与放大模式下的情况不同,发现以缩小和光刻方式使用的超透镜遇到成像质量的极大下降,特别是对于高分辨率图像特征。 这个问题主要是由于光的横向磁极化特征引起的,该特征在成像区域降低了电子元件强度分布的对比度。 具有等离子反射层的超透镜设计用于亚波长缩小成像和光刻。 分析方程和数值模拟表明,在圆柱状几何结构中,由超透镜和等离子反射器夹在中间的光刻胶中的反射reflected逝波放大了。 包括分辨率,对比度和强度的图像质量功能可以得到显着改善。 还介绍了几何参数对成像质量的依赖性和影响。 在365 nm的照射波长下,以约15 nm的半节距分辨率成像进行了数值演示。