光学元件镀膜前高洁净度清洗工艺研究

研究了光学元件镀膜前超高洁净度要求的超声清洗工艺，在超声波清洗机的频率和功率一定的情况下，通过研究超声清洗剂、清洗温度、清洗时间等对光学元件超声清洗效果的影响，研制出有效清洗光学元件的清洗工艺，并保障超声清洗工艺对光学元件的表面状况无损伤。同时发现光学元件的放置时间会影响元件的清洗效果。超声清洗刚加工好的光学元件洁净效果较好，清洗时间较短；有6个月存放期的光学元件，表面颗粒污染很难洁净清洗。