光热退火的光量子效应对富硅氮化硅薄膜特性的影响

光热退火的光量子效应对富硅氮化硅薄膜特性的影响，陈小波，杨培志，采用双极脉冲和射频磁控共溅射沉积法，在单晶硅衬底和石英衬底上制备富硅SiNx薄膜.为了比较，在氮气氛围中，于950-1100℃温度下分别�