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用于数字光刻工具的基于模型的动态位置校正的制作方法.docx
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用于数字光刻工具的基于模型的动态位置校正的制作方法.docx
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I
用于数字光刻工具的基于模型的动态位置校正的制作方法
本藏匿内容的实施例普通涉及光刻系统,且涉及用于校正
光刻系统中的位置误差的办法。
背景技术:
光刻技术广泛用于创造半导体装置和显示设备,例如液晶显示器
。大面积基板通常用于创造 。 或平板通常用于有源矩阵显示器
,例如计算机、触摸面板装置、个人数字助理、手机,电视监视器等。普通
而言,平板可包括形成夹在两个板之间的像素的液晶材料层。当未来自电源的电力施加至液
晶材料上时,可在像素位置处控制通过液晶材料的光的量,以使得能够生成图像。
微光刻技术普通用以产生电学特征,其中此电学特征被
并入作为形成像素的液晶材料层的一部分。按照此技术,光敏光刻胶
典型地被施加至基板的起码一个表面上。然后,图案产生器用法光
II
以曝光作为图案的一部分的光敏光刻胶的选定区域 ,以导致挑选性区域
中的光刻胶的化学变幻,以制备用于后续材料去除和或材
料添加工艺的这些挑选性区域,以产生电气功能。
然而,用于这种微光刻技术的工具可能需要 个小时或更长时光才干彻低地稳定印刷和图
案化行为 ,在此期间,光刻胶的图案可能由于各种影
响例如热变幻而变得不匀称。此工具包括具有不同传导系数和热电容的许多热源和部件,
每一者都可能导致变幻而产生不匀称的图案化,从而对总间距和叠加校正重复性
有负面影响。
!为了继续以消费者所要求的价格向消费者提供显示设备和其他装置,需要新的设备、办法
及系统,以在基板例如大面积基板上精确地且经济地
"产生图案。
技术实现要素:
#本藏匿内容普通涉及光刻系统以及用于校正光刻系统中的位置误差的办法。首次启动光刻
III
系统时,系统进入稳定期。在稳定期期间系统印刷或曝光基板时,收集位置读数和数据,例
如温度、压力和湿度数据。基于所收集的数据和位置读数来产生模型。在后续稳定期中此模
型则用以估量误差,并在后续稳定期中估量的误差被动态校正。
$在一个实施例中,一种办法包括:启动光刻系统并进入稳定期;在稳定期期间光刻系统印
刷时收集数据和位置读数;基于数据和位置读数产生模型;以及在后续稳定期用法此模型动
态地校正估量的误差。
在另一实施例中,一种办法包括:启动光刻系统并进入稳定期,并在稳定期期间光刻系统
印刷时收集温度数据和位置读数。在加热期和冷却期期间收集温度数据。此模型还包括基于
温度数据和位置读数来产生模型;校准模型;在后续稳定期用法经校准的模型来
估量误差;以及在后续稳定期中动态地校正估量的误差。
%在又一实施例中,一种办法包括:启动光刻系统并进入稳定期;在稳定期期间光刻系统印
刷时收集温度数据和位置读数;基于温度数据和位置读数产生模型;形成用于确定光刻系统
的热电容和传递系数的优化问题;在后续稳定期用法此模型和此优化问题来估量误差;以及
在后续稳定期期间动态地校正估量的误差。
附图解释
IV
&为了可具体地理解本藏匿内容的上述特征,可通过其中的一些绘示于附图中的参考实施
例,本藏匿内容的一些特定描述提出以简短总结上文。然而,应注重的是,附图仅示出示例
性实施例,因此不应被认为是对其庇护范围的限制,并可允许其他等效实施例。
图 为按照一个实施例的光刻系统的透视图。
图 为按照另一实施例的光刻系统的透视图。
图 为按照本文藏匿的实施例的图像投影设备的透视暗示图。
图 示出按照本文藏匿的实施例的建模和校准系统行为以估量在稳定期期间所发生的位置
干扰的办法。
!图 至图 ' 示出按照本文藏匿的实施例的数据测量的示例图。
#图 ! 示出按照本文光刻的实施例的第一桥接件部件( 和其次桥
接件部件 的对准配置,其中第一桥接件部件和其次桥接件部
件各自具有设置在其上的多个眼。
$图 # 至图 # 示出按照本文藏匿的实施例的在 && 平台速度下的
数据测量和位置读数的示例图。
图 $ 至图 $ 示出按照本文揭露的实施例的在 && 平台速度下的数据测量和位置
V
读数的示例图。
%为了便于理解,在可能的状况下,用法相同的附图标志来表示附图中相同的元件。可以预
期的是,一个实施例的元件和特征,可以不需要进一步引述而被有益地并入其他的实施例之
中。
详细实施例
&本藏匿内容普通涉及一种光刻系统以及一种用于校正光刻系统中的位置误差的办法。首次
启动光刻系统时,系统系进入稳定期。在此稳定期期间,在系统印刷或曝光基板时收集位置
读数和数据例如温度、压力和湿度数据。基于所收集的数据和位置读数来产生模型。然
后,用法此模型来估量后续稳定期中的误差,并在后续稳定期期间动态地校正估量的误差
。
图 为按照本文藏匿的实施例的光刻系统 && 的透视图。光刻系统 && 包括底框
&、板 &、平台 & 和处理设备 #&。底框 & 可置于创造设施的地板上并支撑板
&。被动空气隔离器 位于底框 & 和板 & 之间。在一个实施例中,板 & 为整块
的花岗岩,且平台 & 设置在板 & 上。基板 & 由平台 & 所支撑。多个孔未绘示形
成于平台 & 中,用以让多个升降杆未绘示于其延长穿过。在一些实施例中,升降杆可例
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