采用微波等离子体化学汽相淀积法,以C60膜为过渡层,在光滑的单晶Si衬底(100)表面和研磨的石英衬底表面等光学衬底上,首次在无衬底负偏压条件下生长出多晶金刚石薄膜,通过扫描电镜观察到生长膜晶粒呈莱花状,生长表面为金刚石(100)晶面。
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