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High Temperature Chemical Vapor Deposition of Alumina Using Alum...
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2021-06-29
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High Temperature Chemical Vapor Deposition of Alumina Using Aluminum Tri-isopropoxide and Oxygen Mixture High Temperature Chemical Vapor Deposition of Alumina Using Aluminum Tri-isopropoxide and Oxygen Mixture S. Blittersdorf, N. Bahlawane, B. Atakan, K. Kohse-Höinghaus* Institut für Physikalische Chemie I, Universität Bielefeld; Universitätsstraße 25, D-33615 Bielefeld Keywords: CVD; Alumina; Aluminum tri-isopropoxide Stainless steel is one of the most common industrial materials for high t
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