具有计量延迟的双EWMA控制器的稳定性和控制性能分析

本文主要着重于在过程受到一般性干扰时建立具有计量延迟的双指数加权移动平均（d-EWMA）控制器的稳定性条件，并分析其在某些典型过程性干扰下的控制性能。 Routh-Hurwitz标准确定了稳定的必要和充分条件。 研究表明，如果过程增益不匹配大于4/3，则计量延迟将使d-EWMA控制器中两个加权因子的可行区域减小，而计量延迟越大，可行区域越小。 此外，在给定两个加权因子的情况下，发现计量延迟将削弱d-EWMA控制器的鲁棒性。 基于渐近均方误差（AMSE）评估计量延迟对渐近控制性能的影响。 可以基于AMSE的解析表达式来求解最佳加权因子和AMSE，该解析表达式是通过使用Yule-Walker方程来避免函数求和限制运算而得出的。 通过数值模拟，它表明计量延迟可能会增加某些条件下过程输出的可变性。 最后，在半导体制造中使用化学机械抛光（CMP）Craft.io来说明理论结果的有效性。