二、光致抗蚀干膜:
光致抗蚀干膜是六十年代后期研制与开发出来的光成
像原材料。由主体树脂和光引发剂或光交联剂组成。又
根据感光材料的种类的不同,有的增加触变剂、流平剂、
填料等。此种材料的最大特点是分辨率高、抗蚀能力强、
涂布均匀、感光层的厚度可制作成 25μm 、分辨率达到
极限值为 0.10mm 。工序操作简单易实现自动化生产,
适合大批量印制电路板生产。但随着组装密度要求越来
越高,印制电路图形的导细更细和间距更窄。采用此类
光致抗蚀干膜,要制造出 0.10-0.076mm 导线宽度就显
得更加困难。而且制作出更薄的光致抗蚀干膜,从加工
手段分析是不太可能。所以,基干膜本身厚度与涂覆尺
寸的收缩限制再提高是很困难的
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