AFM分析磁控溅射法制备的TiO2纳米薄膜 (2005年)

采用磁控反应溅射法,在室温条件下制备了TiO纳米薄膜,用原子力扫描显微镜(AFM)分析考察了溅射功率、溅射时真空室压力等工艺参数对薄膜结晶状态、晶粒尺寸的影响。实验结果表明,在室温下,只有溅射功率大于100W以上时,才能形成粒子结晶完全的纳米薄膜,随着溅射功率的增加,真空室溅射气压的降低,薄膜中TiO粒子尺寸显著增大;随着溅射时间的延长,薄膜厚度增加。并根据溅射薄膜的成膜机理,讨论了实验工艺参数对薄膜微结构的影响。