基于电感耦合等离子体刻蚀的单模脊SU-8波导的制作

在本文中，已经进行了系统的研究，以使用电感耦合等离子体蚀刻负性光刻胶SU-8 2005。 研究了波导的刻蚀速率，垂直轮廓，表面和侧壁粗糙度与腔室压力，偏置功率，天线功率，Ar与O-2的流量比以及刻蚀时间之间的关系。 详细研究了蚀刻参数并对其进行了优化，以最大程度地减小蚀刻区域的表面粗糙度。 SU-8 2005的Ridge MZI波导是在优化的蚀刻条件下制造的，从而产生平滑且几乎垂直的图案。 波导显示出在1550 nm波长的单模传播和小于1.565 dB / cm的低传播损耗，这与通过湿蚀刻技术制造的波导相似。