之后加上PCA下板机（PCA Un－loader ），另外，成品PCA可能需要进行清洗和进行老化测试，下面的流程图（图1）描述了典型的...
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: 固结磨料抛光K9光学玻璃的工艺实验研究采用一种亲水性固结磨料抛光垫(FAP),通过单因素实验法,系统地研究了抛光K9光学玻璃过程中抛光时间、偏心距、压力、转速、抛光液流量及pH值等工艺参数对材料去除速率(MRR)和表面粗糙度的影响规律,并对实验结果进行了...
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: 集成光学理论与技术罗伯特高清书签集成光学理论与技术（第六版）》是集成光学方面的一本经典著作，全书共22章，重点论述了集成光学用光波导、耦合器、调制器、激光器、探测器等光电子器件的工作原理及制作工艺，介绍了聚合物和光纤集成光学、量子阱...
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: 可见远红外多波段光学薄膜的研究与制备但是直到19世纪末，人们都没有找到实际解决制造各种薄膜的工艺方法和膜系计算分析手段，因此在20世纪以前是薄膜光学的早期发展阶段1930年油扩散泵的出现使得工业制造各种薄膜成为可能，接着在试验室制造出单层反射...
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: 溅射工艺参数对AgInSbTe相变薄膜光学性质的影响通过改变本底气压、溅射气压及溅射功率,研究了工艺参数对薄膜光学性质的影响。实验表明,本底气压、溅射气压及溅射功率综合决定了AgInSbTe薄膜的光学性质。对AgInSbTe薄膜的制备,选择较高的本底真空度、适当的溅射...
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: 光刻胶在二元光学元件制作工艺中的行为研究在二元光学衍射微透镜的制作工艺中, 光刻胶的行为和特性对衬底的最终图形有着极为重要的作用。光刻和刻蚀两道工序都要求实际图形与掩模版的图形达到很高的一致性, 这样才能实现元件被高保真地制作到衬底上。在整个...
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: 显微镜的光学设计工艺问题 (1985年) 显微镜的光学设计工艺问题 (1985年)
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: 偏光片的原理及工艺偏光片由美国Polaroid公司的EdwinH.Land在1938年所发明，是将一般不具有偏极性的自然光变成偏振光的光学元件。
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: 透射面光学复制工艺 (1988年) 透射面光学复制工艺 (1988年)
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: 硬件DFM设计工艺规范硬件工艺设计规范：光学点、工艺边、定位孔等
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: 影响方形非球面光学元件加工精度的工艺研究分析了方形非球面光学元件磨削加工中产生四角塌边误差的原因，计算了方形非球面光学元件...以及不同砂轮型号、工艺参数的磨削试验，确定了能够满足方形非球面光学元件加工精度的砂轮轴系安装位置结构及磨削工艺参数。
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: 关于光学样板的精度及其工艺保证 (1982年) 光学样板是光学零件制造过程中用来检脸光学零件面形误差的一种基本量具。本文简述了光学样板的精度等级及误差分布规律,业指出了制造A级标准样板时可采用的某些加工方法。提示了正确给定样板光圈对象质的影响。
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