光刻胶在二元光学元件制作工艺中的行为研究

在二元光学衍射微透镜的制作工艺中, 光刻胶的行为和特性对衬底的最终图形有着极为重 要的作用。光刻和刻蚀两道工序都要求实际图形与掩模版的图形达到很高的一致性, 这样才能实 现元件被高保真地制作到衬底上。在整个工艺过程中, 由于不同光刻胶表现不同的行为特性使得 所制作的器件性能有较大的区别。通过比较不同光刻胶在不同工艺过程中的行为,在二元光学元 件的制作中,通过选用特性不同的光刻胶: 在第一次光刻刻蚀台阶较深时,选择粘度系数较大,高感 光度, 耐刻蚀的厚胶；在套刻中, 刻蚀台阶较浅时, 选用高分辨率、高陡直度、耐高温的薄胶,最终制 作出了性能良好的二元光学元件。