具有亚波长间隔的近场双点光刻

我们从理论上报告了通过将光学各向异性超材料（OAM）和聚合物复合膜附着到固体浸没透镜（SIL）上的近场双点亚波长光刻方法。 由嵌入在电介质基质中的金属纳米线组成的DAM可以在可见光范围内实现TM波的全角度负折射。 当用线性偏振光束照射具有纳米级OAM-聚合物复合膜的SIL近场光刻系统时，物镜焦点区域中电场的纵向分量在很大程度上受到表面等离子体激元的影响，而横向分量被抑制。 因此，在传统的具有裸露的SIL的近场光刻系统中，一个光斑被分成两个具有亚波长间隔的光斑。 如果将本发明的具有OAM-聚合物膜的聚焦系统用于近场光刻，则可以实现亚波长间隔（波长/ 5）和深光刻图案，并且与传统的单点光刻相比，光刻速度可以提高。加倍。