获得光蚀刻掩模的方法

描述获得刻线间具有指定周期和间隔的光蚀刻掩模的方法。分析了确定曝光时间、显影时间和显影液的浓度的条件，而这些条件是实现任意间隔宽度掩模所必须的。所提出的方法，对于研制任意材料作基底的间隔宽度等于刻线宽度的掩模，在原理上是适用的。指出该方法对获得指定刻线形状掩模的适用范围。在玻璃基底上用ФП-ΡΗ-7型光蚀刻剂薄膜进行了所有的实验。在利用所描述的方法时，对于两种厚度的薄膜，获得周期为0.4、0.6和0.74微米的两种不同类型的光蚀刻掩模。计算所得的掩模的参量误差不超过20%。