没有合适的资源?快使用搜索试试~ 我知道了~
资源推荐
资源详情
资源评论
1
第三章 溅射镀膜/ Sputtering
2
引子-What is sputtering?
1、定义:
①所谓溅射是指荷能粒子轰击固体表面
(靶),使固体原子(或分子)从表面射出
的现象。
②用带有几十电子伏特以上动能的粒子束照射
固体表面,使靠近固体表面的原子获得能量
而从表面射出的现象。
3
①荷能粒子为 几十个电子伏特的粒子
--说明入射粒子的能量范围
②入射粒子或粒子束,一般意义上的溅射就
是指离子溅射。
③出射原子靠近表面
2、定义比较
4
镀膜
SIMS分析
刻蚀,清洗
占靶产物的85-90%
3、离子轰击固体表面的效应
5
溅射镀膜的特点(与真空蒸发镀膜相比):
z 任何物质均可以溅射,尤其是高熔点、低蒸气压
元素和化合物。只要是固体,不论是块状、粒状
的物质都可以作为靶材。
z 溅射膜与基板之间的附着性好。
z 溅射镀膜膜密度高,针孔少,且膜层的纯度较
高,因为在溅射镀膜过程中,不存在真空镀膜时
无法避免的坩埚污染现象。
z 膜厚可控性和重复性好。
剩余42页未读,继续阅读
资源评论
- weixin_421511142024-01-25这个资源对我启发很大,受益匪浅,学到了很多,谢谢分享~
DK1071
- 粉丝: 0
- 资源: 16
上传资源 快速赚钱
- 我的内容管理 展开
- 我的资源 快来上传第一个资源
- 我的收益 登录查看自己的收益
- 我的积分 登录查看自己的积分
- 我的C币 登录后查看C币余额
- 我的收藏
- 我的下载
- 下载帮助
安全验证
文档复制为VIP权益,开通VIP直接复制
信息提交成功