磁控溅射氮化铝薄膜取向生长工艺研究 (2009年)

氮化铝薄膜取向性直接影响到薄膜的压电特性和声波速度,是薄膜体声波谐振器/滤波器工艺过程中最重要的环节之一。对 AlN薄膜材料的反应磁控溅射沉积工艺进行了研究,通过对 AlN薄膜的取向性分析及其与工艺条件的比较,优化了取向性 AlN薄膜的生长工艺条件,制备出了高取向和高致密的 AlN薄膜。